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固相反应制备二氧化锡纳米晶的方法技术

技术编号:1428346 阅读:229 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种固相反应制备二氧化锡纳米晶的方法,本发明专利技术采用无水SnCl↓[2]、Na↓[2]CO↓[3]为原料,采用NaCl为稀释剂,经脱水预处理后,在球磨机中球磨得到含SnO的前驱体,前驱体在马弗炉或气氛炉中焙烧得半成品,半成品经真空抽滤、蒸馏水洗涤,烘干即得成品SnO↓[2]纳米晶。本发明专利技术制备SnO↓[2]纳米晶,可以简化实验过程,减小前驱体的团聚现象,并有利于前驱体热处理过程中获得纳米级的SnO↓[2];所得产品纳米晶粒径可达20~30nm,且产品纯度高,SnO↓[2]含量大于99.2%,粒径分布均匀,活性大,有利于提高气敏材料的选择性、稳定性和灵敏度。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固相反应制备二氧化锡纳米晶的方法[
]本专利技术涉及一种气体敏感粉体材料的制备,特别是SnO2纳米晶的制备方法。[
技术介绍
]纳米材料指粒径小于100nm的粉体颗粒,由于它在磁性、催化性、光吸收、热阻等方面显示出特异性能,因而成为21世纪的新型功能材料之一。SnO2材料具有活性大,性能易于控制,制备方法灵活多样等特点,围绕SnO2为基体材料的气敏材料制备及元件制作技术的研究十分活跃。SnO2具有特异的光电性能和气敏特性,被广泛应用于气敏元件、湿敏材料、液晶显示、催化剂、光探测器、半导体元件、电极材料、保护涂层及太阳能电池等
纳米晶材料由于表面效应、体积效应和量子尺寸效应,是制作气敏元件的优良材料。SnO2粉体颗粒的大小、均匀性等都直接影响到元件的灵敏度、选择性、响应恢复特性和稳定性等重要参数。粉体越细,比表面积越大,活性越高,元件灵敏度就越高。常规制备工艺可获得粒径较小的纳米SnO2(如电弧气化法可获得平均粒径为42.9nm的SnO2;液相法可得到几到几十纳米的SnO2),但存在着生产成本高、反应条件苛刻、工艺难于控制、生产工艺复杂及元件灵敏度低、选择性和稳定性差等致命问题。[
技术实现思路
]本专利技术的目的是提供一种工艺简单、成本低、晶粒尺寸小的二氧化锡纳米晶的制备方法。本专利技术采用无水SnCl2、无水Na2CO3为原料,按固相反应式称取原料并混合,采用NaCl(分析纯)为稀释剂,原料和稀释剂经脱水预处理后,在行星球磨机中球磨并进行固相反应得到含SnO的前驱体,前驱体在马弗炉或气氛炉中焙烧得半成品,半成品经真空抽滤、蒸馏水洗涤,烘干即得成品SnO2纳米晶。工艺条件:稀释剂NaCl与原料SnCl2的摩尔比为6~10,高能球磨用直径为20mm和10mm的不锈钢球,球磨过程中球料比10∶1~30∶1,球磨时间4~10h,磨机转速600~1200rpm,焙烧温度400~800℃,焙烧时间1~3h。原料无水SnCl2、无水Na2CO3和稀释剂NaCl所进行的固相反应化学方-->程式为:………………①焙烧过程所进行的化学反应方程式为:     ………………………………………②本专利技术采用固相反应法制备SnO2纳米晶,可以简化实验过程,有利于节约人力、物力和财力;引入反应产物NaCl作为稀释剂,可以减小前驱体的团聚现象,并有利于前驱体热处理过程中获得纳米级的SnO2;经预处理脱去原料中的结晶水,防止球磨过程结块,以利于球磨过程的充分进行;所得产品纳米晶粒径可达20~30nm,且产品纯度高,SnO2含量大于99.2%,粒径分布均匀,活性大,有利于提高气敏材料的选择性、稳定性和灵敏度。[附图说明]图1:本专利技术工艺流程示意图,其中:TG-热重分析,DTA-差热分析,XRD-X-射线衍射分析。图2:X-射线衍射分析图,其中:a:原料X-射线衍射图,b:球磨后前驱体的X-射线衍射图,c:经焙烧后半成品X-射线衍射图,d:经洗涤后成品的X-射线衍射图。[具体实施方式]1、按反应式①称取所需原料27.13g,稀释剂NaCl与原料SnCl2的摩尔比为8,球的质量为407克(20mm的大球8个,10mm的小球40个),球料比15∶1,在行星球磨机中球磨得到前驱体SnO,磨机转速为600rpm,时间为8h,在马弗炉中对前驱体进行焙烧得半成品,焙烧温度为600℃,时间为2h;然后在真空抽滤过程中反复清洗,除去其中的NaCl;最后在100℃烘干即得成品SnO2纳米晶,粒径为28.4nm。2、按反应式①称取所需原料27.13g,稀释剂NaCl与原料SnCl2的摩尔比为10,球的质量为407克(20mm的大球8个,10mm的小球40个),球料比15∶1,在行星球磨机中球磨得到前驱体SnO,磨机转速为600rpm,时间为6h,在马弗炉中对前驱体进行焙烧,得到半成品,焙烧温度为600℃,时间为2h;然后在真空抽滤过程中反复清洗,除去其中的NaCl;最后在100℃烘干即得成品SnO2纳米晶,粒径为21.3nm。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固相反应制备二氧化锡纳米晶的方法,其特征在于:本专利技术采用无水SnCl↓[2]、无水Na↓[2]CO↓[3]为原料,按固相反应式称取原料并混合,采用NaCl为稀释剂,原料和稀释剂经脱水预处理后,在行星球磨机中球磨并进行固相反应得到含SnO的前驱体,前驱体在马弗炉或气氛炉中焙烧得半成品,半成品经真空抽滤、蒸馏水洗涤,烘干即得成品SnO↓[2]纳米晶,工艺条件为:稀释剂NaCl与原料SnCl↓[2]的摩尔比为6~10,高能球磨用直径为20mm和10mm的不锈钢球,球磨过程中球料比10∶1~30∶1,球磨时间4~10h,磨机转速600~1200rpm,焙烧温度400~800℃,焙烧时间1~3h。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种固相反应制备二氧化锡纳米晶的方法,其特征在于:本发明采用无水SnCl2、无水Na2CO3为原料,按固相反应式称取原料并混合,采用NaCl为稀释剂,原料和稀释剂经脱水预处理后,在行星球磨机中球磨并进行固相反应得到含SnO的前驱体,前驱体在马弗炉或气氛炉中焙烧得半成品,半成品经真空...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨华明敖伟琴唐爱东杨武国张向超邱冠周
申请(专利权)人:中南大学
类型:发明
国别省市:43[中国|湖南]

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