一种蒸发镀膜仪制造技术

本实用新型专利技术涉及一种蒸发镀膜仪，包括机架，所述机架上固定有真空室，所述真空室内顶部设置有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设置有蒸发源，所述真空室外顶部设置有连接于基片台并用于驱动基片台匀速旋转的旋转电机。本实用新型专利技术提供的蒸发镀膜仪，将待镀工件安装在基片台，将待蒸发镀膜的材料放在蒸发坩埚里，启动旋转电机工作，基片台能够匀速转动，保证蒸发材料均布在基片表面，镀膜均匀，镀膜品质高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜仪器
，具体是涉及一种蒸发镀膜仪。
技术介绍
目前，镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，在研究院校和实验当中也普遍应用。现在技术中的蒸发镀膜仪，能实现蒸发镀膜，但是存在镀膜表面不均匀的问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种镀膜均匀的蒸发镀膜仪，以克服上述不足。为解决上述技术问题，本技术提供以下技术方案：一种蒸发镀膜仪，包括机架，所述机架上固定有真空室，所述真空室内顶部设置有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设置有蒸发源，所述真空室外顶部设置有连接于基片台并用于驱动基片台匀速旋转的旋转电机。在上述方案基础上，所述蒸发源包括用于放置蒸发镀膜材料的蒸发坩埚、用于给蒸发坩埚加热的钨丝篮，所述机架上设置有通过电路控制钨丝篮加热的控温仪表。在上述方案基础上，所述机架上设置有与真空室相连通的真空抽气口，所述机架上设置有与真空室相连通的进气管及用于控制进气管进气量的进气调节阀。在上述方案基础上，所述机架底部固定有脚垫。本技术与现有技术相比具有的有益效果是：本技术提供的蒸发镀膜仪，将待镀工件安装在基片台，将待蒸发镀膜的材料放在蒸发源上，启动旋转电机工作，基片台能够匀速转动，保证蒸发材料均布在基片表面，镀膜均匀，镀膜品质高。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术蒸发源结构示意图。图中标号为：1-机架，2-真空室，3-基片台，4-蒸发源，41-蒸发钳锅，42-钨丝篮，43-钨丝接线端，44-电极，45-保温层，5-旋转电机，6-控温仪表，7-真空抽气口，8-进气调节阀，9-脚垫。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。参照图1可知，一种蒸发镀膜仪，包括机架1，所述机架1上固定有真空室2，所述真空室2内顶部设置有基片台3、内底部对应于基片台3的下方位置设置有蒸发源4，所述真空室2外顶部设置有连接于基片台3并用于驱动基片台3匀速旋转的旋转电机5。其中，机架1上设置有与真空室2相连通的真空抽气口7，需要对真空室2抽真空时，利用真空泵通过管路连通真空抽气口7作业即可。机架1上设置有与真空室2相连通的进气管及用于控制进气管进气量的进气调节阀8，抽真空作业后，通入惰性气体反复清洗几次真空室，然后再开始蒸发镀膜作业，其中惰性气体的通入通过进气调节阀8来控制进气量。所述机架1底部固定有脚垫9。参照图2，蒸发源4包括用于放置蒸发镀膜材料的蒸发坩埚41、用于给蒸发坩埚41加热的钨丝篮42，所述机架1上设置有通过电路控制钨丝篮42加热的控温仪表6；具体的，钨丝篮42一端通过钨丝接线端43连接于一侧电极44、另一端通过钨丝接线端连接于另一侧电极，控温仪表6通过内部电路对两侧电极通断电流进行控制以实现控制钨丝篮42加热。更好的，蒸发源4内还包括有与钨丝篮相对应的保温层45。当然，该蒸发源也可以是其它现有的电加热系统，只要能满足本申请的功能即可。本技术提供的蒸发镀膜仪，将待镀工件安装在基片台3，将待蒸发镀膜的材料放在蒸发源4，先对真空室2利用真空泵抽真空再通入几次惰性气体清洗，然后启动旋转电机5工作，基片台3能够匀速转动，保证蒸发材料均布在基片表面，镀膜均匀，镀膜品质高。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸发镀膜仪，包括机架，其特征在于：所述机架上固定有真空室，所述真空室内顶部设置有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设置有蒸发源，所述真空室外顶部设置有连接于基片台并用于驱动基片台匀速旋转的旋转电机。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发镀膜仪，包括机架，其特征在于：所述机架上固定有真空室，所述真空室内顶部设置有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设置有蒸发源，所述真空室外顶部设置有连接于基片台并用于驱动基片台匀速旋转的旋转电机。2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述蒸发源包括用于放置蒸发镀膜材料的蒸发坩埚、用于给...

【专利技术属性】
技术研发人员：邾根祥，方辉，江晓平，朱沫浥，王卫，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34