表面处理粉体制造技术

本发明专利技术在于提供一种表面处理粉体，即通过干燥时为疏水性，与水接触时变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言，为粉体表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆盖的表面处理粉体，式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面处理粉体及含有该表面处理粉体的化妆料。
技术介绍
由于化妆产品、防晒产品等的化妆料1整天被涂布于肌肤，所以寻求化妆保持性的良好度。因此，为了不发生汗、泪等水分引起的脱妆，通过高级脂肪酸、氟化合物、有机硅等疏水性的表面处理剂对化妆料中所包含的粉体进行疏水(water-repelling)化处理。然而，虽然实施了疏水化处理的粉体的化妆保持性提高，但由于清洗时变得难以用水洗掉，所以必须使用专用的洁肤剂、反复清洗数次才能洗掉。若将粉体进行亲水化处理，则冲洗性提高，但是由于亲水性粉体的化妆保持性变差，故而必须频繁地进行补妆。即，难于使需要疏水性的化妆保持性与需要亲水性的冲洗性并存。专利文献1记载了由有机硅构成的表面处理剂，专利文献2记载了由丙烯酸类及/或其酯的共聚物构成的表面处理剂，专利文献3记载了由烷基氟改性有机硅油构成的表面处理剂。此外，专利文献4记载了由甲基丙烯酰胺十一酸与丙烯酰胺甲磺酸钠构成的耐水性与易冲洗性并存的表面处理剂。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开昭60-163973号公报专利文献2日本特开平8-337514号公报专利文献3日本特开平8-143423号公报专利文献4日本专利第4681406号公报
技术实现思路
本专利技术在于提供下述表面处理粉体，即通过干燥时为疏水性，与水接触时变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。用于解决上述课题的方法如下所示。1.一种表面处理粉体，其特征在于，粉体表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆盖，(式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。)2.根据1.所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R1、R2为碳原子数1～4的烷基或苯基。3.根据2.所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R1、R2同为甲基。4.根据1.～3.中任一项所述的表面处理粉体，其特征在于，粉体表面被所述第1嵌段共聚物和下述通式(2)表示的第2嵌段共聚物的混合物所覆盖，式(2)中，R3、R4各自独立地表示氢原子、烷基、苯基、烷氧基，W表示氢原子或甲基，Z2表示氢原子或甲基，p、q表示聚合度。5.根据4.所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R4为氢原子、碳原子数1～4的烷基或碳原子数1～4的醚基。6.根据5.所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R4同为氢原子。7.根据4.～6.中任一项所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第1嵌段共聚物与所述第2嵌段共聚物的重量比为1：0.5～1：10的范围。8.根据1.～7.中任一项所述的表面处理粉体，其特征在于，所述粉体为氧化钛、二氧化硅、云母、滑石、碳酸钙、氧化铁、氧化铝、氧化锌、氧化铁红、氮化硼、氮化硅、硼硅酸钙、硫酸钡、氧化钛覆盖合成云母、合成氟代金云母、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚乙二烯、聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯中的任一个。9.一种化妆料，其特征在于，含有1.～8.中任一项所述的表面处理粉体。由于本专利技术的表面处理粉体在干燥环境下显示疏水性、在湿润环境下显示亲水性，所以当用作化妆料中的粉体时，可得到使用时化妆保持性优异，且清洗时易于冲洗的化妆料。附图说明图1为由第1嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。图2为由第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。图3为由第1嵌段共聚物与第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。图4为第1嵌段共聚物的1H-NMR图谱。图5为表示作为沉淀回收的表面处理粉体的比例的图。图6为表示分散液的透过率的图。图7为表示分散液的透过率的图。图8为表示耐水性评价时与冲洗性评价时的明度变化的图。符号说明1.Q片段2.PTMC片段3.PEG片段4.D-PTMC片段具体实施方式本专利技术的表面处理粉体的特征在于粉体表面被特定的嵌段共聚物所覆盖。作为本专利技术中使用的粉体没有特别限定，例如，可列举氧化钛、二氧化硅、云母、滑石、碳酸钙、氧化铁、氧化铝、氧化锌、氧化铁红、氮化硼、氮化硅、硼硅酸钙、硫酸钡、氧化钛覆盖合成云母、合成氟代金云母、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚乙二烯、聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等。通常而言，由于不同种类的高分子不相溶，所以混合时会分离，然而由于嵌段共聚物的不同种类的高分子链通过共价键而连接，所以在宏观尺度(macro scale)上无法分离。因此，嵌段共聚物的具有不同重复单元的片段彼此要尽可能分离，则发生以分子链的大小程度进行分离的微相分离。在高分子链具有流动性的玻璃化温度以上，根据外部环境嵌段共聚物一侧的片段向表面移动，以便表面能变得更低。即，根据周围的环境发生片段的再取向，从而引起一侧的片段在表面偏在的表面偏析。嵌段共聚物的表面偏析可通过X射线光电子分光法、能量分散型X射线分析法、傅立叶变换红外分光计-衰减全反射法、透射电子显微镜等进行观察。由于本专利技术的表面处理粉体的表面被嵌段共聚物所覆盖，所以在形成嵌段共聚物的具有不同重复单元的片段中，干燥下更为疏水的片段在表面发生偏析，湿润下更为亲水的片段在表面发生偏析。其次，通过该表面偏
析，本专利技术的表面处理粉体在干燥时为疏水性而与水接触等时慢慢变为亲水性。因此，当将本专利技术的表面处理粉体应用于化妆料时，可使化妆保持性与冲洗性并存。在此，形成本专利技术粉体的表面处理所使用的嵌段共聚物的片段没有必要为亲水性和疏水性的片段，只要相对地与亲水性的程度有差别即可。即，也可为由疏水性片段与疏水性片段构成的嵌段共聚物。“第1嵌段共聚物”本专利技术中使用的第1嵌段共聚物如下述通式(1)所示。式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。当R1、R2的分子结构的体积大时，由于运动性降低从而相对于环境变化的响应性降低，所以优选碳原子数1～4的烷基、苯基，最优选甲基。X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链。由于烷基链长时结晶性增高，分子链的运动性降低，所以更优选碳原子数为1～12，进一步优选1～8。具体而言，可列举甲基、乙基、丙基、2-丙基、丁基、叔丁基、辛基等。作为Y表示的2价的连接基团，优选碳原子数15以下的连接基团，更优选碳原子数10以下的连接基团。具体而言，例如，可列举亚烷基、亚芳基、羰基、磺酰基、羰氧基、羰氨基、磺酰胺基、醚基、硫醚基、二硫基、酰基、烷基磺酰基、-CH＝CH-、-C≡C-、氨基羰氨基、氨基磺酰氨基及它们多个连接而成的连接基团。在它们之中，从分子结构柔软的观点出发，优选亚烷基、醚基的组合。具体而言，可列举-O-、-C2H4
O-、-C2H4OC2H4O-、-C3H6(OC2H4)nO-(n＝0～5)等。Z1表示氢原子或者甲基。此外，只要第1嵌段共聚物的数均分子量在1,000～100,000的范围，则可没有特别限制地进行使用。当数均分子量小于1,000时，难以附着于粉体表面，从而作为表面处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面处理粉体，其特征在于，粉体表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆盖，式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。

【技术特征摘要】
2014.08.28 JP 2014-1742481.一种表面处理粉体，其特征在于，粉体表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆盖，式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。2.根据权利要求1所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R1、R2为碳原子数1～4的烷基或苯基。3.根据权利要求2所述的表面处理粉体，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R1、R2同为甲基。4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面处理粉体，其特征在于，粉体表面被所述第1嵌段共聚物和下述通式(2)表示的第2嵌段共聚物的混合物所覆盖，式(2)中，R3、R4各自独立地表示氢原子、烷基、苯基、烷...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩本千纮，粂井贵行，渡边顺司，
申请(专利权)人：株式会社芳珂，
类型：发明
国别省市：日本;JP