一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构制造技术

技术编号:14176789 阅读:104 留言:0更新日期:2016-12-13 09:07
一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,它涉及一种结构,具体涉及一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构。本实用新型专利技术为了解决由于陶瓷基板本身存在粗糙度,丝印完成线路图形制作后会导致线路PAD不平整,对后续绑线产生隐患的问题。本实用新型专利技术包括陶瓷基板、底釉层、铜层和面釉层,陶瓷基板、底釉层、铜层和面釉层由下至上依次叠加设置。本实用新型专利技术属于薄膜制造领域。

Structure for reducing surface roughness of thick film process

The utility model relates to a structure for reducing the surface roughness of thick film technology, which relates to a structure, in particular to a structure for reducing the surface roughness of thick film technology. The utility model solves the problem that the PAD of the screen is not smooth and the hidden trouble of the subsequent binding line is caused by the roughness of the ceramic substrate. The utility model comprises a ceramic substrate, a bottom glaze layer, a copper layer and a surface glaze layer. The utility model belongs to the field of film manufacturing.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种结构,具体涉及一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,属于薄膜制造领域。
技术介绍
现有的厚膜工艺,是直接在陶瓷基板上印导电金属图形,然后通过烧结烧死。由于陶瓷基板本身存在粗糙度,丝印完成线路图形制作后会导致线路PAD不平整,对后续绑线产生隐患。特别是对于光刻厚膜工艺制作精密电阻,会使得蚀刻时线路出现边缘不整齐,难以达到电阻精度,需要增加激光调阻。
技术实现思路
本技术为解决由于陶瓷基板本身存在粗糙度,丝印完成线路图形制作后会导致线路PAD不平整,对后续绑线产生隐患的问题,进而提出一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构。本技术为解决上述问题采取的技术方案是:本技术包括陶瓷基板、底釉层、铜层和面釉层,陶瓷基板、底釉层、铜层和面釉层由下至上依次叠加设置。进一步的,陶瓷基板的厚度为1mm~2mm。进一步的,陶瓷基板的厚度为2mm。进一步的,底釉层的厚度为10μm~30μm。进一步的,底釉层的厚度为30μm。进一步的,铜层的厚度为20μm~40μm。进一步的,铜层的厚度为20μm。进一步的,面釉层的厚度为30μm~40μm。进一步的,面釉层的厚度为35μm。本技术的有益效果是:1、本结构降低陶瓷基板的粗糙度,使得后续加工线路图形PAD非常平整。对于光刻工艺,蚀刻的线路整齐平滑;2、本技术完美解决了绑线,和光刻厚膜工艺的平整度需求。再表面用釉代替阻焊,大大提高了陶瓷PCB的耐腐蚀性;3、本技术能达到各种绑线需求的平整度;4、本技术能制作高精密的电阻,无需激光调阻;5、本技术还可应用于对平整度要求高的DPC工艺制作。附图说明图1是本技术的整体结构示意图。具体实施方式具体实施方式一:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构包括陶瓷基板1、底釉层2、铜层3和面釉层4,陶瓷基板1、底釉层2、铜层3和面釉层4由下至上依次叠加设置。具体实施方式二:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的陶瓷基板1的厚度为1mm~2mm。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。具体实施方式三:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的陶瓷基板1的厚度为2mm。其它组成及连接关系与具体实施方式二相同。具体实施方式四:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的底釉层2的厚度为10μm~30μm。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。具体实施方式五:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的底釉层2的厚度为30μm。其它组成及连接关系与具体实施方式四相同。具体实施方式六:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的铜层3的厚度为20μm~40μm。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。具体实施方式七:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的铜层3的厚度为20μm。其它组成及连接关系与具体实施方式六相同。具体实施方式八:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的面釉层4的厚度为30μm~40μm。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。具体实施方式九:结合图1说明本实施方式,本实施方式所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构的面釉层4的厚度为35μm。其它组成及连接关系与具体实施方式八相同。本技术的制作步骤为:第一步:对陶瓷基板激光划线(做外形线控深);第二步:对陶瓷基板用超声波水洗;第三步:在陶瓷基板需要做线路面丝印底釉层,然后1300度高温烧结;第四步:线路制作,丝印线路金属;或者整板丝印,光刻加工线路;第五步:丝印面釉,把需要焊接的PAD露出来。以上所述,仅是本技术的较佳实施例而已,并非对本技术作任何形式上的限制,虽然本技术已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本技术,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本技术技术方案范围内,当可利用上述揭示的
技术实现思路
做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本技术技术方案内容,依据本技术的技术实质,在本技术的精神和原则之内,对以上实施例所作的任何简单的修改、等同替换与改进等,均仍属于本技术技术方案的保护范围之内。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,其特征在于:所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构包括陶瓷基板(1)、底釉层(2)、铜层(3)和面釉层(4),陶瓷基板(1)、底釉层(2)、铜层(3)和面釉层(4)由下至上依次叠加设置。

【技术特征摘要】
1.一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,其特征在于:所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构包括陶瓷基板(1)、底釉层(2)、铜层(3)和面釉层(4),陶瓷基板(1)、底釉层(2)、铜层(3)和面釉层(4)由下至上依次叠加设置。2.根据权利要求1所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,其特征在于:陶瓷基板(1)的厚度为1mm~2mm。3.根据权利要求2所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,其特征在于:陶瓷基板(1)的厚度为2mm。4.根据权利要求1所述一种用于降低厚膜工艺表面粗糙度的结构,其特征在于:底釉层(2)的厚度为10μ...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡朝阳
申请(专利权)人:深圳前海德旺通科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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