一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法技术

本发明专利技术实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法，属于显示技术领域，能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，遮光板载台连接第一定位装置，并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动，机架上还设置有透明对位件，透明对位件上设置有对位标，透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间，第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射、制造成本相对较低等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。薄膜晶体管液晶显示器主要包括阵列基板(可称为TFT基板，TFT全称为ThinFilmTransistor)和彩膜基板(可称为CF基板，CF全称为ColorFilter)，其中，阵列基板上主要用于形成驱动的阵列器件，彩膜基板上主要用于形成彩色膜层，阵列基板和彩膜基板在制作完成后进行对合，在阵列基板和彩膜基板相互对合的边缘涂布封框胶，并将封框胶固化，即对合成盒工艺。封框胶通常选用光敏胶，通过紫外光(UltraViolet，简称UV光)照射进行固化，为了在紫外光照射固化时避免紫外光照射在显示区域影响阵列基板上阵列器件的性能，需要在显示器上覆盖一层玻璃基板，在玻璃基板上加工有与显示区域位置对应的遮光图案，以实现在紫外光照射时对显示器的显示区域的保护作用，这种加工有遮光图案的玻璃基板即为紫外光遮光玻璃板(UVGlass)，以下简称遮光板。制作用于遮挡显示器显示区域的遮光板，需要通过具有特定图案的UV掩膜版(UVMask)在曝光机内曝光制作。由于遮光板的尺寸以及遮光板上形成的遮光图案需要分别与显示器的尺寸以及显示器的显示区域形状相匹配，所以，针对每一款型号的显示器都需要特定的UV掩膜版在曝光机内制作特定的遮光板，同一型号的UV掩膜版只能够制作某一特定型号的遮光板，待该特定型号的遮光板制作完成后对应的UV掩膜版即废弃，这样一来，使得UV掩膜版的利用率过低，不利于节省显示器的生产成本。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法，能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种曝光机，包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，遮光板载台连接第一定位装置，并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动，机架上还设置有透明对位件，透明对位件上设置有对位标，透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间，第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。优选的，第二定位装置包括驱动方向相互垂直的第一驱动组件和第二驱动组件，以带动透明对位件沿驱动方向移动。进一步的，第一驱动组件包括第一驱动器、与透明对位件固定连接的第一导向件以及与第一导向件相配合的第一导轨，第一驱动器连接第一导向件并驱动第一导向件沿第一导轨的延伸方向移动。第二驱动组件包括第二驱动器、与第一导轨固定连接的第二导向件以及与第二导向件相配合的第二导轨。第二导轨设置在机架上，第二驱动器连接第二导向件并驱动第二导向件沿第二导轨的延伸方向移动。其中，第一导轨的延伸方向垂直于第二导轨的延伸方向。优选的，在第一导向件和/或第二导向件内设置有气流缓冲器，气流缓冲器的气流出口垂直朝向第一导轨和/或第二导轨。优选的，在气流缓冲器的气流出口处设置有气流控制阀。进一步的，在第二定位装置上设置有磁性组件，磁性组件包括设置在第一导轨和/或第二导轨内的吸磁部件以及在第一导向件和/或第二导向件上对应位置设置的磁性金属，或者，设置在第一导轨和/或第二导轨内的磁性金属以及在第一导向件和/或第二导向件上对应位置设置的吸磁部件。本专利技术实施例的另一方面，提供一种使用上述的曝光机对遮光板曝光的方法，包括，通过第二定位装置移动透明对位件，将透明对位件上的对位标的投影与掩膜版上的对位标记、以及遮光板上的对位标记重叠。其中，掩膜版上的掩膜图案与遮光板上的第一遮光图案相同且对齐，第一遮光图案包括在遮光板上通过成膜工艺形成的膜层以及涂覆在膜层上的光刻胶层。循环执行至少一次以下步骤：通过第二定位装置移动透明对位件，使透明对位件上的对位标移动至预定位置，通过第一定位装置移动遮光板载台，使遮光板上的对位标记与位于预定位置的透明对位件上的对位标的投影重叠。透过掩膜版和透明对位件对遮光板进行曝光。进一步的，第二定位装置包括驱动方向相互垂直的第一驱动组件和第二驱动组件，且第一驱动组件包括第一驱动器、第一导向件以及与第一导向件相配合的第一导轨，第二驱动组件包括第二驱动器、第二导向件以及与第二导向件相配合的第二导轨，通过第二定位装置移动透明对位件包括：第一驱动器驱动第一导向件沿第一导轨的延伸方向移动；和/或，第二驱动器驱动第二导向件沿第二导轨的延伸方向移动，以使透明对位件上的对位标移动至预定位置。进一步的，第一导向件和/或第二导向件内设置有气流缓冲器以及气流控制阀，通过第二定位装置移动透明对位件还包括，在第一驱动器驱动第一导向件移动时，开启气流控制阀使气流缓冲器向第一导轨内吹气，和/或，在第二驱动器驱动第二导向件移动时，开启气流控制阀使气流缓冲器向第二导轨内吹气。本专利技术实施例的再一方面，提供一种对上述曝光机中的透明对位件进行移位控制方法，包括，获取遮光板上第一遮光图案的初始尺寸和待修改成的目标尺寸。确定要将遮光图案的初始尺寸修改成目标尺寸，透明对位件每次需移动的方向和距离。将包含每次需移动的方向和距离的信息发送给第二定位装置，以便第二定位装置驱动透明对位件移动至本次需移动至的预定位置。本专利技术实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法，包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，遮光板载台连接第一定位装置，并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动，机架上还设置有透明对位件，透明对位件上设置有对位标，透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间，第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。在遮光板上已形成的与掩膜版上掩膜图案相同的遮光图案上，通过第二定位装置移动透明对位件至预定位置，然后移动遮光板载台使遮光板上的对位标记与移动至预定位置的透明对位件上的对位标投影重叠，对遮光板进行曝光。根据待形成的遮光图案尺寸设定不同的预定位置，能够制得多种具有不同型号遮光图案的遮光板。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种曝光机的结构示意图；图2为曝光机中第二定位装置的结构示意图；图3为图2中沿A-A方向的剖视图一；图4为图2中沿A-A方向的剖视图二；图5为本专利技术实施例提供的一种曝光方法的流程图；图6为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成新的遮光图案的步骤图一；图7为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成新的遮光图案的步骤图二；图8为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成新的遮光图案的步骤图三；图9为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成新的遮光图案的步骤图四；图10为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成的另一种新的遮光图案；图11为使用本专利技术的曝光方法在遮光板上形成的再一种新的遮光图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机，包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，所述遮光板载台连接所述第一定位装置，并可在所述第一定位装置的带动下在水平面上移动，其特征在于，所述机架上还设置有透明对位件，所述透明对位件上设置有对位标，所述透明对位件通过第二定位装置设置于所述遮光板载台和所述掩膜版载台之间，所述第二定位装置可带动所述透明对位件在水平面上移动。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，所述遮光板载台连接所述第一定位装置，并可在所述第一定位装置的带动下在水平面上移动，其特征在于，所述机架上还设置有透明对位件，所述透明对位件上设置有对位标，所述透明对位件通过第二定位装置设置于所述遮光板载台和所述掩膜版载台之间，所述第二定位装置可带动所述透明对位件在水平面上移动。2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第二定位装置包括驱动方向相互垂直的第一驱动组件和第二驱动组件，以带动所述透明对位件沿所述驱动方向移动。3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述第一驱动组件包括第一驱动器、与所述透明对位件固定连接的第一导向件以及与所述第一导向件相配合的第一导轨，所述第一驱动器连接所述第一导向件并驱动所述第一导向件沿所述第一导轨的延伸方向移动；所述第二驱动组件包括第二驱动器、与所述第一导轨固定连接的第二导向件以及与所述第二导向件相配合的第二导轨，所述第二导轨设置在所述机架上，所述第二驱动器连接所述第二导向件并驱动所述第二导向件沿所述第二导轨的延伸方向移动；其中，所述第一导轨的延伸方向垂直于所述第二导轨的延伸方向。4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，在所述第一导向件和/或所述第二导向件内设置有气流缓冲器，所述气流缓冲器的气流出口垂直朝向所述第一导轨和/或所述第二导轨。5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，在所述气流缓冲器的气流出口处设置有气流控制阀。6.根据权利要求3-5任一项所述的曝光机，其特征在于，在所述第二定位装置上设置有磁性组件，所述磁性组件包括设置在所述第一导轨和/或所述第二导轨内的吸磁部件以及在所述第一导向件和/或所述第二导向件上对应位置设置的磁性金属，或者，设置在所述第一导轨和/或所述第二导轨内的磁性金属以及在所述第一导向件和/或所述第二导向件上对应位置设置的吸磁部件。7.一种使用如权利要求1-6任一项所述的曝光机对遮光板曝光的方法，其特征在于，包括，通过第二定位装置移动透明对位件，将所述透...

【专利技术属性】
技术研发人员：史高飞，张俊，周如，杨丽娟，刘承娜，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34