一种显示面板及显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种显示面板及显示装置，属于显示领域。所述显示面板包括彩膜基板和光电介质层；彩膜基板上包括显示区和非显示区；彩膜基板靠近光电介质层的一侧的非显示区上形成有阻流沟槽。本实用新型专利技术通过在显示面板的彩膜基板的非显示区上形成阻流沟槽，当在彩膜基板和阵列基板之间滴入光电介质且完成对盒后，位于彩膜基板与阵列基板之间的光电介质向非显示区扩散，非显示区上的阻流沟槽会对光电介质起到引流作用，阻止光电介质快速流向密封材料，降低了光电介质向密封材料方向的扩散速度，防止了密封材料未固化前与光电介质接触而导致的光电介质被密封材料污染或者显示面板周边不良。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及显示装置。
技术介绍
光电显示面板是光电显示装置的重要组成部分，通常包括相对设置的两个显示基板和通过密封材料封闭于该两个显示基板之间的光电介质层，该两个显示基板分别为阵列基板和彩膜基板，每个显示基板包括衬底基板和形成在该衬底基板上的多个膜层，每个显示基板包括显示区域和位于该显示区域四周的非显示区域，其中，位于两个衬底基板之间的多个膜层和光电介质层构成了多个像素单元，位于显示区域的像素单元用于图像的显示，位于非显示区域的像素单元称为虚拟(英文：Dummy)像素单元，不进行图像显示，主要是用于保证光电显示面板厚度的一致性。目前，在制作完成阵列基板和彩膜基板后，在彩膜基板上滴下光电介质，在阵列基板的衬底基板的四周涂覆密封材料，然后进行两块显示基板的对盒成型，此时，光电介质向两个显示基板的四周扩散且被密封于密封材料内，形成光电介质层。当光电介质在两个显示基板与密封材料形成的空间内扩散时，如果光电介质在密封材料固化之前扩散至与密封材料相接触，会导致光电介质被未固化的密封材料污染和显示面板的周边不良。
技术实现思路
本技术实施例提供了一种显示面板，包括彩膜基板和光电介质层，所述彩膜基板上包括显示区和非显示区；所述彩膜基板靠近所述光电介质层的一侧的非显示区上形成有阻流沟槽。本技术的实施例中的显示面板的彩膜基板至少可以在一定程度上减少由于光电介质扩散过快接触到未固化的密封材料而导致光电介质被污染的问题。可选地，所述彩膜基板包括：衬底基板；在所述衬底基板上形成有第一膜层，所述第一膜层的非显示区上形成有凹槽，所述凹槽构成所述阻流沟槽，所述第一膜层包括彩色滤光层或找平层。可选地，所述第一膜层的非显示区包括至少一个条形区域，至少一个所述条形区域内阵列排布至少一个虚拟像素区；在每个所述条形区域内，至少两个所述虚拟像素区的间隔形成一个所述凹槽。可选地，所述第一膜层的非显示区由四个条形区域组成，所述四个条形区域内均阵列排布至少一个虚拟像素区，其中，每个条形区域内的虚拟像素区的长度方向平行于所述显示区靠近所述条形区域的外边缘的方向。可选地，在至少一个所述条形区域内，至少一个所述虚拟像素区上设有至少一个缺口，所述缺口将所述虚拟像素区截断。可选地，每相邻的两个所述虚拟像素区上的缺口互相错开。可选地，在同一个所述条形区域内，沿所述非显示区的内边缘到外边缘的方向，所述虚拟像素区上的缺口的数量逐渐减少。可选地，在同一个所述条形区域内，沿所述非显示区的内边缘到外边缘的方向，所述凹槽的宽度依次减小。可选地，所述阻流沟槽的宽度为所述彩色滤光层中的某一个虚拟像素区的宽度或者一个虚拟像素区的宽度的整数倍。另一方面，本技术实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括所述显示面板。本技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过在显示面板中的彩膜基板的非显示区上形成阻流沟槽，当在彩膜基板和阵列基板之间滴入光电介质且完成对盒后，位于彩膜基板与阵列基板之间的光电介质从显示区的四周向非显示区扩散，非显示区上的阻流沟槽会对光电介质起到引流作用，使光电介质沿着阻流沟槽进行流动，通过改变光电介质流动的速度与方向，阻止光电介质快速流向密封材料，降低了光电介质向密封材料方向的扩散速度，防止了密封材料未固化前与光电介质接触而导致光电介质被密封材料污染和显示面板周边不良。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术实施例一提供的一种显示面板的彩膜基板的横截面结构示意图；图2是本技术实施例一提供的一种显示面板的彩膜基板的横截面结构示意图；图3是本技术实施例一提供的衬底基板的俯视图；图4是本技术实施例一提供的衬底基板的俯视图；图5是本技术实施例一提供的衬底基板形成在衬底基板的第一膜层的俯视图；图6是本技术实施例一提供的衬底基板以及形成在衬底基板的第一膜层的俯视图；图7是本技术实施例一提供的衬底基板以及形成在衬底基板的第一膜层的俯视图；图8是本技术实施例一提供的衬底基板以及形成在衬底基板的第一膜层的俯视图。其中，1 显示区；2 非显示区，21 条形区域；3 阻流沟槽；4 衬底基板；5 第一膜层；6 第二膜层；7 黑矩阵层；8 缺口；9 偏差协调像素区；A 凹槽；B 虚拟像素区。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。实施例一为了解决现有技术中当光电介质在两个显示基板与密封材料形成的空间内扩散时，由于在密封材料固化前，光电介质与密封材料接触而导致的光电介质被未固化的密封材料污染或者显示面板的周边不良的问题，该两个显示基板分别为彩膜基板和阵列基板，本技术实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括彩膜基板和光电介质层，如图1所示，该彩膜基板上包括显示区1和非显示区2，非显示区2位于显示区1的四周，其中图1为彩膜基板的横截面示意图，只示出了部分显示区1以及非显示区2；彩膜基板靠近光电介质层的一侧的非显示区2上形成有阻流沟槽3；其中，彩膜基板靠近光电介质层的一侧用于滴注或者喷洒光电介质。在本技术实施例中，光电介质可以为液晶，此时显示面板为液晶显示面板，密封材料可以为封框胶。在本技术实施例中，可以在彩膜基板上滴注光电介质，在阵列基板的四周涂覆密封材料，然后完成两个显示基板的对盒以形成显示面板；也可以在阵列基板上滴入光电介质，在彩膜基板的四周涂覆密封材料，然后完成两个显示基板的对盒以形成显示面板；同时，在彩膜基板和阵列基板之间还设有支撑块用以支撑两个显示基板，其中，支撑块可以形成在彩膜基板上，也可以形成在阵列基板上。在本技术实施例中，通过在显示面板的彩膜基板的非显示区2上形成阻流沟槽3，当在彩膜基板和阵列基板之间滴入光电介质且完成对盒后，位于彩膜基板与阵列基板之间的光电介质从显示区1的四周向非显示区2扩散，非显示区2上的阻流沟槽3会对光电介质起到引流作用，使光电介质沿着阻流沟槽3进行流动，通过改变光电介质流动的速度与方向，阻止光电介质快速流向密封材料，降低了光电介质向密封材料方向的扩散速度，防止了密封材料未固化前与光电介质接触而导致的光电介质被密封材料污染和显示面板周边不良。在本专利技术实施例中，无论是在彩膜基板上滴注光电介质，还是在阵列基板上滴注光电介质，阻流沟槽3均可以对光电介质起到引流作用，因为滴入光电介质时，例如此时的光电介质为液晶，作为整个液晶层的液晶都会集中在滴下的区域，该区域的液晶的面积小于显示基板的面积，液晶的高度要远大于对盒完成后的显示面板的厚度，对盒形成显示面板后，液晶由于空间的限制向显示面板的四周扩散，液晶的扩散并不会只限于某一个显示基板的内表层，而是在两个显示基板之间的整个空间内流动，因此无论是在彩膜基板上滴注光电介质，还是在阵列基板上滴注光电介质，阻流沟槽3均可以对光电介质起到引流作用。如图1所示，在本技术实施例中，彩膜基板包括：衬底基板4；在衬底基板4上形成有第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示面板，包括彩膜基板和光电介质层，其特征在于，所述彩膜基板上包括显示区和非显示区；所述彩膜基板靠近所述光电介质层的一侧的非显示区上形成有阻流沟槽。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，包括彩膜基板和光电介质层，其特征在于，所述彩膜基板上包括显示区和非显示区；所述彩膜基板靠近所述光电介质层的一侧的非显示区上形成有阻流沟槽。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底基板；在所述衬底基板上形成有第一膜层，所述第一膜层的非显示区上形成有凹槽，所述凹槽构成所述阻流沟槽，所述第一膜层包括彩色滤光层或找平层。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层的非显示区包括至少一个条形区域，至少一个所述条形区域内阵列排布至少一个虚拟像素区；在每个所述条形区域内，至少两个所述虚拟像素区的间隔形成一个所述凹槽。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层的非显示区由四个条形区域组成，所述四个条形区域内均阵列排布至少一个虚拟像素区，其中，每个条形区域内的虚拟像素区的长度方向平行于所述显示区靠近所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡勇，程鸿飞，吴新银，乔勇，徐健，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11