易去污的聚砜过滤组合物制造技术

本发明专利技术提供一种易去污的聚砜过滤组合物，至少包含：芳族二卤代砜化合物、芳族二羟基化合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种聚砜过滤组合物，特别涉及一种易去污的聚砜过滤组合物。
技术介绍
聚砜是一种非晶性热塑性材料，其分子主链中含有砜基、醚基及芳环结构。由于它具有优良的耐热性、物理力学性能、化学稳定性、阻燃性等特点，已被广泛的应用于电器、机械设备、交通运输、航天航空、医疗器械等领域。聚砜因其未具有亲水性基团，而表现出强烈的疏水性，因此可以在潮湿环境下使用，抗老化性能好；但是也正由于其强烈的疏水性，容易造成由其制备得到的过滤材料污染，这一问题一直限制了其应用领域。常用的解决方法是对聚砜改性或者对其制品进行后期处理。但是在后期处理的过程中，往往出现不能永久使用的现象，而对聚砜改性又会影响聚砜本身的过滤性能。针对上述情况亟需一种具有易去污、同时具有较高过滤性能的聚砜过滤组合物，及由此得到的聚砜过滤材料，其可为过滤膜、过滤网、过滤板、过滤棉、过滤颗粒、过滤袋中的一种或多种。
技术实现思路
本专利技术涉及一种易去污的聚砜过滤组合物，至少包含：聚砜和物质1；其中，所述聚砜由芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物制备得到，其中，芳族二卤代砜化合物结构式为：X1-Ph1-SO2-Ph2-X2X1和X2每一个独立地是卤素原子；芳族二羟基化合物结构式为HO-Ph1-SO2-Ph2-OH、O-Ph3-R-Ph4-OH和HO-(Ph5)n-OH中的一种或多种；由Ph1和Ph5中任一个表示为亚苯基，存在于亚苯基中的氢原子每一个独立地可以被烷基或/和烷氧基取代；所述物质1的结构式如下：所述X基团为卤素；所述Y基团为含氧基团。作为一种实施方式，所述X基团为氟。作为一种实施方式，所述烷基或/和烷氧基的碳原子数C1-C6。作为一种实施方式，所述烷基选自甲基、乙基、丙基中的一种；所述烷氧基选自甲氧基、乙氧基中的一种。作为一种实施方式，所述物质1的制备原料至少包括：作为一种实施方式，所述芳族二卤代砜化合物、芳族二羟基化合物的摩尔比为(0.9-10.2)：1。所述的聚砜组合物，用于制备聚砜过滤材料。一种聚砜过滤材料，由所述的聚砜组合物制备。作为一种实施方式，所述的聚砜组合物，还包括：高分子添加剂：聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、聚乙烯醇中的一种或多种；小分子添加剂：表面活性剂、二甘醇二甲醚、无机盐、丙酸、醇类中的一种或多种；溶剂：二甲基乙酞胺、二甲基甲酞胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜中的一种或多种。一种制备所述的聚砜过滤材料，所述步骤为：(1)将适当摩尔比的芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物溶解在有机极性溶剂中，溶解温度为是40至180℃，加入碱金属盐，进行缩聚，缩聚反应温度为180至400℃，反应12-28小时，得到产物(1)；(2)将在芳基锂试剂下，得到中间体，然后在乙炔基镁下，加入制备得到物质1；(3)a：将步骤(2)制备得到的物质1和添加剂溶解在有机溶剂1中，得到物质1基溶液；将步骤(1)制备得到的产物(1)溶解在有机溶剂2中，混合两者溶液，搅拌；b：将步骤啊中溶液制成过滤材料。附图说明图1：物质1-1的核磁氢谱图2：过滤材料的一种示意图具体实施方式参选以下本专利技术的优选实施方法的详述以及包括的实施例可更容易地理解本专利技术的内容。除非另有限定，本文使用的所有技术以及科学术语具有与本专利技术所属领域普通技术人员通常理解的相同的含义。当存在矛盾时，以本说明书中的定义为准。如本文所用术语“由…制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。连接词“由…组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由…组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1至5”时，所描述的范围应被解释为包括范围“1至4”、“1至3”、“1至2”、“1至2和4至5”、“1至3和5”等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。单数形式包括复数讨论对象，除非上下文中另外清楚地指明。“任选的”或者“任意一种”是指其后描述的事项或事件可以发生或不发生，而且该描述包括事件发生的情形和事件不发生的情形。说明书和权利要求书中的近似用语用来修饰数量，表示本专利技术并不限定于该具体数量，还包括与该数量接近的可接受的而不会导致相关基本功能的改变的修正的部分。相应的，用“大约”、“约”等修饰一个数值，意为本专利技术不限于该精确数值。在某些例子中，近似用语可能对应于测量数值的仪器的精度。在本申请说明书和权利要求书中，范围限定可以组合和/或互换，如果没有另外说明这些范围包括其间所含有的所有子范围。此外，本专利技术要素或组分前的不定冠词“一种”和“一个”对要素或组分的数量要求(即出现次数)无限制性。因此“一个”或“一种”应被解读为包括一个或至少一个，并且单数形式的要素或组分也包括复数形式，除非所述数量明显旨指单数形式。“聚合物”意指通过聚合相同或不同类型的单体所制备的聚合化合物。通用术语“聚合物”包含术语“均聚物”、“共聚物”、“三元共聚物”与“共聚体”。“共聚体”意指通过聚合至少两种不同单体制备的聚合物。通用术语“共聚体”包括术语“共聚物”(其一般用以指由两种不同单体制备的聚合物)与术语“三元共聚物”(其一般用以指由三种不同单体制备的聚合物)。其亦包含通过聚合四或更多种单体而制造的聚合物。“共混物”意指两种或两种以上聚合物通过物理的或化学的方法共同混合而形成的聚合物。本专利技术涉及一种易去污的聚砜过滤组合物，至少包含：聚砜和物质1；其中，所述聚砜由芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物制备得到，其中，芳族二卤代砜化合物结构式为：X1-Ph1-SO2-Ph2-X2X1和X2每一个独立地是卤素原子；芳族二羟基化合物结构式为HO-Ph1-SO2-Ph2-OH、O-Ph3-R-Ph4-OH和HO-(Ph5)n-OH中的一种或多种；由Ph1和Ph5中任一个表示为亚苯基，存在于亚苯基中的氢原子每一个独立地可以被烷基或/和烷氧基取代；所述物质1的结构式如下：所述X基团为卤素；所述Y基团为含氧基团。聚砜：聚砜是分子主链中含有烃基-SO2链节的热塑性树脂，其包括聚芳砜和聚醚砜两种。聚芳砜是具有含芳基(即，通过从芳族化合物中除去键合至其芳环的两个氢原子获得的残基)和磺酰基(-SO2-)的重复单元的树脂。芳族聚砜树脂可以适当地通过使用碳酸的碱金属盐在高度极性的有机溶剂中使相应的芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物缩聚来产生。例如，使用由下式(4)表示的化合物作为芳族二卤代砜化合物，和使用由下式(5)表示的化合物作为芳族二羟基化合本文档来自技高网...

【技术保护点】
易去污的聚砜过滤组合物，至少包含：聚砜和物质1；其中，所述聚砜由芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物制备得到，其中，芳族二卤代砜化合物结构式为：X1‑Ph1‑SO2‑Ph2‑X2X1和X2每一个独立地是卤素原子；芳族二羟基化合物结构式为HO‑Ph1‑SO2‑Ph2‑OH、O‑Ph3‑R‑Ph4‑OH和HO‑(Ph5)n‑OH中的一种或多种；由Ph1和Ph5中任一个表示为亚苯基，存在于亚苯基中的氢原子每一个独立地可以被烷基或/和烷氧基取代；所述物质1的结构式如下：所述X基团为卤素；所述Y基团为含氧基团。

【技术特征摘要】
1.易去污的聚砜过滤组合物，至少包含：聚砜和物质1；其中，所述聚砜由芳族二卤代砜化合物和芳族二羟基化合物制备得到，其中，芳族二卤代砜化合物结构式为：X1-Ph1-SO2-Ph2-X2X1和X2每一个独立地是卤素原子；芳族二羟基化合物结构式为HO-Ph1-SO2-Ph2-OH、O-Ph3-R-Ph4-OH和HO-(Ph5)n-OH中的一种或多种；由Ph1和Ph5中任一个表示为亚苯基，存在于亚苯基中的氢原子每一个独立地可以被烷基或/和烷氧基取代；所述物质1的结构式如下：所述X基团为卤素；所述Y基团为含氧基团。2.权利要求1所述的聚砜组合物，所述X基团为氟。3.权利要求1所述的聚砜组合物，所述烷基或/和烷氧基的碳原子数C1-C6。4.权利要求3所述的聚砜组合物，所述烷基选自甲基、乙基、丙基...

【专利技术属性】
技术研发人员：张勇，
申请(专利权)人：上海超高环保科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31