适用于200‑250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道制造技术
【技术实现步骤摘要】
本技术属于回旋加速器设计技术，具体涉及一种适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道。
技术介绍
200-250MeV超导质子回旋加速器在质子治疗、航天军工和核物理基础研究等领域有广泛的应用。大部分质子回旋加速器均采用静电偏转板进行引出，在经过偏转板后，束流不可避免地要经过长距离的边缘场区域，由于引出区的边缘场很大，会引起束流发散，从而造成束流损失。为了抑制边缘场对束流的散焦作用，往往采用无源磁通道元件对束流进行聚焦。在大部分能量较低的质子回旋加速器中，引出路径较短，往往把磁通道做成一个整体。而在200-250MeV的超导质子回旋加速器中，束流引出路径较长，兼顾整个引出路径的磁通道整体设计会对加速区主磁场产生重大影响，对主磁场的垫补带来很大的困扰。
技术实现思路
本技术的目的是针对200-250MeV超导质子回旋加速器中引出轨迹上的束流发散问题，提供一种超小型的磁通道设计，完成引出过程中的束流聚焦。本技术的技术方案如下：一种适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，由三块沿束流方向设置的铁块组成，其中一块铁块朝向束流的表面积较大，另外两块铁块朝向束流的表面积较小，表面积较大的铁块位于束流的内侧，另外两块表面积较小的铁块位于束流的外侧，所述的两块表面积较小的铁块呈上、下对称布置，束流从三块铁块形成的中间空隙通过。进一步，如上所述的适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，其中，所述的三块铁块朝向束流的一面均呈矩形结构。进一步，如上所述的适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的...
【技术保护点】
一种适用于200‑250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，其特征在于：该磁通道由三块沿束流方向设置的铁块组成，其中一块铁块(12)朝向束流(11)的表面积较大，另外两块铁块(13)朝向束流(11)的表面积较小，表面积较大的铁块(12)位于束流(11)的内侧，另外两块表面积较小的铁块(13)位于束流(11)的外侧，所述的两块表面积较小的铁块(13)呈上、下对称布置，束流(11)从三块铁块形成的中间空隙通过。
【技术特征摘要】
1.一种适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，其特征在于：该磁通道由三块沿束流方向设置的铁块组成，其中一块铁块(12)朝向束流(11)的表面积较大，另外两块铁块(13)朝向束流(11)的表面积较小，表面积较大的铁块(12)位于束流(11)的内侧，另外两块表面积较小的铁块(13)位于束流(11)的外侧，所述的两块表面积较小的铁块(13)呈上、下对称布置，束流(11)从三块铁块形成的中间空隙通过。2.如权利要求1所述的适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，其特征在于：所述的三块铁块朝向束流的一面均呈矩形结构。3.如权利要求1或2所述的适用于200-250MeV超导质子回旋加速器束流引出的超小型磁通道，其特征在于：磁通道的孔径为5-7mm。4.如权利要求2所述的适用于200-...
【专利技术属性】
技术研发人员：李明，崔涛，王川，张天爵，杨建俊，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11
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