本实用新型专利技术是一种推拉式密闭罩的对位装置,包括有复数个支撑架,所述支撑架上设置有对位装置,且所述对位装置设置于复数个支撑架的外表面上,以对支撑架进行定位支撑,使支撑架在打开及收拢的过程中能够有序地收拢,避免偏移、扭曲带来的损伤。该对位装置能够使推拉式密闭罩进行准确对位收拢,提高推拉式密闭罩的可靠性和使用寿命,减少对支撑架和覆盖膜的损坏。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及环保设备,准确地说是用于将污水池所产生废气进行处理的密封装置。
技术介绍
随着人们生活水平的不断提高,民众对于自己的生存环境日益重视,然而反作用的是,随着工业化水平的提高,一些企业的污染也随之日益恶化,特别是污染严重的诸如医药化工、造纸业与市政污水处理厂等单位,随着市区面积的扩大而距离市区越来越近。而且当前很多污水厂周边建有不少居民楼,集中处理污水的厂池原来都是裸露在外,一旦有风刮过,臭气就会随风飘散到居民楼内,随着人们对健康环境的要求与呼声愈来愈高,上述的问题不仅影响到人们的正常工作和生活,也会带来不必要的社会问题。目前,污水处理厂及垃圾填埋场的恶臭气体污染一直是有关人员最头痛的问题,治理办法是有,通常会通过大型的沉降池等进行处理,可是大型池体(如沉淀池、污泥氧化沟、浓缩池、消化池)的气体收集是最难最大的问题,还具有跨度大、容易腐蚀,寿命短,耐久度差的缺陷。特别是一些沉淀池,不仅尺寸大(通常直径达到40~60m),普通加盖形式很难实现,或者实现后结构笨重,原有池体难于承受而无法实施(因为一些污水池设计建造时并未考虑这些荷载),而且由于有些污水池有行走式污水处理设备及检测设备,操作人员需要经常性进行检查和操作,如果采用普通方法加盖密封,操作人员需要进入密封盖体内操作由于有毒废臭气的影响将十分危险,并且行走式污水处理设备及检测设备在密封盖体内由于受腐蚀性废臭气的侵蚀,非常容易出现故障,使用寿命大大缩短。专利申请201020664201.9号公布了名称为“污水池密封除臭盖”的一种污水池密封除臭盖,其包含密封罩、支撑框架。支撑框架含有连接件,连接密封罩;支撑框架连接着刮泥机,支撑框架连有除臭部件,支撑框架的周边还可连有绕污水池周边行走的行走轮,整个装置的转动是由驱动电机驱动的。除臭部件是指采用生物法、离子法或者吸附法除臭的零部件,或者还有除臭原料,不包含外来水源。除臭部件的动力和驱动电机的动力均由电源线提供。此种结构的问题在于该密封盖适合于圆形的污水池,对于方形的污水池不能进行处理,同时,改密封除臭盖结构相对固定,密封罩难以拆卸,维护颇为不便,既影响密封罩的正常寿命,也增加了维护成本。于是人们开始设计能够自由滑动的推拉式污水池密闭罩,然而这些设计存在一个缺陷,就是支撑架虽然设置了滑轮,便于进行滑动,但是支撑架缺乏有力的支撑和约束,滑轮在滑行过程中经常会跑偏,这势必会影响到对污水池的密封和密闭罩的使用。
技术实现思路
基于此,本技术的首要目的是提供一种推拉式密闭罩的对位装置,该对位装置能够使推拉式密闭罩进行准确对位收拢,提高推拉式密闭罩的可靠性和使用寿命,减少对支撑架和覆盖膜的损坏。本技术的再一个目的是提供一种推拉式密闭罩的对位装置,该对位装置的结构简单紧凑,易于实现,便于制造及安装。为了达到上述目的,本技术是这样实现的。一种推拉式密闭罩的对位装置,包括有复数个支撑架,其特征在于所述支撑架上设置有对位装置,且所述对位装置设置于复数个支撑架的外表面上,以对支撑架进行定位支撑,使支撑架在打开及收拢的过程中能够有序地收拢,避免偏移、扭曲带来的损伤。进一步,所述对位装置设置于间隔的支撑架上,相邻的支撑架的对位装置交错设置,以有足够的空间进行对位避免相邻支撑架之间的影响。所述支撑架上,设置有复数个对位装置,以使支撑架均匀受力。进一步,所述对位装置,为突出于所述支撑架并向支撑架一侧伸出的两个凸块,突出于支撑架便于对位装置的互相衔接对位。更进一步,所述对位装置为梯形的中空结构,对位装置的前端为梯形的顶部,具有封闭的对位头,对位装置的后端则具有中空的槽,所述槽便于与相邻的对位装置进行衔接,使支撑架收拢后能够形成稳定的结构。进一步,所述对位装置的下部固定有定位板,对位装置通过定位板固定于所述支撑架上,以便于对位装置的安装。本技术通过上述的结构设置,使得覆盖膜和支撑架能够沿着一定的方向打开和收拢,便于人们对密闭罩内的设备进行维护和修理,便于日常的维护和保养;同时,也增加了密闭罩的稳定性和使用寿命,同时,这样的结构也使密闭罩在使用过程中不易受损,提高了活动密闭罩的使用寿命。而且,本技术结构简单紧凑,便于制造及安装,特别适合于方形的污水池进行污水处理。附图说明图1为本技术所实施的结构示意图。图2为本技术所实施一种对位装置的主视图。图3为本技术所实施一种对位装置的侧视图。具体实施方式下面,结合附图所示,对本技术的具体实施做详细说明。图1、图2所示,为本技术所实施的一种推拉式密闭罩的对位装置,图中所示,活动密闭罩通常是由支撑架2和覆盖膜1构成,支撑架2竖向设置将覆盖膜1进行支撑,若要收拢或打开覆盖膜1,横向推拉支撑架2即可实现。因此,为了保证支撑架2的横向顺利打开及收拢,在支撑架3上设置有对位装置3,且对位装置3具有复数个,均匀设置在支撑架2的外表面上,以对支撑架2进行定位支撑,使支撑架2在打开及收拢的过程中能够有序地收拢,避免偏移、扭曲带来的损伤。通常情况下,由于对位装置3是突出于支撑架2设置的,为了保留足够的空间,所述对位装置3设置于间隔的支撑架2上,相邻的支撑架2是的对位装置3交错设置,也就是说,相邻的支撑架2上所设置的对位装置3是交错的,间隔一个支撑架的对位装置3的位置则是对应设置的,以有足够的空间进行对位避免相邻支撑架之间的影响。结合图2、图3所示,对位装置3为突出于所述支撑架并向支撑架一侧伸出的凸块,而且对位装置3为梯形的中空结构,对位装置的前端为梯形的顶部,具有封闭的对位头31,对位装置的后端则具有中空的槽32,该槽32便于与相邻的对位装置进行衔接,使支撑架收拢后能够形成稳定的结构。同时,对位装置3的下部固定有定位板4,定位板4通过螺栓5固定于支撑架2上,以便于对位装置的安装。总之,本技术通过上述的结构设置,使得覆盖膜和支撑架能够沿着一定的方向打开和收拢,便于人们对密闭罩内的设备进行维护和修理,便于日常的维护和保养;同时,也增加了密闭罩的稳定性和使用寿命,同时,这样的结构也使密闭罩在使用过程中不易受损,提高了活动密闭罩的使用寿命。总之,以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种推拉式密闭罩的对位装置,包括有复数个支撑架,其特征在于所述支撑架上设置有对位装置,且所述对位装置设置于复数个支撑架的外表面上。
【技术特征摘要】
1.一种推拉式密闭罩的对位装置,包括有复数个支撑架,其特征在于所述支撑架上设置有对位装置,且所述对位装置设置于复数个支撑架的外表面上。2.如权利要求1所述的推拉式密闭罩的对位装置,其特征在于所述对位装置设置于间隔的支撑架上,相邻的支撑架的对位装置交错设置。3.如权利要求1所述的推拉式密闭罩的对位装置,其特征在于所述支撑架上,设置有复数个对位装置。4.如权利要求1所述的推拉式密闭罩...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨燕,廖颖生,
申请(专利权)人:深圳维拓环境科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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