本发明专利技术公开了一种固体材料表面透明纹理涂层工艺,包括:在透明基材表面固定遮蔽治具,所述遮蔽治具完全覆盖透明基材,形成遮蔽区和镂空区;将固定遮蔽治具的透明基材置于真空镀膜设备内抽真空;充入工作气体,使用离子源对其表面进行离子清洗;通过蒸发或溅射的镀膜方式将相对高折射率材料与相对低折射率材料相互交替堆叠或者将相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料相互交替堆叠在遮蔽治具表面,得到半产品A;破真空取出,去除遮蔽治具后,检验合格后即为成品B。可以在具有视窗或显示区域的产品表面直接使用,处理的透明基材表面纹理透光度可调,纹理效果几乎不影响基材的透光显示效果,熄屏状态时纹理效果会清晰可见。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空薄膜加工领域,具体地涉及一种固体材料表面透明纹理涂层工艺。
技术介绍
可携式电子装置已经广泛地为现代人所使用,例如智慧型手机、平板电脑、笔记型电脑等;而依据每个人对于装置外观的喜好不同,厂商往往需要针对可携式电子装置的外观加以设计,来吸引消费者购买。举例来说,在厂商制造可携式电子装置的过程中,能够藉由装置面板或后盖板的外观颜色或纹理图案的改变或组合,提供多样化的选择,并且能丰富使用者的视觉感受。当前现有技术主要是使用一些传统的方式将需要呈现的纹理图案或字体,例如通过印刷、打印、雕刻等方式在固体材料表面直接处理,形成预期的纹理效果。但做出的纹理效果会严重影响材料的透光效果。导致此工艺无法直接在具有视窗或显示区域的产品表面直接使用。例如,中国专利文献CN204695276公开了一种具有纹理外观的透明结构,贴附于物件。具有纹理外观的透明结构包括透明基材及光学成像UV胶层。透明基材包括表面;光学成像UV胶层被涂覆于表面,且光学成像UV胶层经由成像制程形成纹理图样。其中透明基材藉由光学成像UV胶层贴附于物件,使得物件呈现具有纹理图样的外观。为了避免干扰使用者观看萤幕画面,具有纹理外观的透明结构在触控萤幕模组的位置即对应光学成像UV胶层的非成像区,而在触控萤幕模组外的其他边框位置则对应光学成像UV胶层的成像区。从正面观看具有纹理外观的透明结构时,透过透明基材即会看见即设为光学成像UV胶层的非成像区呈现相同的纹理图样,而在触控萤幕模组或按键等位置则无纹理图样的呈现。因此,此结构无法直接在具有视窗或显示区域的产品表面直接使用。
技术实现思路
针对上述存在的技术问题,本专利技术目的是:提供一种固体材料表面透明纹理涂层工艺,可以在具有视窗或显示区域的产品表面直接使用,处理的透明基材表面纹理透光度可调,当纹理可见光平均透光度做到90%以上时,纹理效果几乎不影响基材的透光显示效果,因此在亮屏状态时纹理涂层不影响显示效果,熄屏状态时,纹理涂层的透光度相对显示屏的透光高,涂层表面的反射率也会比显示屏的反射率更低。因此,在同一表面光线反射强度的对比下纹理效果会清晰可见。本专利技术的技术方案是:一种固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,包括以下步骤:S01:在透明基材表面固定遮蔽治具,所述遮蔽治具完全覆盖透明基材,形成遮蔽区和镂空区;S02:将固定遮蔽治具的透明基材置于真空镀膜设备内抽真空;S03:当真空镀膜设备真空度达到设定条件时,充入工作气体,使用离子源对其表面进行离子清洗;S04:通过蒸发或溅射的镀膜方式将相对高折射率材料与相对低折射率材料相互交替堆叠或者将相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料相互交替堆叠在遮蔽治具表面,得到半产品A;S06:破真空取出,去除遮蔽治具后,检验合格后即为成品B。优选的,所述遮蔽治具为丝网印刷可剥胶、金属或塑胶治具通过贴合或固定依附在透明基材表面。优选的,所述步骤S04还包括通过调整相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料的堆叠厚度改变镀膜层的反射率,使镀膜层的可见光平均反射率小于或大于透明基材的反射率,或者使镀膜层在可见光的某一波段范围的反射率小于或大于透明基材的反射率。优选的,所述离子清洗的时间在30秒以上。优选的,所述相对高折射率材料为折射率n≥1.51的材料包括下述中的任一种:TiO2、Ti3O5、ZrO2、Nb2O5、Al2O3、SiO;所述相对低折射率材料为折射率≤1.5的材料包括下述中的任一种:SiO2、MgF2、Na3AlF6;所述金属材料包括下述中的任一种:Al、Ag、Au、Cr、Ni、CrNi、Sn、In、SnIn、Ti。本专利技术还公开了一种具有纹理外观的透明结构,其特征在于,包括:一透明基材,以及一镀膜层,涂覆于透明基材表面,所述镀膜层具有图样外观;所述镀膜层包括互相交替堆叠的相对高折射率材料层和相对低折射率材料层,或者互相交替堆叠的相对高折射率材料层、相对低折射率材料层以及金属材料层。优选的,所述镀膜层的图样外观设置在视窗区或显示区。优选的,所述镀膜层的可见光平均反射率小于或大于透明基材的反射率,或者使镀膜层在可见光的某一波段范围的反射率小于或大于透明基材的反射率。优选的,所述相对高折射率材料为折射率n≥1.51的材料包括下述中的任一种:TiO2、Ti3O5、ZrO2、Nb2O5、Al2O3、SiO;所述相对低折射率材料为折射率≤1.5的材料包括下述中的任一种:SiO2、MgF2、Na3AlF6;所述金属材料包括下述中的任一种:Al、Ag、Au、Cr、Ni、CrNi、Sn、In、SnIn、Ti。本专利技术是基于现有的固体材料表面光学减反射增透膜和高反射膜技术,通过光线在不同波段所呈现的颜色不同所设计的涂层工艺,当涂层的厚度达到可见光某一波长的四分之一光学厚度时,涂层所呈现的颜色就是该波长的光线颜色。通过涂层工艺优化,调整涂层可见光的平均反射率,使涂层平均反射率小于或大于基材的反射率,使纹理清晰可见。与现有技术相比,本专利技术的优点是:1、本专利技术的图层工艺可以直接在视窗或显示区表面镀膜,使其呈现图样或文字。使用本专利技术处理的透明基材表面纹理透光度可调,光线穿透率从0%~99.99%均可,当纹理可见光平均透光度做到90%以上时,纹理效果可以几乎完全不影响基材的透光显示效果。既可以达到外观美化的效果,又不影响显示效果。、本专利技术可以广泛应用于透明材料表面的图案纹理处理如数码电子产品,汽车挡风玻璃,建筑幕墙玻璃以及其它特殊材料处理行业等。附图说明下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步描述:图1为本专利技术实施例一种具有纹理外观的透明结构;图2为本专利技术实施例另一种具有纹理外观的透明结构;图3为本专利技术固体材料表面透明纹理涂层工艺的流程图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了,下面结合具体实施方式并参照附图,对本专利技术进一步详细说明。应该理解,这些描述只是示例性的,而并非要限制本专利技术的范围。此外,在以下说明中,省略了对公知结构和技术的描述,以避免不必要地混淆本专利技术的概念。如图1所示,具有纹理外观的透明结构能贴附于物件上,此物件可以是数码电子产品显示屏、汽车挡风玻璃、建筑幕墙玻璃等等透明基材上,例如玻璃、蓝宝石、PET、PC、PMMA等。本专利技术的具有纹理外观的透明结构包括:透明基材10和镀膜层20,镀膜层20通过镀膜工艺涂覆于透明基材10表面,该镀膜层20具有图样外观。该镀膜层的图样外观可以直接设置在视窗区或显示区。图样外观可以文字、图案、花纹等等。镀膜层20可以由相对高折射率材料层21和相对低折射率材料层22互相交替堆叠构成,也可以是由相对高折射率材料层21、相对低折射率材料层22以及金属材料层23互相交替堆叠构成,如图2所示。当然图1和图2仅仅给出了2和3层的交互堆叠,也可以4、5、6层等多层间进行交互堆叠。这样,镀膜层的厚度也随之改变。通过调整相对高折射率材料层21、相对低折射率材料层22以及金属材料层23堆叠厚度可以改变镀膜层的反射率,从而改变镀膜层的透光率。常见透明材料的可见光平均透光度为89%~92%。当此结构作用于家电或电子产品显示屏外表面时,只要将镀膜层的可见光平均透光度,处理到小于或大于透明材料自身透光度,或者使镀膜层在可见光的某一波段范本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,包括以下步骤:S01:在透明基材表面固定遮蔽治具,所述遮蔽治具完全覆盖透明基材,形成遮蔽区和镂空区;S02:将固定遮蔽治具的透明基材置于真空镀膜设备内抽真空;S03:当真空镀膜设备真空度达到设定条件时,充入工作气体,使用离子源对其表面进行离子清洗;S04:通过蒸发或溅射的镀膜方式将相对高折射率材料与相对低折射率材料相互交替堆叠或者将相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料相互交替堆叠在遮蔽治具表面,得到半产品A;S06:破真空取出,去除遮蔽治具后,检验合格后即为成品B。
【技术特征摘要】
1.一种固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,包括以下步骤:S01:在透明基材表面固定遮蔽治具,所述遮蔽治具完全覆盖透明基材,形成遮蔽区和镂空区;S02:将固定遮蔽治具的透明基材置于真空镀膜设备内抽真空;S03:当真空镀膜设备真空度达到设定条件时,充入工作气体,使用离子源对其表面进行离子清洗;S04:通过蒸发或溅射的镀膜方式将相对高折射率材料与相对低折射率材料相互交替堆叠或者将相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料相互交替堆叠在遮蔽治具表面,得到半产品A;S06:破真空取出,去除遮蔽治具后,检验合格后即为成品B。2.根据权利要求1所述的固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,所述遮蔽治具为丝网印刷可剥胶、金属或塑胶治具通过贴合或固定依附在透明基材表面。3.根据权利要求1所述的固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,所述步骤S04还包括通过调整相对高折射率材料、相对低折射率材料以及金属材料的堆叠厚度改变镀膜层的反射率,使镀膜层的可见光平均反射率小于或大于透明基材的反射率,或者使镀膜层在可见光的某一波段范围的反射率小于或大于透明基材的反射率。4.根据权利要求1所述的固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,所述离子清洗的时间在30秒以上。5.根据权利要求1所述的固体材料表面透明纹理涂层工艺,其特征在于,所述相对高折射率材料为折射率n≥1.51的材料包括下述中的任一种:T...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈浩,曾德洪,
申请(专利权)人:陈浩,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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