基板的清洁模块与方法技术

本发明专利技术公开一种基板的清洁模块与方法，清洁模块包含清洁单元以及清洗单元。清洁单元表面是由软性多孔隙胶状材质构成；清洗单元耦接于清洁单元，用以对基板进行高压洗剂清洗。其方法包含下列步骤：使清洁单元的表面碰触基板；清洁单元相对于基板转动；以及清洁单元对基板进行高压洗剂清洗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关一种用于基板的清洁模块与方法，具体来说，特别是一种具有多种清洗作动组合的清洁模块与清洁方法。
技术介绍
一般而言，在基板(或面板)的制作过程中会残留许多残留物，例如光阻、涂胶残留、氧化铟锡(IndiumTinOxide,ITO)残留等化学物质。由于基板残留物对于后续的工艺影响甚巨，也进一步造成基板的良率下降，因此目前对于基板的清洁度要求也愈来愈严格。然而，现有的毛刷、刮刀或海绵结构之类的清洁模块，其与基板之间的摩擦力不足，再者，习知的作动清洁方式较为单调，例如利用上下滚轮夹持以清洁基板的方式，对于基板化学残留物的清洁力已显不足。由此可见，就目前的方式而言，已相对无法满足对于基板更佳清洁度的要求。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种应用于基板的清洁模块，清洁模块包含清洁单元以及清洗单元。清洁单元表面由软性多孔隙胶状材质构成；清洗单元耦接于清洁单元，用以对基板进行高压洗剂清洗。其中，清洁单元更包含转向单元，用以使清洁单元相对于基板转动。其中，转向单元可使清洁单元转动方向为顺时针或逆时针。清洁模块更包含变向单元，耦接于清洁单元，用以供清洁单元相对于基板进行多维度作动。其中，变向单元为万向轴承、万向滚珠、万向接头、万向套筒、万向轨、万向滚珠或万向轮至少其中之一。其中，多维度作动包含垂直、水平或旋转的动作。清洁模块更包含下压单元，耦接于变向单元，用以使清洁单元相对于基板做下压量变化。本专利技术更提供一种清洁基板的方法，包含下列步骤：(a)使清洁单元的表面碰触基板；(b)清洁单元相对于基板转动；以及(c)清洁单元对基板进行高压洗剂清洗。前述方法更包含下列步骤：(d)清洁单元相对于基板进行多维度作动；以及(e)清洁单元相对于基板施加介于0.1mm至3mm之间的下压量变化。相较于现有技术，本专利技术“基板的清洁模块与方法”能提供多种清洗作动组合，并可结合不同的清洗方法，改善过去单调的清洗方式，可以更有效地降低基板的残留物。附图说明图1A及图1B为本专利技术的一实施例示意图。图2A为本专利技术清洁单元的另一实施例示意图。图2B及图2C为图2A的清洁单元转动的实施例侧视图。图3A及图3B为本专利技术清洁单元的另一实施例示意图。图4A为本专利技术变向单元的实施例示意图。图4B、图4C、图4D为图4A清洁单元不同维度作动的实施例上视图。图5为本专利技术的另一实施例示意图。图6A、图6B、6C为本专利技术的另一实施例示意图。图7为本专利技术的一实施例流程图。主要组件符号说明1清洁模块2传送装置11清洁单元12转向单元13变向单元14下压单元15连结单元16洗剂111孔隙112清洗单元P基板M机台具体实施方式以下将以附图配合文字叙述公开本专利技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。此外，为简化附图起见，一些公知的结构与元件在附图中将以简单示意的方式绘出。本专利技术的一实施例，如图1A及图1B所示，清洁模块1具有清洁单元11及清洗单元112。清洁单元11较佳可以是圆筒状的滚轮，其表面较佳由软性多孔隙的胶状材质所构成，孔隙111的大小及形状并无特定限制，胶状材质主要指硅胶、橡胶、固态乳胶、泡棉或各种合成树脂等材质，但不以此限制。在其他实施例中，也可以在清洁单元11的表面进行加工处理，使其具有不规则的细微锯齿状构造并形成密集缝隙的结构，并同时在表面上布设研磨颗粒，以此方式来增加清洁单元11对基板P的清洁力。于本实施例中，清洗单元112可以设置于清洁单元11之中，较佳为一种管路，可与清洁单元11支架整合并穿设于清洁单元11之中，其表面具有可喷出洗剂16的孔洞(图未示)，孔洞较佳可对应于清洁单元11表面的孔隙111，便于洗剂16由孔隙111喷洒，但不以此为限。洗剂16可通过清洗单元112输送至清洁单元11，并通过清洁单元11表面的孔隙111朝向基板P的方向喷洒。须说明的是，对基板P表面进行高压喷洒洗剂16的程序，可以同步或非同步地与清洁单元11动作。另外，洗剂16即为一般用于清洗基板的洗剂，例如化学药剂、水等液体，并无特定限制。然而，在其他实施例中，也可以将清洗单元设置于其他地方，例如另设管路连接于机台，且能够对基板P进行高压喷洒洗剂即可。清洁模块1较佳可与机台上的传送装置2经控制器(图未示)驱动，进而连动或同步使用，并可透过电性连接方式控制清洁模块1及传送装置2运转。当传送装置2带动基板P移动时，清洁模块1可以同时对基板P进行清洁。清洁模块1较佳可设置于相对传送装置2的上方，但不以此为限。于其他实施例中，也可以连接设置于类似机械手臂的装置，机械手臂可设置于传送装置附近，并无特定限制。请参阅图2A～图2C，清洁单元11的两端连接设置有转向单元12，例如轴承、转轴或滚珠，而可以使清洁单元11在清洁基板P时具有不同方向的动作，例如顺时针或逆时针方向转动。换言之，清洁单元11可经由转向单元12为轴转动。在此，须说明的是，清洁单元11除了滚轮状的设计外，在其他实施例中，如图3A及图3B所示，也可以将其设计为各种盘状或其他大面积的形式，用以增加清洁面积、适用不同形状的基板并缩短清洁时间。于其他实施例中，清洁模块1较佳可设置有变向单元13与清洁单元11耦接。如图4A所示，变向单元13较佳为一种万向接头，具有不同维度(如箭头所示)的作动方式。通过此设计，可以使清洁单元11对基板P进行多维度作动的清洁方式。请参阅图4B～图4D，图4B～图4D为清洁单元11进行不同维度作动的实施例上视图。变向单元13可以使清洁单元11产生垂直方向、水平方向或旋转等不同维度的清洁动作。须说明的是，变向单元13并非仅限于万向接头的设计，在其他实施例中，也可以使用万向轴承、万向滚珠、万向套筒、万向轨或万向轮等构件，并无特定限制。请参阅图5，通过变向单元13的设置，更可以调整清洁单元11以适应基板P的各种倾斜角度，因此，本专利技术的清洁模块1亦可适用于直立式或倾斜式的基板P运送机台，对于基板P的清洁上来说，具有更高的灵活度且更实用于更多样态的清洁治具。本专利技术的另一实施例，请参阅图6A及图6B。清洁模块1具有清洁单元11、转向单元12、变向单元13、下压单元14、连结单元15以及清洗单元112。清洁模块1较佳可由机台M一侧延伸设置，但不以此为限，清洁单元11可相对位于机台M的上方。清洁模块1较佳可与机台M上的传送装置2经控制器驱动，进而连动或同步使用，并可透过电性连接方式控制清洁模块1及传送装置2运转，当传送装置2带动基板P移动时，清洁模块1可以同时对基板P进行清洁。清洗单元112可设置于清洁单元11之中，但不以此为限；转向单元12耦接于清洁单元11设置；变向单元13耦接于清洁单元11；下压单元14与变向单元13耦接，下压单元14可以通过中控电脑或其他软体、韧体或硬体形成的控制器驱动，并通过清洁单元对基板产生下压量变化。当清洁单元碰触至基板时，下压单元14可通过控制器驱动，对基板施加下压力，以此来增加摩擦力，加速清洁的时间与提高清洁效率。需说明的是，其下压量变化的范围以0.1mm至3mm之间为佳。在较佳实施例中，下压单元14可使用油压泵、水轮泵、电磁泵、气压泵、传动齿轮或步进马达，并无本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的清洁模块，其特征在于，包含：一清洁单元，其表面由一软性多孔隙胶状材质构成；以及一清洗单元，耦接于该清洁单元，用以对该基板进行高压洗剂清洗。

【技术特征摘要】
1.一种基板的清洁模块，其特征在于，包含：一清洁单元，其表面由一软性多孔隙胶状材质构成；以及一清洗单元，耦接于该清洁单元，用以对该基板进行高压洗剂清洗。2.如权利要求1所述的基板的清洁模块，其特征在于，该清洁单元更包含一转向单元，以使该清洁单元相对于该基板转动。3.如权利要求2所述的基板的清洁模块，其特征在于，该转向单元可使该清洁单元转动方向为顺时针或逆时针。4.如权利要求1所述的基板的清洁模块，其特征在于，更包含一下压单元，耦接于该变向单元，用以使该清洁单元相对于该基板做一下压量变化。5.如权利要求1所述的基板的清洁模块，其特征在于，更包含一变向单元，耦接于该清洁单元，用以供该清洁单元相对于该基板进行多维度作动。6.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕泰福，
申请(专利权)人：南京瀚宇彩欣科技有限责任公司，瀚宇彩晶股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32