一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置制造方法及图纸

技术编号:14159712 阅读:155 留言:0更新日期:2016-12-12 02:36
本实用新型专利技术属于空气净化技术领域,尤其涉及一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置,由吸附盘、主电路板、静电放电钨针平衡器、铜箔组成,吸附盘与主电路板相连,吸附盘表面贴有铜箔,铜箔与静电放电钨针平衡器相连;吸附盘从中心层到外层依次分为:铝丝席状编制盘、铝网、钛酸钡涂层、二氧化硅玻璃;静电放电钨针平衡器包括塑料座,塑料座中间固定有不锈钢底座,多根钨针竖立于不锈钢底座上,不锈钢底座与铜箔相连;主电路板产生25000V直流高压电,供铝丝席状编制盘通电,在二氧化硅玻璃表面形成高密度的负氧离子聚集,形成强大吸力,从而吸引空间颗粒吸附。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于空气净化
,尤其涉及一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置
技术介绍
随着社会的发展,人们空气质量的要求越来越高,目前空气净化技术均采用风扇加滤网的方式来过滤空气中的颗粒,存在耗能高、定期更换滤网、成本高的缺点。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本技术提出了一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置,由吸附盘、主电路板、静电放电钨针平衡器、铜箔组成,吸附盘与主电路板相连,吸附盘表面贴有铜箔,铜箔与静电放电钨针平衡器相连;其中,吸附盘从中心层到外层依次分为:铝丝席状编制盘、铝网、钛酸钡涂层、二氧化硅玻璃;静电放电钨针平衡器包括塑料座,塑料座中间固定有不锈钢底座,多根钨针竖立于不锈钢底座上,不锈钢底座与铜箔相连。所述主电路板产生25000V直流高压电,供铝丝席状编制盘通电,在二氧化硅玻璃表面形成高密度的负氧离子聚集,形成强大吸力,从而吸引空间颗粒吸附。所述铝丝席状编制盘采用直径为500nm的纳米级铝丝编制,厚度5mm。所述铝网采用直径为0.1mm的铝丝编制。所述二氧化硅玻璃厚度为5mm。所述钛酸钡涂层厚度达0.1mm。所述吸附盘周边采用环氧树脂密封绝缘,吸附盘为环形结构。所述铜箔贴于吸附盘两面。所述静电放电钨针平衡器通过钨针将多余电荷扩散到空间中去,起到静电平衡作用。所述吸附盘在吸附颗粒之后断电,则可用抹布擦拭二氧化硅玻璃表面,将颗粒回收利用。本技术具有无风机,无滤网,无运动元件的主动吸附,良性回收性能,用纳米级铝丝网可最大增加电荷聚集密度,用钛酸钡化合物精密涂层,二者合用可使吸引力呈千倍放大。通+25000V左右的直流高压,在二氧化硅玻璃表面形成高密度的负氧离子聚集,形成强大吸力,从而吸引PM2.5以上及以下微粒,重金属颗粒,非金属颗粒,最大吸力可将1.5KG书本吸住,断电以后用抹布擦拭二氧化硅玻璃盘表面,将收集物回收利用。附图说明图1为本技术的硬件连接示意图。图2为本技术的吸附盘结构示意图。图3为本技术的静电放电钨针平衡器结构示意图。图4为本技术的主电路板的稳压电路原理图。图5为本技术的主电路板的升压电路原理图。1-吸附盘,2-主电路板,3-静电放电钨针平衡器,4-铜箔,5-颗粒,6-铝丝席状编制盘,7-铝网,8-钛酸钡涂层,9-二氧化硅玻璃,10-塑料座,11-不锈钢底座,12-钨针具体实施方式下面结合附图,对实施例作详细说明。如图1所示,一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置,由吸附盘 1、主电路板2、静电放电钨针平衡器3、铜箔4组成,吸附盘1与主电路板2相连,吸附盘1表面贴有铜箔4,铜箔4与静电放电钨针平衡器3相连;其中,如图2所示,吸附盘1从中心层到外层依次分为:铝丝席状编制盘6、铝网7、钛酸钡涂层8、二氧化硅玻璃9;如图3所示,静电放电钨针平衡器3包括塑料座10,塑料座10中间固定有不锈钢底座11,多根钨针12竖立于不锈钢底座11上,不锈钢底座11与铜箔4相连。主电路板2主要包括稳压电路和升压电路两部分,如图4所示,稳压电路将220V交流电压转换成12V电压、130V电压供升压电路使用,如图5所示,升压电路通过振荡器和变压器产生25000V直流高压电,电流为10微安级的电势供电,供铝丝席状编制盘6通电,在二氧化硅玻璃9表面形成高密度的负氧离子聚集,形成强大吸力,从而吸引空间颗粒吸附。所述铝丝席状编制盘6采用直径为500nm的纳米级铝丝编制,厚度5mm。所述铝网7采用直径为0.1mm的铝丝编制。所述二氧化硅玻璃9厚度为5mm。所述钛酸钡涂层8厚度达0.1mm。所述吸附盘1周边采用环氧树脂密封绝缘,吸附盘1为环形结构。所述铜箔4贴于吸附盘1两面。所述静电放电钨针平衡器3通过钨针12将多余电荷扩散到空间中去,起到静电平衡作用。所述吸附盘1在吸附颗粒5之后断电,则可用抹布擦拭二氧化硅玻璃9表面,将颗粒回收利用。此实施例仅为本技术较佳的具体实施方式,但本技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此,本技术的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。本文档来自技高网
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一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置

【技术保护点】
一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置,其特征在于,由吸附盘、主电路板、静电放电钨针平衡器、铜箔组成,吸附盘与主电路板相连,吸附盘表面贴有铜箔,铜箔与静电放电钨针平衡器相连;其中,吸附盘从中心层到外层依次分为:铝丝席状编制盘、铝网、钛酸钡涂层、二氧化硅玻璃;静电放电钨针平衡器包括塑料座,塑料座中间固定有不锈钢底座,多根钨针竖立于不锈钢底座上,不锈钢底座与铜箔相连。

【技术特征摘要】
1.一种用于吸引空间颗粒的库仑吸引复合夹层装置,其特征在于,由吸附盘、主电路板、静电放电钨针平衡器、铜箔组成,吸附盘与主电路板相连,吸附盘表面贴有铜箔,铜箔与静电放电钨针平衡器相连;其中,吸附盘从中心层到外层依次分为:铝丝席状编制盘、铝网、钛酸钡涂层、二氧化硅玻璃;静电放电钨针平衡器包括塑料座,塑料座中间固定有不锈钢底座,多根钨针竖立于不锈钢底座上,不锈钢底座与铜箔相连。2.根据权利要求1所述装置,其特征在于,所述主电路板产生25000V直流高压电,供铝丝席状编制盘通电,在二氧化硅玻璃表面形成高密度的负氧离子聚集,形成强大吸力,从而吸引空间颗粒吸附。3.根据权利要求1所述装置,其特征在于,所述铝丝席状编制盘采用直径为500nm的纳米级铝...

【专利技术属性】
技术研发人员:高云明史芳芳
申请(专利权)人:北京创世新境科技有限责任公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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