一种真空炉加热系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种真空炉加热系统，包括炉体，所述炉体内部设有石墨箱；加热管A、加热管B、加热管C、加热管D、加热管E和加热管F均匀分布在石墨箱外侧；其中加热管A、加热管D和加热管E组成一个加热模组并与热电偶A连接，加热管B、加热管C和加热管F组成另一个加热模组并与热电偶B连接，每个加热模组用一个变压器与一个PID控制加热的温度和时间，变压器和PID与触摸屏连接。本实用新型专利技术结构简单，设计合理，结构紧凑，热能利用率高；采用石墨棒加热，可以满足较高的温度需要，加热元件均匀分布，形成稳定的温度空间，分区控制加热，减小温度差异。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空炉
，具体是一种真空炉加热系统。
技术介绍
真空炉，即在炉腔这一特定空间内利用真空系统将炉腔内部分物质排出，使炉腔内压强小于一个标准大气压，炉腔内空间从而实现真空状态，这就是真空炉。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)Pa。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。最高温度可达3000℃左右。主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等目前真空炉的内部加热系统采用传统的加热元件，加热分布不合理，温度偏差较大，影响产品成型。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空炉加热系统，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空炉加热系统，包括炉体，所述炉体内部设有石墨箱，石墨箱左侧上方设有加热管A、左侧设有加热管D、左侧下方设有加热管E；石墨箱右侧上方设有加热管B、右侧设有加热管C、右侧下方设有加热管F；加热管A、加热管B、加热管C、加热管D、加热管E和加热管F均匀分布在石墨箱外侧；其中加热管A、加热管D和加热管E组成一个加热模组并与热电偶A连接，加热管B、加热管C和加热管F组成另一个加热模组并与热电偶B连接，每个加热模组用一个变压器与一个PID控制加热的温度和时间，变压器和PID与触摸屏连接。作为本技术进一步的方案：所述炉体内侧设有保温层。作为本技术再进一步的方案：所述加热管A、加热管B、加热管C、加热管D、加热管E和加热管F均为石墨棒。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术结构简单，设计合理，结构紧凑，热能利用率高；采用石墨棒加热，可以满足较高的温度需要，加热元件均匀分布，形成稳定的温度空间，分区控制加热，减小温度差异。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为本技术的侧视图。图中：1-加热管A，2-加热管B，3-加热管C，4-加热管D，5-加热管E，6-加热管F，7-石墨箱，8-热电偶A，9-热电偶B，10-炉体。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1～2，一种真空炉加热系统，包括炉体10，所述炉体10内部设有石墨箱7，石墨箱7左侧上方设有加热管A1、左侧设有加热管D4、左侧下方设有加热管E5；石墨箱7右侧上方设有加热管B2、右侧设有加热管C3、右侧下方设有加热管F6；加热管A1、加热管B2、加热管C3、加热管D4、加热管E5和加热管F6均匀分布在石墨箱7外侧，加热元件均匀分布，形成稳定的温度空间；其中加热管A1、加热管D4和加热管E5组成一个加热模组并与热电偶A8连接，加热管B2、加热管C3和加热管F6组成另一个加热模组并与热电偶B9连接，每个加热模组用一个变压器与一个PID控制加热的温度和时间，变压器和PID与触摸屏连接；加热管均匀分布在石墨箱7的周围，能提供均匀的受热区域。进一步的，本技术所述炉体10内侧设有保温层，紧凑结构，减少保温空间，具有良好的保温效果节省能源。进一步的，本技术所述加热管A1、加热管B2、加热管C3、加热管D4、加热管E5和加热管F6均为石墨棒，耐热及热量利用率高。由于热电偶检测的温度是石墨箱7外部的温度，与石墨箱7内部的温度有一定的差异，采用标准的测温元件，校正温度的差异，设定合适的系数，使触摸屏显示值与石墨箱7内部的温度一直；另外考虑到热电偶的老化，需要定期校正石墨箱7内外温度的误差。工作开始时，首先通过触摸屏设置要加热到的温度与加热到此温度需要的时间，PID就通过设定发出指令，调整变压器的输出功率，以便在设定的时间内达到要求的温度；由于是分组加热，上区与下区的温度有一定的差异，其中一组温度到达后，会停止加热，另一组继续工作，直到温度到达设定的值与设定的时间，进入下道工序，直到完成所有的工序为止。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空炉加热系统，包括炉体（10），其特征在于：所述炉体（10）内部设有石墨箱（7），石墨箱（7）左侧上方设有加热管A（1）、左侧设有加热管D（4）、左侧下方设有加热管E（5）；石墨箱（7）右侧上方设有加热管B（2）、右侧设有加热管C（3）、右侧下方设有加热管F（6）；加热管A（1）、加热管B（2）、加热管C（3）、加热管D（4）、加热管E（5）和加热管F（6）均匀分布在石墨箱（7）外侧；其中加热管A（1）、加热管D（4）和加热管E（5）组成一个加热模组并与热电偶A（8）连接，加热管B（2）、加热管C（3）和加热管F（6）组成另一个加热模组并与热电偶B（9）连接，每个加热模组用一个变压器与一个PID控制加热的温度和时间，变压器和PID与触摸屏连接。

【技术特征摘要】
1.一种真空炉加热系统，包括炉体（10），其特征在于：所述炉体（10）内部设有石墨箱（7），石墨箱（7）左侧上方设有加热管A（1）、左侧设有加热管D（4）、左侧下方设有加热管E（5）；石墨箱（7）右侧上方设有加热管B（2）、右侧设有加热管C（3）、右侧下方设有加热管F（6）；加热管A（1）、加热管B（2）、加热管C（3）、加热管D（4）、加热管E（5）和加热管F（6）均匀分布在石墨箱（7）外侧；其中加热管A（1）、加热管D（4）和加热管E（5）组成一...

【专利技术属性】
技术研发人员：李光俊，
申请(专利权)人：深圳市美格真空炉有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44