一种基板及其制备方法、显示面板、掩模板技术

本发明专利技术提供一种基板及其制备方法、显示面板、掩模板，涉及显示技术领域，可改善现有技术中因端差而引起的显示面板显示不均匀的现象。所述基板包括布线区，所述布线区中设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走线与所述走线之间的间隙具有高度差；还包括填平层，所述填平层包括设置在所述走线之间间隙处的填平图案，用于降低所述走线与所述走线之间间隙的高度差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板及其制备方法、显示面板、掩模板。
技术介绍
随着显示技术的发展，LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)显示、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示、柔性显示等广泛地应用于各个领域。其中，为了提高基板的开口率，通常会根据基板的结构，将基板上的走线合理的排布在基板非显示区的布线区。如图1所示，基板布线区设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线10，第一方向与第二方向相交，导致走线10具有拐角。其中，为了防止同层设置的走线10发生短路或者异层设置的走线10之间产生干扰，走线10之间通常会设置有间隙，而走线10与走线之间的间隙会具有一个高度差。这样一来，走线10远离衬底一侧的其他膜层在成膜的过程中，位于间隙内拐角位置处的膜层相对位于间隙内非拐角位置处的膜层，会出现端差，导致显示面板显示不均匀(斜向污渍)，从而降低产品良率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板、掩模板，可改善现有技术中因端差而引起的显示面板显示不均匀的现象。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种基板，包括布线区，所述布线区中设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走线与所述走线之间的间隙具有高度差；还包括填平层，所述填平层包括与所述走线之间的间隙对应的填平图案，用于降低所述走线与所述走线之间间隙的高度差。优选的，所述走线包括第一子走线；所述基板还包括显示区，所述显示区包括第一信号线；所述第一子走线与所述第一信号线同层且电连接；所述填平层的厚度与所述第一子走线的厚度相同。进一步优选的，所述显示区还包括第二信号线，所述第二信号线与所述第一信号线异层设置；所述走线还包括第二子走线；所述第二子走线与所述第二信号线同层且电连接；所述第二子走线与所述第一子走线间隔排布，且所述第二子走线与所述第一子走线的厚度相同。优选的，所述第一信号线为栅线；所述栅线靠近所述基板的衬底设置；所述基板还包括与所述栅线同层且电连接的栅极、依次设置在所述栅极远离所述衬底一侧的栅绝缘层、有源层、以及源极和漏极；所述填平层设置在所述栅绝缘层远离所述衬底的表面。优选的，所述第一信号线为栅线，所述第二信号线为数据线；所述栅线靠近所述基板的衬底设置；所述基板还包括与所述栅线同层且电连接的栅极、依次设置在所述栅极远离所述衬底一侧的栅绝缘层、有源层、与所述数据线同层的源极和漏极、以及钝化层；所述填平层设置在所述钝化层远离所述衬底的表面。优选的，所述填平层的材料包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一种。基于上述，优选的，所述填平层仅设置在所述布线区。第二方面，提供一种显示面板，包括第一方面所述的基板。第三方面，提供一种基板的制备方法，所述基板包括布线区，所述布线区中形成有沿第一方向至第二方向延伸的走线，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走线与所述走线之间的间隙具有高度差；所述方法还包括在所述基板的衬底上形成填平层，所述填平层包括形与所述走线之间的间隙对应的填平图案，用于降低所述走线与所述走线之间间隙的高度差。优选的，所述走线包括第一子走线；在形成所述第一子走线时，还在显示区形成与所述第一子走线连接的栅线、与所述栅线连接的栅极；所述方法还包括：在形成有所述栅极、栅线的所述衬底上，依次形成栅绝缘层、有源层、数据线、源极和漏极；其中，所述填平层形成在所述栅绝缘层之后所述有源层之前；所述填平层的厚度与所述第一子走线的厚度相同。优选的，所述走线包括第一子走线和第二子走线，所述第一子走线和所述第二子走线间隔排布；在形成所述第一子走线时，还在显示区形成与所述第一子走线连接的栅线、与所述栅线连接的栅极；所述方法还包括：在形成有所述栅极、栅线的所述衬底上，依次形成栅绝缘层、有源层、数据线、源极和漏极、以及钝化层；所述数据线、源极和漏极与所述第二子走线同时形成；其中，所述填平层形成在所述钝化层之后；所述第二子走线、所述第一子走线、以及所述填平层的厚度均相同。第四方面，提供一种掩模板，用于上述的基板的制备方法中形成填平层，所述掩模板包括间隔排布的完全透光部分和完全不透光部分，所述完全透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。或者，所述完全不透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。本专利技术的实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板、掩模板，通过在走线之间的间隙对应处设置填平图案，来降低走线与走线之间的间隙位置处的高度差，这样一来，走线远离衬底一侧的其他膜层在成膜的过程中，位于间隙内拐角位置处的膜层相对位于间隙内非拐角位置处的膜层，出现端差的严重程度会减弱，当将基板应用于显示面板时，可改善现有技术中因端差原因引起的显示面板显示不均匀(斜向污渍)的现象，因而可提高产品良率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的一种布线区内走线的排布方式；图2为本专利技术实施例提供的一种布线区的俯视示意图一；图3(a)为图2中沿AA′向的截面示意图一；图3(b)为图2中沿AA′向的截面示意图二；图4(a)为本专利技术实施例提供的一种基板的俯视示意图一；图4(b)为图4(a)中沿BB′向的截面示意图；图5(a)为本专利技术实施例提供的一种布线区的俯视示意图二；图5(b)为图5(a)中沿CC′向的截面示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种布线区的俯视示意图三；图7(a)为本专利技术实施例提供的一种基板的俯视示意图二；图7(b)为图7(a)中沿DD′向的截面示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种基板的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种基板的制备方法的流程图一；图10为本专利技术实施例提供的一种基板的制备方法的流程图二；图11为本专利技术实施例提供的一种掩模板的俯视示意图一；图12为本专利技术实施例提供的一种掩模板的俯视示意图二。附图标记:01-布线区；02-显示区；03-非显示区；100-衬底；10-走线；11-第一子走线；12-第二子走线；20-填平层；21-填平图案；30-第一信号线；31-栅极；32-栅绝缘层；40-第二信号线；41-有源层；42-源极；43-漏极；50-钝化层；200-掩模板；210-完全透光区；220-完全不透光区。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种基板，如图2、图3(a)和图3(b)所示，包括布线区01，布线区01中设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线10，第一方向和第二方向相交；走线10与走线之间的间隙具有高度差；还包括填平层20，所述填平层20包括与走线10之间的间隙对应的填平图案21，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板，包括布线区，所述布线区中设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走线与所述走线之间的间隙具有高度差；其特征在于，还包括填平层，所述填平层包括与所述走线之间的间隙对应的填平图案，用于降低所述走线与所述走线之间间隙的高度差。

【技术特征摘要】
1.一种基板，包括布线区，所述布线区中设置有沿第一方向至第二方向延伸的走线，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走线与所述走线之间的间隙具有高度差；其特征在于，还包括填平层，所述填平层包括与所述走线之间的间隙对应的填平图案，用于降低所述走线与所述走线之间间隙的高度差。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述走线包括第一子走线；所述基板还包括显示区，所述显示区包括第一信号线；所述第一子走线与所述第一信号线同层且电连接；所述填平层的厚度与所述第一子走线的厚度相同。3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述显示区还包括第二信号线，所述第二信号线与所述第一信号线异层设置；所述走线还包括第二子走线；所述第二子走线与所述第二信号线同层且电连接；所述第二子走线与所述第一子走线间隔排布，且所述第二子走线与所述第一子走线的厚度相同。4.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一信号线为栅线；所述栅线靠近所述基板的衬底设置；所述基板还包括与所述栅线同层且电连接的栅极、依次设置在所述栅极远离所述衬底一侧的栅绝缘层、有源层、以及源极和漏极；所述填平层设置在所述栅绝缘层远离所述衬底的表面。5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述第一信号线为栅线，所述第二信号线为数据线；所述栅线靠近所述基板的衬底设置；所述基板还包括与所述栅线同层且电连接的栅极、依次设置在所述栅极远离所述衬底一侧的栅绝缘层、有源层、与所述数据线同层的源极和漏极、以及钝化层；所述填平层设置在所述钝化层远离所述衬底的表面。6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述填平层的材料包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一种。7.根据权利要求1-6任一项所述的基板，其特征在于，所述填平层仅设置在所述布线区。8...

【专利技术属性】
技术研发人员：林海云，赵清辉，李东朝，王世超，李京鹏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11