【技术实现步骤摘要】
:本专利技术涉及一种LED晶片清洗烘干装置,属于照明领域。
技术介绍
:LED芯片的制造工艺流程:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。在制作过程中清洗是尤为重要的环节,如若清洗不彻底,将会造成晶片无法使用,造成极大的浪费。
技术实现思路
:本专利技术要解决的技术问题是提供一种可以解决在LED晶片生产过程中晶片表面被污染的问题。为了解决
技术介绍
所存在的问题,本专利技术是采用以下技术方案:一种LED晶片清洗烘干装置,包括操作台、转盘和烘干筒,所述操作台上方设有传送带A,所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷;所述毛刷一端位于操作台上,另一端位于传送带A上方,紧贴传送带A上表面;所述转板一侧通过一铰链与上盖连接;所述转盘内部中央设有一转轴,所述转轴连接数个转叶;所述转盘底部设有多个排液孔;所述转盘通过一转移筒连接烘干筒;所述烘干筒内部设有一传送板B;所述转盘上方和下方均设有喷嘴。进一步的,所述传送带A一端通过传送板A连接转盘。进一步的,所述转盘底部设有一可抽挡板,挡板与转移筒相连接。进一步的,所述毛刷两两一对,排列在传送带A的两侧。进一步的,所述转盘上盖上设有数个进液孔。进一步的,所述上盖一侧设有一圈用于盖紧上盖的卡条。进一步的,所述烘干箱内壁上设有加热丝。将晶片放置在传送带A上,随着传送带A的转动,晶片进入毛刷转动范围内,毛刷对晶片进行刷洗,刷去表 ...
【技术保护点】
一种LED晶片清洗烘干装置,包括操作台、转盘和烘干筒,其特征在于:所述操作台上方设有传送带A,所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷;所述毛刷一端位于操作台上,另一端位于传送带A上方,紧贴传送带A上表面;所述转板一侧通过一铰链与上盖连接;所述转盘内部中央设有一转轴,所述转轴连接数个转叶;所述转盘底部设有多个排液孔;所述转盘通过一转移筒连接烘干筒;所述烘干筒内部设有一传送板B;所述转盘上方和下方均设有喷嘴。
【技术特征摘要】
1.一种LED晶片清洗烘干装置,包括操作台、转盘和烘干筒,其特征在于:所述操作台上方设有传送带A,所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷;所述毛刷一端位于操作台上,另一端位于传送带A上方,紧贴传送带A上表面;所述转板一侧通过一铰链与上盖连接;所述转盘内部中央设有一转轴,所述转轴连接数个转叶;所述转盘底部设有多个排液孔;所述转盘通过一转移筒连接烘干筒;所述烘干筒内部设有一传送板B;所述转盘上方和下方均设有喷嘴。2.根据权利要求1所述的一种LED晶片清洗烘干装置,其特征在于,所述传送带A一端通过传送...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵少芹,
申请(专利权)人:合肥钰芹信息科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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