一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台制造技术

本发明专利技术公开了一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，包括工作平台的本体，本体的上端面上成型有凹台，凹台的中心插接固定有圆形的真空吸附盘，真空吸附盘的上端露出本体凹台的底面并插套有内定位环和外定位环，内定位环和外定位环粘贴固定在凹台的底面上，内定位环和外定位环之间插接固定有密封圈，密封圈的上端面成型有若干弧形的密封唇，密封唇的顶端位于真空吸附盘上表面的上侧。本发明专利技术结构简单，在真空吸附板和工作平台上溶液安置槽之间设立相应的密封结构，避免喷涂溶液进入真空吸附板，避免导致吸附设施发生故障。

【技术实现步骤摘要】

：本专利技术涉及导光板加工设备的
，更具体地说涉及一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台。
技术介绍
：表面封装技术，即SMT，是电子组装行业里最流行的一种技术和工艺。目前，批量化电路印刷都是使用激光切割技术进行SMT印刷模板的加工，故对应的印刷模板称SMT激光模板。专利号为201510779566.3的专利提出了一种用于SMT激光模板的纳米溶液自动喷涂装置，其将SMT激光模板安置于设有真空吸附孔的工作平台，利用摄像头采集SMT激光模板，并输送结构将工作平台输送至指定的喷枪下方，实现自动喷涂，从而代替人工手动喷涂作业；其中其采用的工作平台上溶液安置槽并设有相应排液孔结构，而其真空吸附孔也成型在工作平台的溶液安置槽，则喷涂时其溶液容易进入真空吸附孔内，容易导致吸附设施发生故障。
技术实现思路
：本专利技术的目的就是针对现有技术之不足，而提供了一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，其在真空吸附板和工作平台上溶液安置槽之间设立相应的密封结构，避免喷涂溶液进入真空吸附板，避免导致吸附设施发生故障。为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，包括工作平台的本体，本体的上端面上成型有凹台，凹台的中心插接固定有圆形的真空吸附盘，真空吸附盘的上端露出本体凹台的底面并插套有内定位环和外定位环，内定位环和外定位环粘贴固定在凹台的底面上，内定位环和外定位环之间插接固定有密封圈，密封圈的上端面成型有若干弧形的密封唇，密封唇的顶端位于真空吸附盘上表面的上侧。所述本体凹台相邻的两侧壁上固定有定位机构，定位机构包括固定在本体上的固定板，固定板上螺接有调节螺栓，调节螺栓的末端固定有定位块。所述的真空吸附盘上成型有若干个吸附孔，吸附孔绕真空吸附盘的中心呈环形阵列。所述工作平台的本体的侧壁上成型有凹台向连通的排液孔。所述真空吸附盘的上端面和内定位环或外定位环的上端面相齐平，密封圈粘贴固定在内定位环和外定位环上，密封圈的下端压靠在本体凹台的底面上。所述密封圈上的密封唇至少设有两圈，密封圈上内圈的密封唇顶端低于密封圈外圈的密封唇的顶端。所述的定位机构分布在本体凹台一角的侧壁上，定位机构上的调节螺栓采用梅花头螺栓，同一所述定位机构上调节螺栓和固定板相垂直。本专利技术的有益效果在于：1、它结构简单，在真空吸附板和工作平台上溶液安置槽之间设立相应的密封结构，避免喷涂溶液进入真空吸附板，避免导致吸附设施发生故障。2、它同时在工作平台上设立定位机构，方便其SMT激光模板的定位。附图说明：图1为本专利技术立体的结构示意图；图2为本专利技术俯视的结构示意图；图3为本专利技术剖视的结构示意图。图中：1、本体；11、凹台；12、排液孔；2、真空吸附盘；21、吸附孔；3、内定位环；4、外定位环；5、密封圈；51、密封唇；6、定位机构；61、固定板；62、调节螺栓；63、定位块。具体实施方式：实施例：见图1至3所示，一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，包括工作平台的本体1，本体1的上端面上成型有凹台11，凹台11的中心插接固定有圆形的真空吸附盘2，真空吸附盘2的上端露出本体1凹台11的底面并插套有内定位环3和外定位环4，内定位环3和外定位环4粘贴固定在凹台11的底面上，内定位环3和外定位环4之间插接固定有密封圈5，密封圈5的上端面成型有若干弧形的密封唇51，密封唇51的顶端位于真空吸附盘2上表面的上侧。所述本体1凹台11相邻的两侧壁上固定有定位机构6，定位机构6包括固定在本体1上的固定板61，固定板61上螺接有调节螺栓62，调节螺栓62的末端固定有定位块63。所述的真空吸附盘2上成型有若干个吸附孔21，吸附孔21绕真空吸附盘2的中心呈环形阵列。所述工作平台的本体1的侧壁上成型有凹台11向连通的排液孔12。所述真空吸附盘2的上端面和内定位环3或外定位环4的上端面相齐平，密封圈5粘贴固定在内定位环3和外定位环4上，密封圈5的下端压靠在本体1凹台11的底面上。所述密封圈5上的密封唇51至少设有两圈，密封圈5上内圈的密封唇51顶端低于密封圈5外圈的密封唇51的顶端。所述的定位机构6分布在本体1凹台11一角的侧壁上，定位机构6上的调节螺栓62采用梅花头螺栓，同一所述定位机构6上调节螺栓62和固定板61相垂直。工作原理：本专利技术为SMT激光模板喷涂工作平台优化的结构，其主要为在收纳喷涂容易的安置槽(工作平台本体1上的凹台11)内安设内定位环3和外定位环4，并安设密封圈5，从而将喷涂溶液和真空吸附盘2隔开，同时SMT激光模板吸附时，其密封圈5的密封唇51实现良好的密封效果；而且其在凹台11的一角设立定位机构6，通过调节螺栓62调节，定位块63可以进行设立SMT激光模板侧边的基准，方便SMT激光模板安放。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，包括工作平台的本体(1)，本体(1)的上端面上成型有凹台(11)，其特征在于：凹台(11)的中心插接固定有圆形的真空吸附盘(2)，真空吸附盘(2)的上端露出本体(1)凹台(11)的底面并插套有内定位环(3)和外定位环(4)，内定位环(3)和外定位环(4)粘贴固定在凹台(11)的底面上，内定位环(3)和外定位环(4)之间插接固定有密封圈(5)，密封圈(5)的上端面成型有若干弧形的密封唇(51)，密封唇(51)的顶端位于真空吸附盘(2)上表面的上侧。

【技术特征摘要】
1.一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，包括工作平台的本体(1)，本体(1)的上端面上成型有凹台(11)，其特征在于：凹台(11)的中心插接固定有圆形的真空吸附盘(2)，真空吸附盘(2)的上端露出本体(1)凹台(11)的底面并插套有内定位环(3)和外定位环(4)，内定位环(3)和外定位环(4)粘贴固定在凹台(11)的底面上，内定位环(3)和外定位环(4)之间插接固定有密封圈(5)，密封圈(5)的上端面成型有若干弧形的密封唇(51)，密封唇(51)的顶端位于真空吸附盘(2)上表面的上侧。2.根据权利要求1所述的一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，其特征在于：所述本体(1)凹台(11)相邻的两侧壁上固定有定位机构(6)，定位机构(6)包括固定在本体(1)上的固定板(61)，固定板(61)上螺接有调节螺栓(62)，调节螺栓(62)的末端固定有定位块(63)。3.根据权利要求1所述的一种结构优化的SMT激光模板喷涂工作平台，其特征在于：所述的真空吸附盘(2)上成型有若干个吸附孔(21)，吸附孔(21...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文庆，
申请(专利权)人：东莞市联洲知识产权运营管理有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44