【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种滑轨总成,特别是指一种滑轨总成能够藉助一操作件解除一阻挡机制,使一轨件能够相对另一轨件从一延伸位置收合。
技术介绍
市场上滑轨总成的设计相当多元化。滑轨总成通常包括至少二个以上的滑轨可彼此相对地活动位移,使滑轨总成能够具有延伸或收合的状态。如美国专利公告号US 7,677,679 B2揭露一种三节式滑轨总成,当该滑轨总成的第三个轨(30)处于一完全延伸状态时,第二轨(20)的保持销(40)与挡片(28)分别被第一轨(10)的挡部(14)及卡块(16)阻挡,据此能够将该第二轨(20)保持在一延伸位置。其中,当该第三轨(30)相对该第二轨(20)往一方向收合的过程中,连接在该第三轨(30)的释放件(50)能够带动第二轨(20)的保持销(40),使保持销(40)从第一轨(10)的下挡部(14)脱离,之后第二轨(20)与第三轨(30)能够一起相对第一轨(10)收合,在此将该前案并入本文以供参考。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够藉助一操作件解除一阻挡机制,使一轨件能够相对另一轨件从一延伸位置收合的滑轨总成。根据本专利技术一方面的滑轨总成包括一第一轨及一第二轨。该第一轨包括一上墙、一下墙、及一侧墙,该侧墙连接在该上墙与该下墙之间,该上墙、该下墙与该侧墙共同定义一纵向通道,该第二轨活动地连接该第一轨且能够在该纵向通道相对该第一轨活动位移,其特点是,该第一轨的侧墙还具有一开口,且该滑轨总成还包括一挡件、一定位件、及一操作件。该挡件依附在该第一轨,该挡件具有一挡墙对应该第一轨的开口;该定位件安排在该第二轨,当该第二轨相对该第一轨活动位移至一延 ...
【技术保护点】
一种滑轨总成,包括一第一轨及一第二轨,所述第一轨包括一上墙、一下墙、及一侧墙,该侧墙连接在该上墙与该下墙之间,该上墙、该下墙与该侧墙共同定义一纵向通道,所述第二轨活动地连接该第一轨且能够在该纵向通道相对该第一轨活动位移,其特征在于,所述第一轨的侧墙还具有一开口,且所述滑轨总成还包括:一挡件,依附在该第一轨,该挡件具有一挡墙,该挡墙对应该第一轨的开口;一定位件,安排在该第二轨,当该第二轨相对该第一轨活动位移至一延伸位置时,该定位件的一部位能够被该挡件的挡墙阻挡;以及一操作件,活动地连接在该第一轨且能够操作该挡件,使该定位件的该部位从该挡件的挡墙脱离。
【技术特征摘要】
1.一种滑轨总成,包括一第一轨及一第二轨,所述第一轨包括一上墙、一下墙、及一侧墙,该侧墙连接在该上墙与该下墙之间,该上墙、该下墙与该侧墙共同定义一纵向通道,所述第二轨活动地连接该第一轨且能够在该纵向通道相对该第一轨活动位移,其特征在于,所述第一轨的侧墙还具有一开口,且所述滑轨总成还包括:一挡件,依附在该第一轨,该挡件具有一挡墙,该挡墙对应该第一轨的开口;一定位件,安排在该第二轨,当该第二轨相对该第一轨活动位移至一延伸位置时,该定位件的一部位能够被该挡件的挡墙阻挡;以及一操作件,活动地连接在该第一轨且能够操作该挡件,使该定位件的该部位从该挡件的挡墙脱离。2.根据权利要求1所述的滑轨总成,其特征在于,所述挡件具有一第一部、一第二部、及一辅助部,该第一部连接该第一轨的侧墙,该第二部远离该第一部,该辅助部是位于该第一部与该第二部之间,该辅助部包括一导引段,该导引段相邻该挡墙,当该第二轨往该延伸位置的方向活动位移的过程中,该定位件的该部位能够被该导引段导引而被该挡墙阻挡。3.根据权利要求1所述的滑轨总成,其特征在于,所述第二轨包括一上墙、一下墙、及一侧墙,该侧墙连接在该上墙与该下墙之间,该滑轨总成还包括一连接件,该连接件将该定位件枢接在该第二轨的侧墙。4.根据权利要求3所述的滑轨总成,其特征在于,所述第二轨的侧墙还包括一安装孔,该定位件的该部位是穿过该安装孔。5.根据权利要求3所述的滑轨总成,其特征在于,所述第二轨的侧墙还包括一安装部,该滑轨总成还包括一第一弹性件,该第一弹性件设置在该定位件与该安装部之间。6.根据权利要求1所述的滑轨总成,其特征在于,所述操作件纵向活动地连接在该第一轨的侧墙,当该操作件被操作时,该操作件活动位移而操作该挡件往一方向偏摆,以致该定位件的该部位能够从该挡件的挡墙脱离。7.根据权利要求1所述的滑轨总成,其特征在于,还包括一第二弹性件,该第二弹性件配置在该第一轨与该操作件之间,藉助该第二弹性件使该操作件能够从一位置自动地回到一初始位置。8.根据权利要求7所述的滑轨总成,其特征在于,所述第一轨与该操作件皆具有一连接部,该第二弹性件具有二个部位分别连接在该第一轨与该操作件的连接部。9.根据权利要求1所述的滑轨总成,其特征在于,所述第一轨与该操作件的其中之一还包括至少一长槽,藉助一连接件穿过该至少一长槽且将该操作件连接至该第一轨,使该操作件能够相对该第一轨被操作而活动位移。10.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈庚金,杨顺和,翁宗宪,王俊强,
申请(专利权)人:川湖科技股份有限公司,川益科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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