一种用于晶圆边缘的曝光结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于晶圆边缘的曝光结构，包括：旋转平台，绕其中心轴线可旋转，其上表面用于放置所述晶圆；曝光镜头，其下方对准所述旋转平台上放置的晶圆的靠近边缘的位置；支架，设置于所述旋转平台的外侧，用于固定所述曝光镜头；其中，所述晶圆的上表面涂覆有负性光刻胶，当所述曝光镜头进行曝光时，所述晶圆绕所述旋转平台的中心轴线旋转一周，从而能够在所述晶圆的靠近边缘的位置处制作出环形平台。本实用新型专利技术的技术效果是，通过曝光镜头在晶圆的靠近边缘的位置处制作出的环形平台来放置电镀治具，从而解决了晶圆边缘图案对电镀的影响问题，避免电镀侧漏或者渗镀等电镀异常现象的发生。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种在凸点封装中用于晶圆边缘的曝光结构，属于半导体封装

技术介绍
目前，负性光刻胶已经被广泛地应用于凸点(Bumping)封装技术。进入凸点制作之后，需要在晶片表面形成一凸点下金属层(Under-bump Metallurgy；UBM)，然后在凸点下金属层上形成负性光刻胶层，并曝光、显影以形成所需的凸点图案，然后形成凸点焊料。在干膜光刻胶层工艺中，使用负性光刻胶可以形成电绝缘层和后续结构的支撑平台，负性光刻胶曝光的目的是要通过辐射源将图案转移到光刻胶图层上，用尽可能短的时间使光刻胶充分感光，在显影后获得尽可能高的留膜率。但是，整个晶圆曝光完成后，将在晶圆边缘的位置留下开口图案，即使做过边缘清洗处理工艺，也会使边缘的光刻胶因为图案的存在而不平整。在后续电镀工序时需要将CRS(Contact Ring Seal，接触密封圈)治具压在晶圆边缘上，而边缘的这种平整度将造成密封不良，继而产生电镀侧漏或者渗镀等电镀异常问题。
技术实现思路
鉴于现有技术中存在的上述缺陷或不足，本技术提供了一种用于晶圆边缘的曝光结构，其能够有效解决晶圆电镀异常的问题。根据本技术的一方面，提供了一种用于晶圆边缘的曝光结构，包括：旋转平台，绕其中心轴线可旋转，其上表面用于放置所述晶圆；曝光镜头，其下方对准所述旋转平台上放置的晶圆的靠近边缘的位置；支架，设置于所述旋转平台的外侧，用于固定所述曝光镜头；其中，所述晶圆的上表面涂覆有负性光刻胶，当所述曝光镜头进行曝光时，所述晶圆绕所述旋转平台的中心轴线旋转一周，从而能够在所述晶圆的靠近边缘的位置处制作出环形平台。可选地，所述环形平台与所述晶圆的边缘之间的距离设置为1.4+/-0.3mm。可选地，所述曝光镜头包括：外壳；发光源，设置于所述外壳内部，用于提供光源；透镜，设置于所述外壳内部，沿光线传播的方向位于所述发光源的前方；光阑，设置于所述外壳的前端，沿光线传播的方向位于所述透镜的前方，所述光阑为中心具有一个小孔的环状叶片结构。可选地，所述曝光镜头的发光源为由光纤传导的光源或者为卤素灯。可选地，所述曝光镜头的透镜的外侧设置有卡环，所述卡环的外圆周面设置有外螺纹，所述外壳的内部固定所述透镜的相应位置处设置有一段内螺纹，所述卡环的上表面沿直径方向设置有两个凹槽。可选地，所述曝光镜头的外壳设置为通过螺纹互相嵌合的两个分体结构，所述透镜固定于其中一个分体结构的内部。可选地，所述曝光镜头的外壳的材料为不锈钢或者合金。可选地，所述曝光镜头的光阑为可变光阑，所述可变光阑包括：多个叶片、定圈、动圈及传动机构，所述定圈固定于所述外壳的前端，所述动圈及传动机构设置于所述外壳的外侧以控制所述多个叶片的运动，使得所述多个叶片之间围成的小孔的面积为可变的。可选地，所述可变光阑的传动机构通过电机驱动。本技术的有益效果是，根据负性光刻胶曝光后不易显影的特性，通过所述曝光镜头在晶圆的靠近边缘的位置处制作出的环形平台来放置电镀治具，从而解决了晶圆边缘图案对电镀的影响问题，避免电镀侧漏或者渗镀等电镀异常现象的发生。上面描述中提到的特征和特征组合以及在下面附图的描述中提到的和/或单独显示在附图中的特征和特征组合是可用的，不仅可用在各自指定的组合中，而且也可用在其他组合或者单独的特征中，而不脱离本技术的范围。附图说明通过参照以下附图所作的对非限制性实施例的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显。其中显示：图1为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的构造示意图。图2为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的曝光镜头的构造示意图。图3为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的可变光阑的构造示意图。图4为图1所示的曝光结构在靠近晶圆边缘的位置处曝光后制作出的环形平台的构造示意图。应当理解，附图并非按比例绘制，其呈现的是说明本专利技术的基本原理的各种特征的略微简化的表示。如本文所公开的本专利技术的具体设计特征，包括，例如，具体尺寸，方向，位置和形状将部分地由特定的预期应用和使用环境确定。具体实施方式下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关技术，而非对该技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与技术相关的部分。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。图1为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的构造示意图。如图1所示，曝光结构10包括：旋转平台1，绕其中心轴线可旋转，其上表面用于放置所述晶圆2；曝光镜头3，其下方对准旋转平台1上放置的晶圆2的靠近边缘的位置；支架4，设置于旋转平台1的外侧，用于固定曝光镜头3；其中，晶圆2的上表面涂覆有负性光刻胶。图2为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的曝光镜头的构造示意图。如图2所示，曝光镜头3包括：外壳100；发光源200，设置于外壳100内部，用于提供光源，发光源200可以为由光纤传导的光源，也可以为卤素灯；透镜300，设置于外壳100内部，沿光线传播的方向位于发光源200的前方；光阑400，设置于外壳100的前端，沿光线传播的方向位于透镜300的前方，光阑400为中心具有一个小孔的环状叶片结构。当曝光镜头3进行曝光时，晶圆2绕旋转平台1的中心轴线旋转一周，发光源200的光线穿过透镜300和光阑400中心的小孔照射到晶圆2的靠近边缘C的位置，从而可以将晶圆2边缘C内侧一定宽度的负性光刻胶曝光，由于负性光刻胶在曝光后会产生交联(Cross Linking)反应，使其结构加强而不溶解于显影液，所以负性光刻胶被曝光的部分不能被显影掉而获得了近似垂直的光刻胶侧壁和可控的线宽，从而能够在晶圆2的靠近边缘C的位置制作出环形平台A，环形平台A的线宽尺寸与光阑400中心的小孔的孔径尺寸有关。光阑400的环状叶片则将紧挨着该环形平台A的两侧部分的光线挡住，挡住的部分就会被显影掉。环形平台A与晶圆2的边缘C之间的距离一般设置为1.4+/-0.3mm，具体根据晶圆的尺寸和实际工艺情况而定。如图2所示，曝光镜头3的透镜300的外侧固定有卡环301，卡环301的外圆周面设置有外螺纹，外壳100的内部固定透镜300的相应位置处设置有一段内螺纹。另外，卡环301的上表面沿直径方向设置有两个凹槽B，将特制工具伸入外壳100内部并插入卡环301的两个凹槽B内以相对于外壳100而转动，可以手动调整透镜300在外壳100内部的位置，从而可以调整透镜300与发光源200、光阑400之间的距离。作为一种可选的实施方式，曝光镜头3的外壳100可以设置为通过螺纹互相嵌合的两个分体结构，透镜300固定于其中一个分体结构的内部，可以通过两个分体结构的相对转动来调整透镜300与发光源200、光阑400之间的距离。外壳100的材料为不锈钢或者合金。作为一种可选的实施方式，曝光镜头3的光阑400可以设置为可变光阑400’。图3为根据本技术的实施例的用于晶圆边缘的曝光结构的可变光阑的构造示意图。如图3所示，可变光阑400’包括多个叶片401、定圈402、动圈403以及传动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于晶圆边缘的曝光结构，其特征在于，所述曝光结构包括：旋转平台，绕其中心轴线可旋转，其上表面用于放置所述晶圆；曝光镜头，其下方对准所述旋转平台上放置的晶圆的靠近边缘的位置；支架，设置于所述旋转平台的外侧，用于固定所述曝光镜头；其中，所述晶圆的上表面涂覆有负性光刻胶，当所述曝光镜头进行曝光时，所述晶圆绕所述旋转平台的中心轴线旋转一周，从而能够在所述晶圆的靠近边缘的位置处制作出环形平台。

【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆边缘的曝光结构，其特征在于，所述曝光结构包括：旋转平台，绕其中心轴线可旋转，其上表面用于放置所述晶圆；曝光镜头，其下方对准所述旋转平台上放置的晶圆的靠近边缘的位置；支架，设置于所述旋转平台的外侧，用于固定所述曝光镜头；其中，所述晶圆的上表面涂覆有负性光刻胶，当所述曝光镜头进行曝光时，所述晶圆绕所述旋转平台的中心轴线旋转一周，从而能够在所述晶圆的靠近边缘的位置处制作出环形平台。2.根据权利要求1所述的曝光结构，其特征在于，所述环形平台与所述晶圆的边缘之间的距离设置为1.4+/-0.3mm。3.根据权利要求1所述的曝光结构，其特征在于，所述曝光镜头包括：外壳；发光源，设置于所述外壳内部，用于提供光源；透镜，设置于所述外壳内部，沿光线传播的方向位于所述发光源的前方；光阑，设置于所述外壳的前端，沿光线传播的方向位于所述透镜的前方，所述光阑为中心具有一个小孔的环状叶片结构。4.根据权利要求3所述的曝光结构，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑刚，
申请(专利权)人：南通富士通微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32