GF2结构触摸屏及其制造工艺制造技术

技术编号:14244178 阅读:179 留言:0更新日期:2016-12-21 23:43
本发明专利技术提供一种GF2结构触摸屏及其制造工艺。所述GF2结构触摸屏包括,具有A面、B面两相对表面的基材层;以及自所述A面向外,依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有纳米银层;或,自所述A面向外,依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有曝光银胶层。本发明专利技术GF2结构触摸屏以纳米银层和曝光银胶层取代了现有的ITO导电材料,线宽可以达到2微米及以下,在实现触摸屏轻薄化的同时,还实现触摸屏的低阻抗和高透过率,并保持触摸屏的光学性能与现有双面ITO触摸屏相当。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于触摸屏
,具体涉及一种GF2结构触摸屏及其制造工艺
技术介绍
在手机或者笔记本/平板电脑以及所有人机触摸屏互动设备的设计和生产过程中,薄膜触摸屏一般由双面ITO技术制作。而目前传统的双面ITO氧化铟锡技术获得的触摸屏结构如图1所示:自PET基材1一表面向外依次叠设ITO层2、透明光学双面胶层3、PET基材层2、ITO层2、透明光学双面胶层3、盖板玻璃层4。现有的产品结构中,需要两层ITO导电材料以及两层透明光学双面胶。这种触摸屏结构厚且复杂,双层ITO以及双层透明光学双面胶还造成生产成本的浪费,加工也十分繁琐。为此,有必要提出一种新的触摸屏结构。
技术实现思路
针对目前双面ITO技术制造的薄膜触摸屏结构厚且复杂、生产成本高、加工繁琐等问题,本专利技术实施例提供了一种GF2结构触摸屏及其制造工艺。为了实现上述专利技术目的,本专利技术实施例的技术方案如下:一种GF2结构触摸屏,包括,具有A面、B面两相对表面的基材层;以及自所述A面向外,依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有纳米银层;或,自所述A面向外,依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有曝光银胶层。以及,如上所述的GF2结构触摸屏的制造工艺,至少包括以下步骤:对一表面叠设有纳米银层的基材进行缩水处理;将干膜贴附于所述纳米银层表面,然后对所述基材进行片材切割处理;对所述干膜进行曝光、显影处理;在所述基材的另一表面进行曝光银胶的涂覆处理;对所述曝光银胶进行预烘烤处理,获得曝光银胶层;对所述曝光银胶层进行曝光、显影处理;对所述曝光银胶层进行固烤处理。上述实施例中的GF2结构触摸屏,以纳米银层和曝光银胶层取代了现有的ITO导电材料,线宽可以达到2微米及以下,在实现触摸屏轻薄化的同时,还实现触摸屏的低阻抗和高透过率,并保持触摸屏的光学性能与现有双面ITO触摸屏相当。上述实施例提供的GF2结构触摸屏的制造工艺,只在需要图形的位置印刷感光银浆,并经过曝光、显影保留所需要的图案即可,而不需要的图案则被清洗掉,减少了导电材料的浪费,提高了导电材料的利用率,能够极大的降低透明导电膜的生产成本;与此同时,由于曝光银浆Metal mesh是以感光导电银物质替换ITO,可实现触摸屏的低电阻和挠曲性,但不降低光学性能。附图说明下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明,附图中:图1是现有技术中双面ITO薄膜触摸屏结构示意图;图2是本专利技术实施例GF2结构触摸屏结构示意图;图3是本专利技术实施例GF2结构触摸屏的另一结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。如图2所示,本专利技术实例提供了一种GF2结构触摸屏,包括,具有A面、B面两相对表面的基材层1;以及自所述A面向外,依次叠设的曝光银胶层5、透明光学双面胶层3、盖板玻璃层4;所述B面叠设有纳米银层6;或,如图3所示,自所述A面向外,依次叠设的纳米银层6、透明光学双面胶层3、盖板玻璃层4;所述B面叠设有曝光银胶层5。其中,在优选实施例中,基材层1由PET材料构成,所述PET材料构成的基材层1的厚度为50~125μm。在任一实施例中,曝光银胶层6由银浆涂覆而成。优选地,构成所述曝光银胶层6的银浆的粘度为100~120dpa.s;将该粘度范围内的银浆涂覆于基材层1的表面时,银浆既不成股流动,也不过于粘稠。进一步优选地,所述曝光银胶层6的厚度为2~5μm,该厚度的曝光银胶层6高度差低,更容易隐藏和脱泡、方便曝光和显影。在一优选实施例中,纳米银层5厚度为25~75μm。优选地,所述盖板玻璃4为为硅酸盐玻璃中的任一种,硅酸盐玻璃的材质为SiO2,耐酸耐碱,能够很好的保护触摸屏内部结构。进一步优选地,所述盖板玻璃4的厚度为0.5~0.7mm。采用较为轻薄的盖板玻璃4,结合其他膜层,既能够起到保护其他膜层的作用,又起到降低触摸屏厚度的作用。本专利技术实施例中的GF2结构触摸屏,以纳米银层和曝光银胶层取代了现有的ITO导电材料,线宽可以达到2微米及以下,在实现触摸屏轻薄化的同时,还实现触摸屏的低阻抗和高透过率,并保持触摸屏的光学性能与现有双面ITO触摸屏相当。与此同时,本专利技术实施例在提供上述GF2结构触摸屏的基础上,还进一步提供了该触摸屏的一种制造工艺。在一实施例中,所述GF2结构触摸屏的制造工艺至少包括以下步骤:对一表面叠设有纳米银层5的基材1进行缩水处理;将干膜贴附于所述纳米银层4表面,然后对所述基材1进行片材切割处理;对所述干膜进行曝光、显影处理;在所述基材1的另一表面进行银浆的涂覆处理;对所述银胶进行预烘烤处理,获得曝光银胶层6;对所述曝光银胶层6进行曝光、显影处理;对所述曝光银胶层6进行固烤处理。其中,在优选实施例中,所述缩水处理的温度为145~155℃,具体是将叠设有纳米银层4的基材1,置于145~155℃的环境中,并以1.2~1.7m/min的速度将基材1通过该温度的环境,确保缩水的效率,同时能够除去基材1的水分,起到定型,且稳定方阻的作用。进一步优选地,缩水处理时,纳米银层4朝上。将干膜贴附于纳米银层4表面,既可以避免纳米银层4在卷材裁切成片材过程中出现的划伤等损害,又可以确保不曝光、不显影部位的性能。优选地,在干膜曝光处理中,曝光的光能量为45~55mj/cm2。进一步优选地,所述曝光的光是波长在315~400nm的UV光。优选地,银浆的粘度为100~120dpa.s;将该粘度范围内的银浆涂覆于基材层1的表面时,银浆既不成股流动,也不过于粘稠。优选地,预烘烤的温度为100~120℃;所述基材1在预烘烤中通过100~120℃温度空间的速度为3.0~4.0m/min。温度过高而速度过慢、温度过低而速度过快、均会出现显影不干净或显影过度等不良,造成预烘烤失败。优选地,用于曝光银胶层6的光能量为350~4505mj/cm2。进一步优选地,所述曝光的光为波长在315~400nm的UV光。优选地,显影处理时,显影液的浓度为0.120%~0.150%,所述显影速度为3.0~5.0m/min。优选地,所述固烤温度为135~145℃;所述固烤时间为50~70min。温度和时间不够会导致银浆附着力差(即银浆脱落),温度和时间过长会导致PET材料变形严重,银浆也会因过分干燥导致附着力和硬度不达标。此外,上述制造工艺还包括在曝光银胶层6表面或者纳米银层5表面贴附透明光学双面胶3;以及在所述透明光学双面胶3表面贴附盖板玻璃4的过程。本专利技术实施例提供的GF2结构触摸屏的制造工艺,只在需要图形的位置印刷感光银浆,并经过曝光、显影保留所需要的图案即可,而不需要的图案则被清洗掉,减少了导电材料的浪费,提高了导电材料的利用率,能够极大的降低透明导电膜的生产成本;与此同时,由于曝光银浆Metal mesh是以感光导电银物质替换ITO,可实现触摸屏的低电阻和挠曲性,但不降低光学性能。以下通过多个实施例来举例说明本专利技术实施例GF2结构触摸屏、作用以及达到的效果。实施例1一种GF2结构触摸屏。其中,如图2所示,包括具有A面、B面两相对表面的PET基材层1本文档来自技高网...
GF2结构触摸屏及其制造工艺

【技术保护点】
一种GF2结构触摸屏,其特征在于:包括,具有A面、B面两相对表面的基材层;以及自所述A面向外,依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有纳米银层;或,自所述A面向外,依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有曝光银胶层。

【技术特征摘要】
1.一种GF2结构触摸屏,其特征在于:包括,具有A面、B面两相对表面的基材层;以及自所述A面向外,依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有纳米银层;或,自所述A面向外,依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层;所述B面叠设有曝光银胶层。2.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏,其特征在于:所述曝光银胶层由银浆涂覆而成,所述银浆的粘度为100~120dpa.s;所述曝光银胶层的厚度为2~5μm。3.如权利要求1~2任一所述的GF2结构触摸屏,其特征在于:所述纳米银层厚度为25~75μm。4.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏,其特征在于:所述基材层的材料为PET;所述基材层的厚度为50~125μm。5.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏,其特征在于:所述盖板玻璃为硅酸盐玻璃中的任一种,所述盖板玻璃的厚度为0.5~0.7mm。6.如权利要求1~5任一所述的GF2结构触摸屏的制造工艺,其特征在于:至少包括以下步骤:对一表面叠设有纳米银层的基材进行缩水处理;将干膜贴附于所述纳米银层表面,然后对所述基材进行片材切割处理;对所述干膜进行曝光、显影处理;在所述基材的另一表面进行曝光银胶的涂覆处理;对所述曝光银胶进行...

【专利技术属性】
技术研发人员:贾仁宝王令黎美峰李文潮
申请(专利权)人:深圳市骏达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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