抗眩光匀光光源及具该光源的影像撷取装置制造方法及图纸

一种抗眩光匀光光源，是装设于影像撷取装置上，其中该影像撷取装置还包括本体及光学镜头，抗眩光匀光光源包括：一个可拆卸地组设至影像撷取装置的环绕遮挡壁，环绕遮挡壁具有一个结合缘、一个相反于结合缘的作用缘、及贯穿结合缘和作用缘间的采光通道；一个设置于采光通道中形成有一个透光孔的遮光匀光元件；及复数个发光元件均具有一个主要发光角度及全发光角度，发光元件是设置于采光通道中，且主要发光角度是被遮光匀光元件所阻挡而无法直接入射入光口；以及发光元件中至少部分的全发光角度是直接照射至待测平面。

【技术实现步骤摘要】

一种用于检测领域、且能避免光照亮度不均的抗眩光匀光光源。
技术介绍
显微镜是观察研究微小物体必备的工具，利用光学透镜将人眼所不能清晰分辨的微小物体放大成像，提供人们清楚观察及分析的影像资讯。常见的光学显微镜通常包括有基座、载物台、光源组件、物镜、目镜以及调整物镜与目镜距离的调焦组件。操作时，会先将承载待观测样本的玻片放置于载物台上，并操控调焦组件，使样本能够清晰成像，藉以达到观察研究的目的。除一般的光学显微镜外，荧光显微技术目前不仅可用于工业检测、伪钞辨识以及刑事鉴定等实质应用，近年来更延伸至生物研究中的细胞分析与追踪，使得荧光显微影像撷取的重要性逐渐提升，常用的荧光显微镜，主要是将一个高频的激发光照射在具有荧光特性的待观测物上，例如以荧光染料涂布在金属材料表面后再刮除，若有肉眼不可见的细微裂痕让荧光染料残留，荧光染料就会发出较低频的荧光，加上适当的滤镜便可轻易观察记录；在生物科学领域，许多研究是针对基因转殖，为便于观察，植入的基因常会连结荧光蛋白作为标记，藉由待观测物的荧光反应有无，确认基因植入的表现成败，并且可以对转殖成功的生物进一步深入研究。当然，对于较大尺寸的待观测物，如钞票的防伪线，或者刑案现场疑似血迹的位置，则可以利用照相机或摄影机而不是显微镜作为影像撷取装置。但在本专利技术中，为便于说明解释，将前述照相机、摄影机、一般光学显微镜、和荧光显微镜，一律称为影像撷取装置。在前述领域中，已经发现当待观测物是残留于镜面或光滑金属表面等易反光物体上之指纹或血迹、精液等，一旦直接将照明光或激发光投射至目标区域，反射光直接返回影像撷取装置的入光口，将导致强烈的眩光，影像资料的讯号杂讯比随之大幅降低，待观测物影像因此不易观察和记录。因此运用暗场照明，理论上可以减少光线直接照射待观测物所产生的眩光。然而，暗场照明方式中，光源中的直射光仅有少部分直射光有直接照射到待观测物，使得待观测物的均匀度及亮度皆不够理想，照明效率仍有改善空间，何况若是要观察荧光影像时，为激发出足够可供观察和记录的荧光影像，一般需要固定量的激发光束照射在待观测物上才可产生足够的荧光影像资讯，但若采用过往的结构配置,仅会有少部分激发光源的光束会直接照射到待观测物上，造成能够被激发出的荧光受到局限,因此使得荧光影像观察和纪录的难度提升。加以，光源相对于待观测物的不同位置投射角度不一，照度又会随距离平方反比下降，而使待观测物影像明显地亮度不均。即使目前已经有人提出，可以采用光源出光再经一次或多次反射的光进行照明和作为激发光，但矛盾在于：如果要让匀光效果好，反射面就不可以是光滑平坦的反射材料，这也使得反射过程中，光能被大幅衰减，要是再经多次反射，光强度将衰减更迅速；相反地，如果反射面太过平坦光滑，光强度虽然增加，但是匀光效果不足，仍然会在待观测物表面产生眩光的亮点。尤其，此种结构将难以避免光源所发出的光束直接入射进影像撷取装置，变成观测或记录影像时干扰更强的直接眩光，因此并没有真正解决现有技术的困难。为此，如何一方面提升照明光或激发光的亮度，同时提升光的均匀度，尤其是大幅压抑眩光的发生机率，并藉由遮光匀光元件完全阻止光源所发光束直接进入影像撷取装置的入光口，藉以大幅提升所撷取影像资料的讯号杂讯(S/N)比，使撷取光学影像有较高的成功率和可靠度；进一步，可以藉由扩大遮光匀光元件的透光孔的孔径，提供影像撷取装置良好的视角，保持影像撷取装置的视野，即为本专利技术所要达到的目标。
技术实现思路
本专利技术之一目的在于提供一种抗眩光匀光光源，搭配一影像撷取装置使用，藉由遮光匀光元件，完全阻止光源所发光束直接进入影像撷取装置入光口，以避免直接眩光而提升讯号杂讯(S/N)比，使获取光学影像的成功率和可靠度增加。本专利技术另一目的在于提供一种抗眩光匀光光源，让主发光角度内的光束是经由反射均匀化后照射待观测物，提升待观测物影像的均匀度。本专利技术再一目的在于提供一种抗眩光匀光光源，搭配作为暗场照明的全发光角度直照光束，在降低眩光条件下，提高影像资讯亮度。本专利技术又一目的在于提供一种影像系统，藉由抗眩光匀光光源，使照射至待观测物的光束均匀，且照度获得提升，使获取光学影像的成功率和可靠度增加。为达上述目的，本专利技术提供一种抗眩光匀光光源，是装设于影像撷取装置上，其中该影像撷取装置还包括本体及光学镜头，抗眩光匀光光源包括：一个可拆卸地组设至影像撷取装置的环绕遮挡壁，环绕遮挡壁具有一个结合缘、一个相反于结合缘的作用缘、及贯穿结合缘和作用缘间的采光通道；一个设置于采光通道中形成有一个透光孔的遮光匀光元件；及复数个发光元件均具有一个主要发光角度及全发光角度，发光元件是设置于采光通道中，且主要发光角度是被遮光匀光元件所阻挡而无法直接入射入光口；以及发光元件中至少部分的全发光角度系直接照射至待测平面。将前述的抗眩光匀光光源与常见的影像撷取装置相互组接后，即成为本专利技术所指一种具有抗眩光匀光光源的影像撷取装置，包括：一个形成有一入光口的本体；一个沿一光轴设置于该本体的光学镜头；及抗眩光匀光光源，包括一个可拆卸地组设至影像撷取装置的环绕遮挡壁，环绕遮挡壁具有一个结合缘、一个相反于结合缘的作用缘、及贯穿结合缘和作用缘间的采光通道；一个设置于采光通道中形成有一个透光孔的遮光匀光元件；及复数个发光元件均具有一个主要发光角度及全发光角度，发光元件是设置于采光通道中，且主要发光角度是被遮光匀光元件所阻挡而无法直接入射入光口；以及发光元件中至少部分的全发光角度是直接照射至待测平面。由此，本专利技术所揭示的一种抗眩光匀光光源，通过遮光匀光元件阻止光源所发光束直接进入影像撷取装置的入光口形成直接眩光；发光元件主发光角度内的光束则是经由反射匀光后，照射至待观测物，使得照射光束均匀；且以发光元件全发光角度内的直接光束搭配，不仅让待观测物的光照均匀，照度提高，也大幅降低各种眩光发生机率，有效提升讯号杂讯(S/N)比，使撷取光学影像的成功率及可靠度同步提高。附图说明图1为本专利技术第一较佳实施例示意图，说明影像撷取装置与抗眩光匀光光源间的结合关系。图2为图1中抗眩光匀光光源的侧面剖视图，表达藉由环绕遮挡壁阻绝外在杂光，且发光元件的光束会经由遮光匀光元件均匀反射后照射待测样品。图3为本专利技术中发光元件的发光角度示意图，藉此理解本专利技术的主要发光角度及全发光角度。图4为图1中抗眩光匀光光源的侧面部分剖视图，显示穿过透光孔的光束会被吸光元件层完整吸收，无法进入影像撷取装置的入光口。图5为本专利技术第二较佳实施例示意图，用于显示本专利技术可转用于荧光细胞检测领域。符号说明1、1’…影像撷取装置2…照相机本体3…光学镜头30…光轴31…可视角度310…投影尺寸4、4’…待测样品40…待测平面5…抗眩光匀光光源51、51’…环绕遮挡壁510…结合缘511…作用缘512、512’…采光通道513…吸光元件层53、53’…发光元件530…主要发光角度531…全发光角度55、55’…遮光匀光元件550…透光孔551…孔径552…底面553…微结构6、6’…入光口具体实施方式有关本专利技术的前述及其他
技术实现思路
、特点与功效，在以下配合说明书附图的较佳实施例的详细说明中，将可清楚呈现本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗眩光匀光光源，装设于一个具有入光口的影像撷取装置上，其中该影像撷取装置还包括一个本体及一个沿一光轴设置于该本体的光学镜头，以便前述影像撷取装置撷取待测样品的影像，该抗眩光匀光光源包括：一个可拆卸地组设至上述影像撷取装置的环绕遮挡壁，该环绕遮挡壁具有一个对应上述入光口的结合缘、一个相反于该结合缘的作用缘、及贯穿上述结合缘和上述作用缘间的采光通道；一个设置于该采光通道中、并介于上述结合缘和上述作用缘之间的遮光匀光元件，该遮光匀光元件形成有一个对应上述光轴的透光孔；及复数个发光元件，每一前述发光元件均具有一个主要发光角度及角度大于该主要发光角度的全发光角度，前述发光元件系分别以一特定角度设置于该采光通道中，该特定角度使每一前述发光元件的主要发光角度至少部分照射于该遮光匀光元件，并供均匀反射而非直接照射至上述待测样品所处之一待测平面，且上述主要发光角度是被上述遮光匀光元件所阻挡而无法直射进入该入光口；以及前述发光元件中至少部分的上述全发光角度是直接照射至上述待测平面。

【技术特征摘要】
1.一种抗眩光匀光光源，装设于一个具有入光口的影像撷取装置上，其中该影像撷取装置还包括一个本体及一个沿一光轴设置于该本体的光学镜头，以便前述影像撷取装置撷取待测样品的影像，该抗眩光匀光光源包括：一个可拆卸地组设至上述影像撷取装置的环绕遮挡壁，该环绕遮挡壁具有一个对应上述入光口的结合缘、一个相反于该结合缘的作用缘、及贯穿上述结合缘和上述作用缘间的采光通道；一个设置于该采光通道中、并介于上述结合缘和上述作用缘之间的遮光匀光元件，该遮光匀光元件形成有一个对应上述光轴的透光孔；及复数个发光元件，每一前述发光元件均具有一个主要发光角度及角度大于该主要发光角度的全发光角度，前述发光元件系分别以一特定角度设置于该采光通道中，该特定角度使每一前述发光元件的主要发光角度至少部分照射于该遮光匀光元件，并供均匀反射而非直接照射至上述待测样品所处之一待测平面，且上述主要发光角度是被上述遮光匀光元件所阻挡而无法直射进入该入光口；以及前述发光元件中至少部分的上述全发光角度是直接照射至上述待测平面。2.如权利要求1所述的抗眩光匀光光源，其中上述特定角度是指上述发光元件朝向该入光口的方向、且与该光轴的垂直面夹角为3～15度。3.如权利要求1或2所述的抗眩光匀光光源，其中该透光孔具有一个孔径以及该光学镜头具有一个可视角度、且该可视角度在上述遮光匀光元件处的投影尺寸系小于该孔径。4.如权利要求1或2所述的抗眩光匀光光源，其中该遮光匀光元件在面向上述发光元件的一底面，更形成有一组微结构。5.如权利要求1或2所述的抗眩光匀光光源，其中上述发光元件为广角发光二极管，且当上述影像撷取装置撷取上述待测样品的影像时，上述所有发光元件的主发光角度中，均无发光直射上述待测样品。6.如权利要求1或2所述的抗眩光匀光光源，其中该环绕遮挡壁在上述结合缘和上述遮光匀光元件之间的内侧壁上，设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨之逸，
申请(专利权)人：承奕科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71