The invention provides a III group nitride biological probe and a preparation method thereof, which belongs to the field of semiconductor material preparation and biomedicine. The invention adopts III V material has potential application prospect as the probe of basic materials, through multiple quantum well material group to adjust the thickness and number of groups, get a quantum wire with adjustable structure, meet the luminous intensity and wavelength can be adjusted within a certain range of requirements, and the preparation process of medium. The biological probe is highly stable in vivo, easy quenching, long service life, can metabolism.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体材料制备及生物医学交叉领域,特别涉及一种III族氮化物生物探针及其制备方法。
技术介绍
在医学领域,人们使用传统的有机染料以及生物纳米探针来进行细胞的标记和荧光成像。有机分子在生物体内容易分解,其荧光很容易淬灭,无法长期的跟踪和观察;同时它作为受体的荧光染料仍存在生物相容性差、荧光量子产率偏低、抗光漂白能力不足和发射波长偏短等不足,因此在实际的使用中有诸多不便。生物纳米探针主要包括,胶体金,磁性纳米颗粒,量子点等。微观尺度上纳米金探针的信号不易放大,人们利用传统仪器对其进行检测具有一定困难;且磁性纳米颗粒处于研究实验阶段。量子点是准零维的纳米材料,由少量的原子所构成。粗略地说,量子点三个维度的尺寸都在100nm以下,外观恰似一极小的点状物,其内部电子在各方向上的运动都受到局限,所以量子限域效应特别显著。量子点具有传统有机荧光染料无可比拟的光学魅力,在材料以及生物医学领域已经得到了广泛的应用。目前,量子点被广泛地应用在生物体内作为荧光标记物。通过观察量子线标记分子与靶分子相互作用的部位,及其在活细胞内的运行轨迹,可能为信号传递的分子机制提供线索,从而为阐明细胞生长发育的调控及癌变规律提供直观依据。量子点在研究生物大分子荧光标记、生物大分子之间的相互作用、生物及细胞组织的荧光标记与成像以及活体成像等方面有重要的应用。量子点可以分为II-VI族量子点(如CdTe、CdSe等)、Si量子点以及III-V族量子点(如InP、GaN等)等。其中II-VI族量子点,即由第二副族和第六主族元素组成,如CdSe,CdS,,CdTe,CdSe/ZnS,C ...
【技术保护点】
一种III族氮化物生物探针,包括:一衬底(10);一第一n型氮化镓层(11),形成于所述衬底(10)上;一量子线结构(12),该量子线结构(12)是由在所述第一n型氮化镓层(11)上生长的多量子阱(13)和第二n型氮化镓层(14)经腐蚀形成的。
【技术特征摘要】
1.一种III族氮化物生物探针,包括:一衬底(10);一第一n型氮化镓层(11),形成于所述衬底(10)上;一量子线结构(12),该量子线结构(12)是由在所述第一n型氮化镓层(11)上生长的多量子阱(13)和第二n型氮化镓层(14)经腐蚀形成的。2.根据权利要求1所述的III族氮化物生物探针,其特征在于,所述衬底(10)的材料为c面蓝宝石衬底。3.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述第一n型氮化镓层(11)为硅掺杂的氮化镓,厚度在10μm-500μm之间。4.根据权利要求1所述的III族氮化物生物探针,其特征在于,所述第一n型氮化镓层(11)是由金属有机物化学气相外延生长形成的。5.根据权利要求1所述的III族氮化物生物探针,其特征在于,所述量子线结构(12)的厚度范围为10nm-100nm,直径范围为10nm-70nm。6.根据权利要求1所述的III族氮化物生物探针,其特征在于,所述量子线结构(12)的量子阱层为GaN与InGaN的交替结构,其中GaN为本征GaN,InGaN中In的组分在10%-70%之间。7.根据权利要求1所述的III族氮化物生物探针,其特征在于,一组量子阱的厚度范围为4nm-10nm;多量子阱的数量在1-10之间可调。8.一种III族氮化物生物探针的制备方法,包括以下步骤:步骤S1:在衬底(10)上生长第一n型氮化镓层(11);步骤S2:在所述第一n型氮化镓层(11...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁国栋,张璐,王克超,吴瑞伟,李晋闽,王军喜,
申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
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