预干燥装置、膜层制备方法、发光器件及其制备方法制造方法及图纸

技术编号:14348655 阅读:113 留言:0更新日期:2017-01-04 19:23
本发明专利技术提供了一种预干燥装置、膜层制备方法、发光器件及其制备方法。该预干燥装置,包括箱体以及设置于箱体中的载物台,箱体具有设置溶剂材料的容纳空间,且箱体上设置有箱门、进气口和出气口,进气口与箱体底面之间的垂直距离小于载物台的上表面与箱体底面之间的垂直距离。在将设置有墨水的子像素区域设置于载物台上,并将与墨水中溶剂种类相同的溶剂材料设置于预干燥装置中的箱体底部,且溶剂材料的液面低于载物台的上表面且高于进气口时,从进气口通入箱体中的气体能够使得子像素区域中的墨水由位于子像素区域的中间区域均匀流动并铺展到整个子像素区域中,有效地避免了干燥后薄膜形貌不均匀的问题,提高了器件的发光质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
,具体而言,涉及一种预干燥装置、膜层制备方法、发光器件及其制备方法
技术介绍
在PLED(英文:PolymerLight-EmittingDiode,高分子发光二极管)、OLED(有机发光二极管)以及QLED(量子点发光二极管)显示或照明器件的制备中,通常采用喷墨打印技术,形成红、绿、蓝三基色发光像素。即将预先进行ITO(IndiumTinOxide,氧化铟锡)图案化的基板吸附在打印基台上,将溶解在溶剂中的各种材料(包括,功能层材料,以及红、绿、蓝三色发光材料)的溶液喷涂在该基板上的子像素坑中,形成红、绿、蓝三基色发光像素。然后通过后续的干燥工艺去除膜层中的多余溶剂,其中,干燥工艺一般包括抽真空干燥和烘烤干燥工艺,抽真空干燥通常在一个真空炉中进行减压去除湿法形成的膜层中的溶剂。目前的生产过程中,在将溶液喷墨至基板子像素坑后,溶液是以很小的墨滴形式分布在像素坑的像素区中(通常200*50um,甚至更小),并不能很好的流淌并铺展整个像素坑,并且在后续的真空干燥过程中,因为墨滴体积很小,在像素坑中形成的厚度只有几十到几百纳米,墨滴中的溶剂快速干燥,以致会出现像素坑中的墨滴未均匀覆盖整个像素坑就已经固化的现象,或者溶剂在边缘挥发速度快,带动溶质向边缘运动形成咖啡环(即墨滴的溶质在像素坑边缘堆积)最后导致器件的发光不均的现象;另外,在抽真空干燥工艺中,真空设备的抽气端口通常设置在炉子的角落部位,容易导致气流的分布不均,从而使得各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同,最后造成干燥后的薄膜的形貌不均匀,严重影响器件的质量。现有技术中,一般采用在基板的非显示区域上也进行打印、或者采用在打印设备的打印平台周围设置喷射装置,对基板四周进行溶剂喷射的方法,以期改善打印时周边像素的溶剂氛围。但前者会增加显示器的边框宽度,后者则会使得打印机内部腔体长时间置于溶剂氛围中,这对打印机设备内部组件的材料特性要求较高,从而会对打印机的精密度和使用寿命造成影响。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种预干燥装置、膜层制备方法、发光器件及其制备方法,以解决现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同而导致薄膜的形貌不均匀的问题。为了实现上述目的,根据本专利技术的一个方面,提供了一种预干燥装置,包括箱体以及设置于箱体中的载物台,箱体具有设置溶剂材料的容纳空间,且箱体上设置有箱门、进气口和出气口,进气口与箱体底面之间的垂直距离小于载物台的上表面与箱体底面之间的垂直距离。进一步地,出气口与箱体底面之间的垂直距离大于进气口与箱体底面之间的垂直距离,优选出气口与箱体底面之间的垂直距离大于载物台的上表面与箱体底面之间的垂直距离。进一步地,出气口为多个,至少两个出气口设置于箱体的顶面,且分别位于载物台上表面中心位置的两侧,优选设置于顶面的各出气口与中心位置之间的最小垂直距离相等。进一步地,进气口为多个,一个进气口设置于箱体的底面,且载物台上表面的中心在底面上的投影位于进气口中,优选箱体的至少一组相对的侧壁上分别设置有至少一个进气口,更优选设置于侧壁的各进气口与箱体底面之间的垂直距离相等。进一步地,载物台包括支架和设置于支架上的载物板,载物板的上表面为载物台的上表面,优选支架与箱体的底面、顶面或侧壁连接。进一步地,预干燥装置中还包括加热装置,加热装置设置于箱体中或箱体的外表面上,优选加热装置设置于箱体的底面上或与底面对应的箱体的外表面上。进一步地,预干燥装置中还包括设置于箱体内表面和/或外表面的绝热层。根据本专利技术的另一方面,提供了一种膜层的制备方法,包括以下步骤:S1’,将墨水设置于基板上;S2’,利用与墨水中溶剂种类相同的溶剂材料在气体的带动作用下使墨水中的溶质分散;S3’,对经分散后的基板中的墨水进行干燥处理,形成膜层。根据本专利技术的另一方面,还提供了一种发光器件的制备方法,包括以下步骤:S1,将墨水设置于第一电极基板的子像素区域中;S2,利用与墨水中溶剂种类相同的溶剂材料在气体的带动作用下使墨水中的溶质分散至整个子像素区域;S3,对经分散后的子像素区域中的墨水进行干燥处理,形成发光层或功能层。进一步地,步骤S2包括以下过程:S21,将设置有墨水的第一电极基板置于载物台上;S22,设置溶剂材料使溶剂材料的液面低于载物台的载物面;S23,向溶剂材料中通入气体,使溶剂材料在气体的带动下形成溶剂氛围,墨水在溶剂氛围中在子像素区域扩散。进一步地,在过程S23之后,步骤S2还包括以下过程:S24,对溶剂材料进行加热处理的过程,优选加热处理的温度小于等于溶剂材料的沸点。根据本专利技术的另一方面,还提供了一种发光器件,发光器件由上述的制备方法制备而成。应用本专利技术的技术方案,提供了一种包括箱体以及设置于箱体中的载物台的预干燥装置,由于上述箱体具有设置溶剂材料的容纳空间,且箱体上设置有进气口和出气口,进气口与箱体底面之间的垂直距离小于载物台的上表面与箱体底面之间的垂直距离,从而在将设置有墨水的子像素区域设置于载物台上,并将与墨水中溶剂种类相同的溶剂材料设置于预干燥装置中的箱体底部,且溶剂材料的液面低于载物台的上表面且高于进气口时,从进气口通入箱体中的不与溶剂材料以及各层材料反应的气体能够在向出气口流动的过程中,带动溶剂材料均匀地分散于箱体内部,从而使得子像素区域中的墨水能够处于均匀的溶剂氛围下,由位于子像素区域的中间区域均匀流动并铺展到整个子像素区域中,进而有效地避免了由于子像素区域中各处墨水的溶剂挥发速率不同而导致的干燥后薄膜的形貌不均匀的问题,提高了器件的发光质量。除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解,本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术,并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中:图1示出了本专利技术实施方式所提供的一种预干燥装置的结构示意图;图2示出了本专利技术实施方式所提供的一种多个预干燥装置叠加后的结构示意图;图3示出了本专利技术实施方式所提供的膜层的制备方法的流程图;以及图4示出了本专利技术实施方式所提供的发光器件的制备方法的流程图。其中,上述附图包括以下附图标记:10、箱体;20、载物台;210、载物板;220、支架;30、进气口;40、出气口;50、加热装置;60、绝热层;100、预干燥装置。具体实施方式需要说明的是,在不冲突的情况下,本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是,本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本专利技术的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排本文档来自技高网
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预干燥装置、膜层制备方法、发光器件及其制备方法

【技术保护点】
一种预干燥装置,其特征在于,包括箱体(10)以及设置于所述箱体(10)中的载物台(20),所述箱体(10)具有设置溶剂材料的容纳空间,且所述箱体(10)上设置有箱门、进气口(30)和出气口(40),所述进气口(30)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离小于所述载物台(20)的上表面与所述箱体(10)底面之间的垂直距离。

【技术特征摘要】
1.一种预干燥装置,其特征在于,包括箱体(10)以及设置于所述箱体(10)中的载物台(20),所述箱体(10)具有设置溶剂材料的容纳空间,且所述箱体(10)上设置有箱门、进气口(30)和出气口(40),所述进气口(30)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离小于所述载物台(20)的上表面与所述箱体(10)底面之间的垂直距离。2.根据权利要求1所述的预干燥装置,其特征在于,所述出气口(40)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离大于所述进气口(30)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离,优选所述出气口(40)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离大于所述载物台(20)的上表面与所述箱体(10)底面之间的垂直距离。3.根据权利要求1所述的预干燥装置,其特征在于,所述出气口(40)为多个,至少两个所述出气口(40)设置于所述箱体(10)的顶面,且分别位于所述载物台(20)上表面中心位置的两侧,优选设置于所述顶面的各所述出气口(40)与所述中心位置之间的最小垂直距离相等。4.根据权利要求1所述的预干燥装置,其特征在于,所述进气口(30)为多个,一个所述进气口(30)设置于所述箱体(10)的底面,且所述载物台(20)上表面的中心在所述底面上的投影位于所述进气口(30)中,优选所述箱体(10)的至少一组相对的侧壁上分别设置有至少一个所述进气口(30),更优选设置于所述侧壁的各所述进气口(30)与所述箱体(10)底面之间的垂直距离相等。5.根据权利要求1至4中任一项所述的预干燥装置,其特征在于,所述载物台(20)包括支架(220)和设置于所述支架(220)上的载物板(210),所述载物板(210)的上表面为所述载物台(20)的上表面,优选所述支架(220)与所述箱体(10)的底面、顶面或侧壁连接。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭军军
申请(专利权)人:纳晶科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:浙江;33

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