发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件技术

本发明专利技术提供了一种发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件。该制作方法包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面；步骤S3，将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层。由于该制作方法是通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度。

Method for manufacturing light emitting device, light emitting device and mixed light emitting device

The invention provides a method for manufacturing a light emitting device, a light emitting device and a mixed light emitting device. The preparation method comprises the following steps: step S1, mask having a plurality of hollow part arranged on the substrate; step S2, the surface of the solution method makes the ink through the hollow part is arranged on the substrate; step S3, the substrate surface ink drying, forming a light emitting layer or layer function. The production method is through a mask having a plurality of hollow part is arranged on the substrate surface by solution method so that the ink through the hollow part is arranged on the substrate, and the substrate surface of the ink drying, forming a light emitting layer or the functional layer, thus using mask blocking ink to other color region dispersion. Avoid mixing problems, improve the light emitting device color accuracy.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件。
技术介绍
随着科学技术的不断发展，人们对显示器画质的要求不断提升，QLED(量子点发光二极管)显示以其高的色彩纯度、色饱和度和广色域被认为是未来最具代表性的显示技术。目前QLED器件主要利用溶液法制程来制作，如喷墨打印、丝网印刷、旋涂、狭缝涂布等，由于显示的像素非常小，目前子像素的涂布一般利用喷墨打印工艺来进行选择性涂布，即在有像素隔离结构构筑的RGB子像素凹槽内，利用喷嘴依次打印R、G、B量子点墨水。由于目前蓝光QLED器件的效率较低，直接利用量子点构筑RGB显示的QLED器件还有一定难度，而传统的LED与OLED的蓝光发展较为成熟，因此可以利用量子点的RG光致结合LED或者OLED电致蓝光来实现RGB显示的方式，短期内可以较快实现。然而，在上述喷墨打印工艺中，喷嘴喷出的液滴形态非常不稳定，常常在主液滴周围能观察到很多细小的液滴，分散出来的小液滴容易偏离原来的位置，落入到邻近子像素区域中，从而导致各子像素内材料落入量不同或混色问题的产生，进而影响了发光器件最终的性能或产生色差，降低了产品的良率。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件，以解决现有技术中的发光器件由于混色而导致色差的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种发光器件的制作方法，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面；步骤S3，将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层。进一步地，墨水为量子点材料墨水，制作方法还包括至少重复一次步骤S1至S3的过程，各次重复过程中，所采用的掩模板的镂空部对应基板的不同区域，所采用的墨水的发光颜色也不同。进一步地，步骤S1中的掩模板具有改性表面，改性表面包括掩模板的远离基板的一侧表面，改性表面具有亲水性或疏水性；步骤S2所使用的墨水与改性表面具有不同亲疏水性。进一步地，改性表面还包括掩模板的靠近基板的一侧表面。进一步地，改性表面为疏水性表面时，制作方法还包括形成改性表面的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理，以形成具有疏水性的改性表面。进一步地，制作方法还包括对掩模板进行预处理的过程，预处理的过程包括：对掩模板的表面进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩膜板的亲水性表面完全裸露。进一步地，步骤S1中的基板具有像素隔离结构，且像素隔离结构具有多个相互隔离的子像素区域，镂空部对应各子像素区域设置；步骤S2使墨水通过镂空部进入对应的子像素区域中。进一步地，步骤S1中的基板的表面具有亲水区域和疏水区域，镂空部对应亲水区域或疏水区域设置；步骤S2使疏水性的墨水通过镂空部进入疏水区域中，或使亲水性的墨水通过镂空部进入亲水区域中。进一步地，墨水为空穴注入材料墨水、空穴传输材料墨水、电子注入材料墨水和电子传输层材料墨水中的任一种，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层；或墨水为量子点材料墨水或有机发光材料墨水，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的量子点发光层或有机发光层。进一步地，步骤S2中采用喷涂工艺或喷墨打印工艺以使墨水通过镂空部设置于基板的表面，喷涂工艺优选为超声喷涂。根据本专利技术的另一方面，提供了一种发光器件，发光器件由上述制作方法制备而成，发光器件为电致发光器件或光致发光器件。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种混合发光器件，发光器件包括电致发光器件以及设置于电致发光器件出光侧的光致发光器件，电致发光器件和/或光致发光器件为制作方法制备而成。应用本专利技术的技术方案，提供了一种发光器件的制作方法，由于该制作方法是通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了本专利技术实施方式所提供的发光器件的制作方法的流程示意图。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。正如
技术介绍
中所介绍的，现有喷墨打印工艺中由于喷嘴喷出后墨水液滴分散，分散出来的小液滴容易偏离原来的位置，落入其他颜色的区域中，从而导致混色问题的产生，进而影响了发光器件最终的颜色而产生色差。本申请的专利技术人针对上述问题进行研究，提出了一种发光器件的制作方法，如图1所示，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面；步骤S3，将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层。本专利技术的上述制作方法，通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，并使镂空部对应基板上的目标区域，基板上的非目标区域可以对应掩模板的镂空部也可以对应掩模板的非镂空部，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，尤其是量子点墨水向其他邻近区域扩散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度。下面将更详细地描述根据本专利技术提供的发光器件的制作方法的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。本申请中的墨水可以为空穴注入材料墨水、空穴传输材料墨水、电子注入材料墨水和电子传输层材料墨水中的任一种，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的空本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过所述镂空部设置于所述基板的表面；步骤S3，将所述基板表面的所述墨水干燥，形成发光层或功能层。

【技术特征摘要】
1.一种发光器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过所述镂空部设置于所述基板的表面；步骤S3，将所述基板表面的所述墨水干燥，形成发光层或功能层。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述墨水为量子点材料墨水，所述制作方法还包括至少重复一次所述步骤S1至S3的过程，各次重复过程中，所采用的掩模板的镂空部对应所述基板的不同区域，所采用的墨水的发光颜色也不同。3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中的所述掩模板具有改性表面，所述改性表面包括所述掩模板的远离所述基板的一侧表面，所述改性表面具有亲水性或疏水性；所述步骤S2所使用的所述墨水与所述改性表面具有不同亲疏水性。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述改性表面还包括所述掩模板的靠近所述基板的一侧表面。5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述改性表面为疏水性表面时，所述制作方法还包括形成所述改性表面的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使所述疏水性材料固定于所述掩模板的表面，优选所述疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂；步骤S02，将固定有所述疏水性材料的所述掩模板与所述溶液分离，并对所述掩模板进行干燥处理，以形成具有疏水性的所述改性表面。6.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括对所述掩模板进行预处理的过程，所述预处理的过程包括：对所述掩模板的表面进行紫外线臭氧光解氧化，以使所述掩膜板的亲水性表面完全裸露。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：甄常刮，顾辛艳，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33