【技术实现步骤摘要】
本技术涉及母线槽领域技术,尤其是指一种软体高导电高分子软连接结构。
技术介绍
母线槽是由美国开发出来的,称之为“Bus-Way-System”的新的电路方式,它以铜或铝作为导体、用非烯性绝缘支撑,然后装到金属槽中而形成的新型导体。在日本真正实际应用是在昭和29年(即1954年),自那以后母线槽得到了发展。如今在高层建筑、工厂等电气设备、电力系统上成了不可缺少的配线方式。由于大楼、工厂等各种建筑电力的需要,而且这种需要有逐年增加的趋势,使用原来的电路接线方式,即穿管方式,施工时带来许多困难,而且,当要变更配电系统时,要使其变简单一些几乎是不可能的,然而,如果采用母线槽的话,非常容易就可以达到目的,另外还可使建筑物变得更加美观。母线槽在使用的过程中需要配合到变压器,现有技术中,变压器与母线槽之间的连接均采用硬连接结构,如此,变压器在工作时产生的共振容易通过硬连接结构传导至母线槽中,导致母线槽受到损害,并缩短了母线槽的使用寿命。
技术实现思路
有鉴于此,本技术针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种软体高导电高分子软连接结构,其能有效解决现有之变压器与母线槽之间的连接均采用硬连接结构导致母线槽受到损害的问题。为实现上述目的,本技术采用如下之技术方案:一种软体高导电高分子软连接结构,包括有多个高分子铜片,该多个高分子铜片由下往上依次叠合固定在一起,每一高分子铜片均包括有一体成型连接的第一连接部、软体折弯部和第二连接部。优选的,软体折弯部呈倒V型结构。本技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:通过采用多个高分子铜片由下往上依次叠合 ...
【技术保护点】
一种软体高导电高分子软连接结构,其特征在于:包括有多个高分子铜片,该多个高分子铜片由下往上依次叠合固定在一起,每一高分子铜片均包括有一体成型连接的第一连接部、软体折弯部和第二连接部。
【技术特征摘要】
1.一种软体高导电高分子软连接结构,其特征在于:包括有多个高分子铜片,该多个高分子铜片由下往上依次叠合固定在一起,每一高分子铜片均包括有一...
【专利技术属性】
技术研发人员:鲁川,
申请(专利权)人:广东思科通用电力科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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