氧化处理设备及其处理方法技术

一种氧化处理设备，此氧化处理设备由混合器、氧化剂供应单元、氧化剂吸收及反应槽、触媒氧化反应槽与紫外光氧化反应槽所构成。其中，氧化剂供应单元与混合器连接，氧化剂吸收及反应槽与混合器连接，触媒氧化反应槽与氧化剂吸收及反应槽连接，紫外光氧化反应槽与触媒氧化反应槽连接。通过氧化剂吸收及反应槽的设计，可提高氧化剂利用率及污染物之处理效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，且特别涉及一种具有氧化剂吸收及反应槽之。
技术介绍
工业发展带给人们莫大的便利，但同时也带来了河川污染、土壤污染、空气污染等问题，因此如何在减少工业发展对环境的冲击，成为污染防治技术的一项重要的课题。举例来说，在半导体工艺中会产生一些含有有机物的废液。为了避免这些废液污染环境，所以在排放之前，会对这些废液进行处理。公知的处理此含有有机物之废液的方式是于废液中先加入氧化剂，之后使此加入有氧化剂之废液流经触媒、紫外光等处理单元，以通过氧化来去除水中的有机物等污染物。然而，由于废液中有机物去除率与氧化剂吸收率成正比，而上述之处理方式其氧化剂吸收率并不高，因此若要达到较佳的处理效果，需耗费较高的成本。
技术实现思路
鉴于上述情况，本专利技术的目的就是提供一种可以处理挥发性有机废气、废水、土壤整治及各使用系统结垢与防腐蚀，且可杀菌之氧化处理设备。本专利技术的再一目的是提供一种氧化处理之方法，通过整合触媒、紫外光及氧化剂等氧化技术，来解决处理臭味、杀菌处理、空气污染处理、水污染处理及土壤整治等问题，并且提高水回收再利用之效率。本专利技术提出一种氧化处理设备，此氧化处理设备由混合器、氧化剂供应单元、氧化剂吸收及反应槽、触媒氧化反应槽与紫外光氧化反应槽所构成。其中，氧化剂供应单元与混合器连接，氧化剂吸收及反应槽与混合器连接，触媒氧化反应槽与氧化剂吸收及反应槽连接，紫外光氧化反应槽与触媒氧化反应槽连接。本专利技术提出一种氧化处理之方法，适用于上述之氧化处理设备，此氧化处理之方法是先于混合器中将废液与氧化剂供应单元所供应之氧化剂混合，以得到第一溶液。接着，将第一溶液注入氧化剂吸收及反应槽中，使第一溶液中的氧化剂于此槽体中吸收，并破坏废液中的污染物，以得到第二溶液。之后，将第二溶液注入触媒氧化反应槽中，以通过此触媒氧化反应槽中的触媒，氧化此第二溶液，而得到第三溶液。然后，将此第三溶液注入紫外光氧化反应槽中，以通过紫外光氧化此第三溶液。由于本专利技术可通过整合触媒、紫外光及不同氧化剂等氧化技术，通过氧化剂吸收及反应槽设计，使氧化剂能完全吸收，并且通过操作条件的控制来处理废液，因此可提高氧化剂利用率及处理效率。此外，利用本专利技术之方法亦不会有氧化剂二次污染之问题，或者因氧化剂与污染物反应速率较慢而衍生的种种问题。为让本专利技术之上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。附图说明图1是依照本专利技术之一实施例的一种氧化处理设备之示意图。主要元件标记说明100氧化处理设备102、102a、102b混合器104、104a、104b氧化剂供应单元106氧化剂吸收及反应槽108触媒氧化反应槽 110紫外光氧化反应槽112预处理单元114后处理单元具体实施方式图1是为依照本专利技术一实施例的一种氧化处理设备之示意图。请参照图1，本专利技术之氧化处理设备100由混合器102、氧化剂供应单元104、氧化剂吸收及反应槽106、触媒氧化反应槽108与紫外光氧化反应槽110所构成。在一实施例中，混合器102例如是由液相混合器102a与气相混合器102b所构成，而氧化剂供应单元104例如是由液体氧化剂供应单元104a以及气体氧化剂供应单元104b所构成。此外，在另一实施例中，此氧化处理设备100还包括预处理单元112或后处理单元114。其中，预处理单元112与液相混合器102a连接，此预处理单元112例如是调匀槽。此外，液相混合器102a与液体氧化剂供应单元104a连接，气相混合器102b与气体氧化剂供应单元104b连接，且液相混合器102a与气相混合器102b连接。其中，气体氧化剂供应单元104b所供应之氧化剂例如是臭氧、氯气或是其它合适之气体氧化剂。另外，氧化剂吸收及反应槽106与气相混合器102b连接。由于气体氧化剂供应单元104b所供应之气体氧化剂于废液中的吸收率并不高，因此通过此氧化剂吸收及反应槽106的设置可以将氧化剂的吸收率提高，并且使废液的污染物或细菌在此氧化剂吸收及反应槽106能充分混合反应，以达到混合之功效。此外，触媒氧化反应槽108与氧化剂吸收及反应槽106连接。其中，位于触媒氧化反应槽108中的触媒可以将氧化剂转换成氢氧自由基，以破坏废液中的污染物，且其亦可如离子交换树脂一般作为无机物吸附之用。上述之触媒包括铁氧化物(iron oxides)或铜锌触媒，而铁氧化物例如是，三氧化二铁、水合三氧化二铁、四氧化三铁、水合四氧化三铁或上述这些铁氧化物的混合物。在一实施例中，铁氧化物例如是水合三氧化二铁，而在另一实施例中，铁氧化物例如是针状形水合三氧化二铁(针铁矿(goethite，FeOOH))。另外，紫外光氧化反应槽110与触媒氧化反应槽108连接，以使废液中的氧化剂产生氧化能力更强的自由基离子。特别是，由于废液中的污染物非常复杂，因此需使用不同之氧化处理单元。举例来说，紫外光主要是针对水溶性高的有机污染物，而触媒氧化反应槽108中之触媒主要是针对水溶性低的有机污染物及无机及有机的复合物。此外，在另一实施例中，氧化处理设备100还包括后处理单元114，而此后处理单元114与紫外光氧化反应槽110连接。由于本专利技术之氧化处理设备包括有氧化剂吸收及反应槽，因此可以提高氧化剂利用率，并且提高污染物之处理效率。以下说明利用上述之氧化处理设备的处理方法。请继续参照图1，本专利技术之方法是先于混合器102中将废液与氧化剂供应单元104所供应之氧化剂混合，以得到第一溶液。在本实施例中，混合器102包括液相混合器102a与气相混合器102b，而氧化剂供应单元104包括液体氧化剂供应单元104a以及气体氧化剂供应单元104b，因此废液会先经过液相混合器102a，而与液体氧化剂供应单元104a所提供之氧化剂混合，再经过气相混合器102b，与气体氧化剂供应单元104b所提供之氧化剂混合，而形成第一溶液。在另一实施例中，废液在进入混合器102之前，可先于预处理单元112中进行处理，之后再流入混合器102中。其中，此预处理单元112例如是调匀槽。接着，将第一溶液注入氧化剂吸收及反应槽106中，使第一溶液中的氧化剂于此槽体中吸收，并破坏废液中的污染物，以得到第二溶液。由于废液中污染物的去除率与氧化剂吸收率成正比，因此，通过氧化剂吸收及反应槽106的设置，可以提高氧化剂的吸收率，从而降低成本支出。之后，将第二溶液注入触媒氧化反应槽108中，以通过此触媒氧化反应槽108中的触媒，氧化此第二溶液，而得到第三溶液。由于位于触媒氧化反应槽108中的触媒可以将第二溶液中的氧化剂转换成氢氧自由基，因此可以更进一步的破坏废液(即第二溶液)中的污染物，且其还可以如同离子交换树脂一般，用来吸附废液中的无机物。特别是，于此所使用之触媒适用于处理低水溶性之有机污染物、无机及有机复合物。然后，在一实施例中，当废液流经触媒氧化反应槽108之后，还可将此第三溶液注入紫外光氧化反应槽110中，以通过紫外光氧化此第三溶液，从而使得第三溶液中产生更强的自由基离子，以有效去除污染物。特别是，于此所使用之紫外光适用于处理高水溶性之有机污染物。继之，在一实施例中，当废液流经紫外光氧化反应槽110之后，还可进一步流入后处理单元114中，以更进一步处理此废液。由于本专利技术之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化处理设备，其特征是包括：混合器；氧化剂供应单元，与上述混合器连接；氧化剂吸收及反应槽，与上述混合器连接；触媒氧化反应槽，与上述氧化剂吸收及反应槽连接；以及紫外光氧化反应槽，与上述触媒氧化反应槽 连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林树荣，孙观丰，蔡耀辉，
申请(专利权)人：慧群环境科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]