一种显示装置、彩膜基板及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示装置、彩膜基板及其制作方法，包括：提供基板，所述基板上具有色阻层；在所述色阻层的表面形成平坦化层；采用掩膜板遮挡所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层；其中，所述掩膜板与所述第一平坦化区对应的区域为不透光区，所述掩膜板与第二平坦化区对应的区域为透光区。基于此，当量子点膜层边缘区域透过的光线偏蓝时，具有第一颜色的第二平坦化区可以调整偏蓝光线的颜色，例如，当第一颜色为黄色时，蓝光透过黄色的平坦化层后会成为白光，从而可以解决液晶显示装置边缘区域的显示图像偏蓝的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示设备
，更具体地说，涉及一种显示装置、彩膜基板及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，量子点技术逐渐应用到显示装置中。由于量子点技术能够显著提高液晶显示装置的色彩饱和度，因此，应用量子点技术的液晶显示装置受到了人们的广泛关注。现有技术公开了一种应用量子点技术的液晶显示装置，该液晶显示装置包括彩膜基板、阵列基板、位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层以及位于阵列基板背面的背光模组。其中，背光模组包括背光源、导光板和量子点膜层等，该量子点膜层包括受激后产生红光的量子点和受激后产生绿光的量子点。在该液晶显示装置工作的过程中，背光源出射的蓝光激发量子点膜层中的量子点产生红光和绿光，这些红光和绿光与背光源出射的蓝光混合生成图像显示所需的白光。现有技术中在制作上述液晶显示装置时，需将量子点膜层进行切割后再应用到液晶显示装置中。但是，切割后的量子点膜层边缘的量子点会被损坏，靠近边缘处的量子点也易被氧化，这样就会导致量子点膜层边缘区域产生的绿光和红光减少、透过的蓝光增多，从而导致液晶显示装置边缘区域的显示图像偏蓝，进而影响图像显示质量。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种显示装置、彩膜基板及其制作方法，以解决现有技术中液晶显示装置边缘区域的显示图像偏蓝的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种彩膜基板的制作方法，包括：提供基板，所述基板上具有色阻层；在所述色阻层的表面形成平坦化层；采用掩膜板遮挡所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层；其中，所述掩膜板与所述第一平坦化区对应的区域为不透光区，所述掩膜板与第二平坦化区对应的区域为透光区。一种彩膜基板，包括色阻层和位于所述色阻层表面的平坦化层；所述平坦化层包括第一平坦化区和围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区；所述第一平坦化区为透明区域，所述第二平坦化区为具有第一颜色的区域，以使所述第一平坦化区和所述第二平坦化区透射的光线都为白光。一种显示装置，包括背光模组和彩膜基板；所述背光模组包括光源和量子点膜层；所述彩膜基板为如上任一项所述的彩膜基板，并且，所述平坦化层位于所述色阻层朝向所述背光模组的一侧。与现有技术相比，本专利技术所提供的技术方案具有以下优点：本专利技术所提供的显示装置、彩膜基板及其制作方法，在色阻层的表面形成平坦化层之后，采用掩膜板遮挡平坦化层，并对平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层，基于此，当量子点膜层边缘区域透过的光线偏蓝时，具有第一颜色的第二平坦化区可以调整偏蓝光线的颜色，例如，当第一颜色为黄色时，蓝光透过黄色的平坦化层后会成为白光，从而可以解决液晶显示装置边缘区域的显示图像偏蓝的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图；图2a至图2d为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作过程的剖面结构示意图；图2e为图2d所示的平坦化层的平面结构示意图；图3a为本专利技术实施例提供的另一种掩膜板和平坦化层的剖面结构示意图；图3b为图3a所示的平坦化层的平面结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种平坦化层的平面结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种平坦化层的平面结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的液晶显示装置的剖面结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术平坦化的范围。本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，参考图1，图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图，该制作方法包括：S101：提供基底，所述基底上具有色阻层；S102：在所述色阻层的表面形成平坦化层；S103：采用掩膜板遮挡所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层；其中，所述掩膜板与所述第一平坦化区对应的区域为不透光区，所述掩膜板与第二平坦化区对应的区域为透光区。基于此，当包括该彩膜基板的显示装置的背光模组中的量子点膜层边缘区域透过的光线偏蓝时，具有第一颜色的第二平坦化区可以调整偏蓝光线的颜色，例如，当第一颜色为黄色时，蓝光透过黄色的平坦化层后会成为白光，从而可以解决液晶显示装置边缘区域的显示图像偏蓝的问题。下面结合剖面结构示意图对彩膜基板的制作流程进行说明，参考图2a至图2d，图2a至图2d为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作过程的剖面结构示意图。参考图2a，提供基底10，基底10为透明基底，可选为透明玻璃基底。该基底10的表面具有色阻层11，该色阻层11包括黑矩阵110和多个色阻111，这些色阻111包括至少三种颜色的色阻，例如，包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，当然，本专利技术并不仅限于此，在其他实施例中，这些色阻111还可以包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻和白色色阻。之后，参考图2b，在色阻层11的表面形成平坦化层12。该平坦化层12可以采用沉积工艺形成在色阻层11的表面。之后，参考图2c，采用掩膜板2遮挡平坦化层12，并对平坦化层12进行光照，形成第一平坦化区120为透明区域、围绕第一平坦化区120的第二平坦化区121为具有第一颜色区域的平坦化层。光照完成并去除掩膜板2后，参考图2d和图2e，图2e为图2d所示的平坦化层12的平面结构示意图，该平坦化层12的第一平坦化区120为透明区域、围绕第一平坦化区120的第二平坦化区121为具有第一颜色的区域。可选的，第一平坦化区120为方形区域，第二平坦化区121为环形区域。可选的，第一颜色为黄色或橙色。参考图2c，掩膜板2与第一平坦化区120对应的区域为不透光区21，掩膜板2与第二平坦化区121对应的区域为透光区20。可选的，本实施例中的平坦化层12的材料为光阻材料。由于光阻材料中的不饱和树脂中含有苯环基，该苯环基在紫外光照射下会转变成有色基团醌，该醌多为黄色或橙色，因此，本实施例中采用掩膜板2遮挡平坦化层12后，采用紫外光照射掩膜板2。由于掩膜板2与第一平坦化区120对应的区域不透光，掩膜板2与第二平坦化区121对应的区域透光，因此，紫外光透过掩膜板2的透光区20照射到平坦化层12的第二平坦化区121，使得第二平坦化区121具有第一颜色，该第一颜色为黄色或橙色。由于平坦化层12的第一平坦化区120不被光照射，因此，第一平坦化区120的颜色不变，仍为透明区域。当然，本专利技术并不仅限于此，在其他实施例中，平坦化层12的材料还可以为其他在光照下可变色的材料，其光照也不仅限于紫外光。本实施例中，可根据包括该彩膜基板的显示装置的显示区尺寸设置掩膜板2的透光区20的尺寸和不透光区21的尺寸。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板上具有色阻层；在所述色阻层的表面形成平坦化层；采用掩膜板遮挡所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层；其中，所述掩膜板与所述第一平坦化区对应的区域为不透光区，所述掩膜板与第二平坦化区对应的区域为透光区。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板上具有色阻层；在所述色阻层的表面形成平坦化层；采用掩膜板遮挡所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，形成第一平坦化区为透明区域、围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区为具有第一颜色区域的平坦化层；其中，所述掩膜板与所述第一平坦化区对应的区域为不透光区，所述掩膜板与第二平坦化区对应的区域为透光区。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，采用掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，包括：采用所述透光区的各个区域的透光率均相等的掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，以使所述第二平坦化区的各个区域的色度值相等。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，采用掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，包括：采用所述透光区的透光率沿所述不透光区至所述透光区的方向上依次增大的掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，以使所述第二平坦化区的色度值沿所述第一平坦化区至所述第二平坦化区的方向上依次增大。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，采用所述透光区的透光率沿所述不透光区至所述透光区的方向上依次增大的掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，包括：采用第二透光区的透光率大于第一透光区的透光率的掩膜板覆盖所述平坦化层，并对所述平坦化层进行光照，以使所述第二平坦化区的第二子平坦化区的色度值大于第一子平坦化区的色度值；其中，所述第一透光区为所述透光区中围绕所述不透光区的区域，所述第二透光区为所述透光区中围绕所述第一透光区的区域；所述第一子平坦化区为所述第二平坦化区中围绕所述第一平坦化区的区域，所述第二子平坦化区为所述第二平坦化区中围绕所述第一子平坦化区的区域。5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，透过所述第一透光区的光照强度为500mj/cm2-1000mj/cm2；透过所述第二透光区的光照强度为2000mj/cm2-4000mj/cm2。6.一种彩膜基板，其特征在于，包括色阻层和位于所述色阻层表面的平坦化层；所述平坦化层包括第一平坦化区和围绕所述第一平坦化区的第二平坦化区；所述第一平坦化区为透明区域，所述第二平坦化区为具有第一颜色的区域，以使所述第一平坦化区和所述第二平坦化区透射的光线都为白光。7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二平坦化区的各个区域的色度值相等。8.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔锐利，张振铖，林丽敏，邱英彰，李静，
申请(专利权)人：厦门天马微电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35