本实用新型专利技术提供一种截止滤光片，其包括蓝玻璃基板，以及分别设于蓝玻璃基板两侧的红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆，红外光截止膜堆以第一折射率的第一高折射膜层以及具有第二折射率的第二低折射膜层交互堆栈形成，紫外光截止膜堆以具有第三折射率的第三高折射膜层以及具有第四折射率的第四低折射膜层交互堆栈形成，其中，第一折射率大于第二折射率，第三折射率大于第四折射率，红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到蓝玻璃基板。本实用新型专利技术通过红外光截止膜堆及蓝玻璃基板截止红外光，通过紫外光截止膜堆截止紫外光，再通过磁控溅射的方式将红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆沉积附着到蓝玻璃基板，以减小截止滤光片的厚度。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于滤光片领域，尤其涉及一种截止滤光片。
技术介绍
近年来随着智能手机和平板电脑的快速增长。尤其是iPhone的带动，引爆了全球镜头的需求，带动照相手机镜头及NB模块出货大幅成长，手机照相功能成为必备功能，高像素智能手机、高端数码相机的像素逐渐提高。像素越高，他对摄像系统的工艺技术就提出更高的要求，苹果从iPhone4/4S开始引入了“蓝玻璃滤光片”从而大幅提升了拍照品质。此后小米2、魅族MX2等配备了800万或以上像素的高端手机都开始流行内嵌蓝玻璃滤光片的背照式摄像头。目前采用蓝玻璃滤光片成为提高成像质量的主要手段。任何物体在大于绝对零度(-273℃)的环境下都会对外发射红外线，而摄像头采用的都是CCD(Charge-coupled Device，电荷耦合元件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)传感器，CCD和CMOS传感器可以灵敏地捕捉到所有可见光和部分红外光。不同波长的光线，折射率不一致，根据光的折射原理和定律可得知，当这些光线同时进入摄像机镜头，被镜头透镜折射后，可见光和红外光就会在不同的靶面成像，人眼主要感受可见光所成的实像，但是红外光线所成虚像必然会影响图像的颜色和质量，因此，现有技术中提供有用于截止红外光的截止滤光片。此外，紫外光会引起色差、球差，会使成像的色彩饱和度降低，影响成像质量，并且紫外光会使高分子有机材料老化，影响物资的耐用性，缩短产品的使用寿命和精度，这对于在太空运行的卫星来讲截止紫外光显的就更加重要， 所以在高尖端领域紫外光也必须加以消除。目前市场上的截止滤光片主要是针对红外光线进行截止，且截止滤光片的红外光截止膜堆的镀膜方式主要采用的是真空蒸发镀膜，这种镀膜主要是通过加热待形成薄膜的原材料，使其以原子或者分子的形式气化逸出，形成蒸气流入射到基底玻璃上形成膜层的方法，这种方式成膜因为入射分子动能低，所形成的膜层附着力较差，膜层结晶度差，这样的膜层较容易吸收可见光，降低产品的透过率，需要的膜层总数60-80层，这样膜层厚度大，设计和制备难度大，成本高。因此，亟需提供一种膜层较薄、并兼具有截止红外光、紫外光的截止滤光片。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种截止滤光片，其旨在解决膜层较厚、且不能兼具截止红外光和紫外光的问题。本技术是这样实现的：一种截止滤光片，包括蓝玻璃基板，以及分别设于蓝玻璃基板两侧的红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆，所述红外光截止膜堆以第一折射率的第一高折射膜层以及具有第二折射率的第二低折射膜层交互堆栈形成，所述紫外光截止膜堆以具有第三折射率的第三高折射膜层以及具有第四折射率的第四低折射膜层交互堆栈形成，其中，所述第一折射率大于所述第二折射率，所述第三折射率大于所述第四折射率，所述红外光截止膜堆和所述紫外光截止膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到所述蓝玻璃基板。可选地，各所述第一高折射膜层的厚度逐层递变，各所述第二低折射膜层的厚度与所述第一高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。可选地，各所述第一高折射膜层的厚度在80.8nm-122.3nm范围内逐层递变，各所述第二低折射膜层的厚度在117.2nm-177.3nm范围内与所述第一高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。可选地，所述第一高折射膜层的层数为10-15，所述第二低折射膜层的层数与所述第一高折射膜层的层数相对应。可选地，各所述第三高折射膜层的厚度逐层递变，各所述第四低折射膜层的厚度与所述第三高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。可选地，各所述第三高折射膜层的厚度在10.6nm-41.5nm范围内逐层递变，各所述第四低折射膜层的厚度在15.4nm-60.1nm范围内与所述第三高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。可选地，所述第三高折射膜层的层数为10-15，所述第四低折射膜层的层数与所述第三高折射膜层的层数相对应。可选地，所述第一高折射膜层是由Nb2O5、TiO2、PbTe任一种制成的第一高折射膜层，所述第二低折射膜层是由SiO2制成的第二低折射膜层，所述第三高折射膜层是由CeO2、TiO2其中之一制成的第三高折射膜层，所述第四低折射膜层是由SiO2制成的第四低折射膜层。可选地，所述红外光截止膜堆和/或所述紫外光截止膜堆在背离所述蓝玻璃基板的一侧附着有增透膜。可选地，所述增透膜包括第五高折射膜层以及第六低折射膜层交互堆栈形成，所述第五高折射膜层是由Nb2O5制成的第五高折射膜层，所述第六低折射膜层是由SiO2制成的第六低折射膜层。基于本技术的结果，首先，该截止滤光片通过红外光截止膜堆及蓝玻璃基板截止红外光，而通过紫外光截止膜堆截止紫外光，因此，该截止滤光片既能够截止红外光也能够截止紫外光。其次，本技术实施例中的红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆均采用磁控溅射的方式进行沉积附着，其中，在磁控溅射时，高能入离子轰击靶材表面，使靶材的分子发生溅射，从靶材中溅射出来的分子动能高，成膜分子会快速沉积附着到待沉积附着对象，与此同时，在成膜分子沉积附着到待沉积附着对象时，成膜分子的动能会转化为热能，加热了待沉积附着对象，加快待沉积附着对象中的分子运动，使成膜分子与待沉积 附着对象之间能够紧密配合，提高附着力以及结晶效果，并减小截止滤光片的厚度。此外，成膜分子与待沉积附着对象之间能够紧密配合还可降低膜层对光线的吸收，并使截止滤光片的透光性更好。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术实施例提供的截止滤光片的膜层结构示意图；图2是红外光、紫外光和可见光在本技术实施例提供的截止滤光片的光线传播结构示意图；图3是本技术实施例提供的截止滤光片与现有的截止滤光片的透光率对比图。附图标号说明：标号 名称 标号 名称 10 蓝玻璃基板 20 红外光截止膜堆 21 第一高折射膜层 22 第二低折射膜层 30 紫外光截止膜堆 31 第三高折射膜层 32 第四低折射膜层 40 增透膜 41 第五高折射膜层 42 第六低折射膜层 具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术， 而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种截止滤光片，其特征在于，包括蓝玻璃基板，以及分别设于蓝玻璃基板两侧的红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆，所述红外光截止膜堆以第一折射率的第一高折射膜层以及具有第二折射率的第二低折射膜层交互堆栈形成，所述紫外光截止膜堆以具有第三折射率的第三高折射膜层以及具有第四折射率的第四低折射膜层交互堆栈形成，其中，所述第一折射率大于所述第二折射率，所述第三折射率大于所述第四折射率，所述红外光截止膜堆和所述紫外光截止膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到所述蓝玻璃基板。
【技术特征摘要】
1.一种截止滤光片，其特征在于，包括蓝玻璃基板，以及分别设于蓝玻璃基板两侧的红外光截止膜堆和紫外光截止膜堆，所述红外光截止膜堆以第一折射率的第一高折射膜层以及具有第二折射率的第二低折射膜层交互堆栈形成，所述紫外光截止膜堆以具有第三折射率的第三高折射膜层以及具有第四折射率的第四低折射膜层交互堆栈形成，其中，所述第一折射率大于所述第二折射率，所述第三折射率大于所述第四折射率，所述红外光截止膜堆和所述紫外光截止膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到所述蓝玻璃基板。2.如权利要求1所述的截止滤光片，其特征在于，各所述第一高折射膜层的厚度逐层递变，各所述第二低折射膜层的厚度与所述第一高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。3.如权利要求2所述的截止滤光片，其特征在于，各所述第一高折射膜层的厚度在80.8nm-122.3nm范围内逐层递变，各所述第二低折射膜层的厚度在117.2nm-177.3nm范围内与所述第一高折射膜层的递变规律对应地逐层递变。4.如权利要求3任意一项所述的截止滤光片，其特征在于，所述第一高折射膜层的层数为10-15，所述第二低折射膜层的层数与所述第一高折射膜层的层数相对应。5.如权利要求1所述的截止滤光片，其特征在于，各所述第三高折射膜层的厚度逐层递变，各所述第四...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄亮，蒋蔚，陈凯，许东东，黄受林，黄海东，
申请(专利权)人：深圳力合光电传感股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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