一种硅片清洗后跨区域传递窗制造技术
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及到单晶硅片生产中的硅圆抛光清洗，具体的说是一种硅片清洗后跨区域传递窗。
技术介绍
硅片清洗是硅圆制造业中的重要部分，是保证硅片表面洁净度的重要手段。现在硅圆制造过程中，清洗工序多达几十道。这些清洗工序贯穿整个生产流程，往往处于不同的厂房或不同的洁净区域。连续清洗时，出料方式往往为湿法出料。目前普便使用水箱作为洗出的带水硅片的传递与存放器具。水箱材质多为PP，内盛放能没过硅片的纯水，一定时间后更换水箱内纯水来确保水箱内水的洁净度。在不同区域流转时，往往是通过将水箱放入传递窗内完成传递过程。 通过水箱跨区域传递带水硅片存在一些问题：水箱从低洁净度区域传递进入高洁净度区域，尽管传递窗内有吹风，但水箱带水，不易去除颗粒，仍会给高洁净度区域带来污染；水箱内的水更换不及时会对硅片表面质量造成影响，尤其是物料流转不及时时，会造成硅片表面颗粒高或引入沾污。
技术实现思路
为解决现有的传递窗在传递带水硅片时存在的将低洁净度区域的颗粒带入到高洁净度区域所导致的高洁净度区域污染的问题，本技术提供了一种硅片清洗后跨区域传递窗，使传递窗不但具有原传递窗功能，可用于非洁净区与洁净区之间的小件物品的传递，最大限度的降低洁净区的污染，还兼具水槽功能，能作为带水硅片的存放装置。本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种硅片清洗后跨区域传递窗，包括沟通两个区域的传递通道和设置在传递通道两侧的带电磁互锁窗门，以限定两个窗门只能单独打开，所述传递通道内设置有水槽、向水槽内注入纯水的进水管和排出水槽内纯水的排水管，水槽的底部设置有若干排水槽底座，相邻两排水槽底座之间具有间隙，且这两...
【技术保护点】
一种硅片清洗后跨区域传递窗，包括沟通两个区域的传递通道（1）和设置在传递通道（1）两侧的带电磁互锁窗门（2），以限定两个窗门（2）只能单独打开，其特征在于：所述传递通道（1）内设置有水槽（3）、向水槽（3）内注入纯水的进水管（4）和排出水槽（3）内纯水的排水管（5），水槽（3）的底部设置有若干排水槽底座（6），相邻两排水槽底座（6）之间具有间隙，且这两排水槽底座（6）相对的侧面上具有三个台阶，以使这三个台阶上分别卡设6英寸、5英寸和4英寸的硅片片盒。
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗后跨区域传递窗，包括沟通两个区域的传递通道（1）和设置在传递通道（1）两侧的带电磁互锁窗门（2），以限定两个窗门（2）只能单独打开，其特征在于：所述传递通道（1）内设置有水槽（3）、向水槽（3）内注入纯水的进水管（4）和排出水槽（3）内纯水的排水管（5），水槽（3）的底部设置有若干排水槽底座（6），相邻两排水槽底座（6）之间具有间隙，且这两排水槽底座（6）相对的侧面上具有三个台阶，以使这三个台阶上分别卡设6英寸、5英寸和4英寸的硅片片...
【专利技术属性】
技术研发人员：张倩，王峥，史舸，邵奇，魏海霞，
申请(专利权)人：麦斯克电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41
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