蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法技术

本发明专利技术提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。具备：掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。
技术介绍
在通过蒸镀物质对基板等蒸镀对象进行蒸镀时，有时使用金属掩模。该蒸镀用金属掩模具备接触面和非接触面。接触面是与蒸镀对象进行接触的面。非接触面是与接触面相反侧的面。从非接触面贯通到接触面的掩模孔具备非接触侧开口和接触侧开口。非接触侧开口是位于非接触面而供蒸镀物质进入的开口。接触侧开口位于接触面而与蒸镀对象对置。从非接触侧开口进入并通过接触侧开口的蒸镀物质向蒸镀对象进行堆积。由此，形成依据于接触侧开口的位置、形状的图案(例如，参照日本特开2015-055007号公报)。为了提高图案上的位置等的精度，蒸镀用金属掩模的掩模孔的通路截面积，从非接触侧开口朝向接触侧开口单调地减少。近年，为了提高图案的膜厚的均匀性等的精度，还希望使非接触侧开口与接触侧开口之间的距离、即蒸镀用金属掩模的厚度变薄。另一方面，在厚度较薄的蒸镀用金属掩模中，不能够得到足够的蒸镀用金属掩模的机械耐受性，因此蒸镀用金属掩模的操作性显著低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供能够将通过蒸镀形成的图案的位置或膜厚等构造上的精度的提高、以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。用于解决上述课题的蒸镀用金属掩模，具备掩模部，该掩模部具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小。并且，该蒸镀用金属掩模还具备掩模框架，该掩模框架具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与上述掩模框架接合。用于解决上述课题的蒸镀用金属掩模的制造方法为，包括：形成掩模部的工序，该掩模部具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；和将上述掩模部与掩模框架接合的工序，该掩模框架具有比上述掩模部高的刚性，且形成为将上述多个掩模孔包围的框状，而且，上述掩模部在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，该掩模部与掩模框架接合的工序中，上述掩模部在该部分通过接合部与上述掩模框架接合。根据上述各构成，从第二开口向掩模孔内进入的蒸镀物质，通过具有比第二开口小的大小的第一开口向蒸镀对象进行堆积。因此，能够提高由蒸镀物质构成的图案的构造上的精度。并且，第二开口所位于的非接触面与具有比掩模部高的刚性的掩模框架接合。因此，容易使接触面与蒸镀对象接触，并且能够提高蒸镀用金属掩模本身的刚性，进而能够提高蒸镀用金属掩模的操作性。在上述蒸镀用金属掩模中，也可以是，具备与共用的一个上述掩模框架接合的多个上述掩模部。在上述蒸镀用金属掩模的制造方法中，也可以是，将上述掩模框架与上述非接触面接合的工序为，将多个上述掩模部与一个上述掩模框架接合。根据上述各构成，能够将一个掩模框架所需要的掩模孔的数量，分割给多个掩模部。并且，与一个掩模部具备一个掩模框架所需要的全部掩模孔的构成相比，上述蒸镀用金属掩模在以下方面更优良。即，即使在一个掩模部的一部分产生变形的情况下，也能够将与变形的掩模部进行更换的新掩模部的大小抑制为多个掩模部中的一个。进而，还能够抑制蒸镀用金属掩模的修补所需要的各种材料的消耗量。在上述蒸镀用金属掩模中，也可以是，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为45.2％以上，上述金属片的厚度为50μm以下。在上述蒸镀用金属掩模的制造方法中，也可以是，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为45.2％以上，上述金属片的厚度为50μm以下。掩模部所具有的厚度越薄，与上述掩模框架接合的效果越显著。根据上述各构成，对于具有50μm以下的厚度的较薄的掩模部，能够得到上述效果。在上述蒸镀用金属掩模中，也可以是，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为53.0％以上，上述金属片的厚度为40μm以下。在上述蒸镀用金属掩模的制造方法中，也可以是，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为53.0％以上，上述金属片的厚度为40μm以下。根据上述各构成，对于具有40μm以下的厚度的较薄的掩模部，能够得到上述效果。在上述蒸镀用金属掩模中，也可以是，上述掩模框架具备上述接合部所位于的平面，上述平面具有朝向上述掩模部的外侧延展的大小。根据上述蒸镀用金属掩模，与非接触面接合的平面朝向掩模部的外侧延展。即，掩模框架具备具有片形状的掩模部的非接触面虚拟地扩展的面构造。因此，在掩模框架的平面扩展的范围中，与掩模部的厚度相当的空间容易地形成在掩模部的周围。作为结果，能够抑制与接触面接触的蒸镀对象与掩模框架物理地干涉。附图说明图1是表示一个实施方式的掩模装置的平面构造的平面图。图2是局部地表示掩模部所具有的截面构造的一个例子的截面图。图3是局部地表示掩模部所具有的截面构造的其他例子的截面图。图4是局部地表示掩模部的边缘与掩模框架之间的接合构造的一个例子的截面图。图5是局部地表示掩模部的边缘与掩模框架之间的接合构造的其他例子的截面图。图6是表示蒸镀用金属掩模所具有的掩模孔的数量与各掩模部所具备的掩模孔的数量之间的关系的一个例子的图，(a)是表示蒸镀用金属掩模的平面构造的平面图，(b)是表示蒸镀用金属掩模的截面构造的截面图。图7是表示蒸镀用金属掩模所具有的掩模孔的数量与掩模部所具备的掩模孔的数量之间的关系的其他例子的图，(a)是表示蒸镀用金属掩模的平面构造的平面图，(b)是表示蒸镀用金属掩模的截面构造的截面图。图8是对于蒸镀用金属掩模基材的一个例子表示截面构造的截面图。图9是对于蒸镀用金属掩模基材的其他例子表示截面构造的截面图。图10是表示各制造方法、蒸镀用金属掩模基材的片对象面的表面粗糙度、以及蒸镀用金属掩模基材的片对象面的反射率之间的关系的图。图11是表示各蒸镀用金属掩模基材的片对象面的反射率的图表。图12是对一个实施方式的蒸镀用金属掩模的制造方法的一个例子进行说明的图，(a)至(h)分别是表示工序的流程的工序图。图13是对一个实施方式的蒸镀用金属掩模的制造方法的其他例子进行说明的图，(a)至(e)分别是表示工序的流程的工序图。图14是对一个实施方式的蒸镀用金属掩模的制造方法的其他例子进行说明的图，(a)至(f)分别是表示工序的流程的工序图。符号的说明F…应力，S…蒸镀对象，V…空间，EPS…电极表面，H1…背面开口，H2…表面开口，PR…抗蚀剂层，RM…抗蚀掩模，SH…阶梯高度，T1、T32…厚度，TM…中间转印基材，10…掩模装置，20…主框架，21…主框架孔，30…蒸镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀用金属掩模，其中，具备：掩模部，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状，上述掩模部在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在上述部分通过接合部与上述掩模框架接合。

【技术特征摘要】
2015.07.17 JP 2015-143509;2015.08.31 JP 2015-171441.一种蒸镀用金属掩模，其中，具备：掩模部，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状，上述掩模部在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在上述部分通过接合部与上述掩模框架接合。2.如权利要求1所述的蒸镀用金属掩模，其中，具有与共用的一个上述掩模框架接合的多个上述掩模部。3.如权利要求1或2所述的蒸镀用金属掩模，其中，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为45.2％以上，上述金属片的厚度为50μm以下。4.如权利要求1或2所述的蒸镀用金属掩模，其中，上述掩模部为金属片，上述接触面以及上述非接触面中的至少一方包括平滑面，上述平滑面设为向该平滑面入射的光的镜面反射的反射率为53.0％以上，上述金属片的厚度为40μm以下。5.如权利要求3所述的蒸镀用金属掩模，其中，上述掩模框架具备上述接合部所位...

【专利技术属性】
技术研发人员：田村纯香，新纳干大，藤户大生，西辻清明，西刚广，三上菜穗子，仓田真嗣，武田宪太，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP