用于处理衬底的装置和方法制造方法及图纸

一种用于处理衬底的装置包括：注射构件，其具有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴配置成向安装在支撑单元上的衬底供应第一化学品，所述第二喷嘴配置成向安装在支撑单元上的衬底供应与第一化学品不同的第二化学品；和控制器，其配置成在供应第二化学品之前供应第一化学品并控制待供应的第一化学品，所述第一化学品根据安装在支撑单元上的衬底上的薄膜类型而不同。

【技术实现步骤摘要】

在本文中描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种用于处理衬底的装置和方法。
技术介绍
留在衬底表面上的污染物(诸如颗粒、有机污染物和金属污染物)恶化了半导体装置的特性和产品产量。为此，用于去除附着在衬底表面上的各种类型的污染物的清洗工艺在半导体制备中非常重要。这种清洗衬底的工艺在半导体制备的各个单位步骤之前和之后都要执行。通常，清洗衬底包括：用于去除留在衬底上的外来金属衬底、有机物质或颗粒的化学处理工艺、用于利用去离子水去除留在衬底上的化学品的冲洗工艺和用于使用有机溶剂、超临界流体或氮气对衬底进行干燥的干燥工艺。通常，在类似清洗工艺等的工艺期间，在将化学品供应到衬底上以处理衬底时，如果该化学品被直接供应到具有薄膜的衬底上，则由于化学品和衬底之间的摩擦而产生静电，从而造成用于向整个衬底表面散布化学品的时间延长。因此，在该工艺期间产生的水渍或烟气被吸附至衬底并损伤衬底，其中，该水渍是由飞溅在该衬底的暴露的表面上的化学品导致的。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方式提供一种用于预防由衬底和化学品之间的摩擦引起的静电的装置和方法。本专利技术构思的实施方式提供一种用于缩短用于向衬底散布化学品的时间的装置和方法。本专利技术构思的实施方式提供一种用于预防对衬底的损伤的装置和方法。根据本专利技术构思的主题并非限制于上述主题，但本领域技术人员可以从说明书和附图做出清晰的解释。本专利技术构思的实施方式的一方面旨在提供一种用于处理衬底的装置，包括：外壳，其配置成为衬底处理工艺提供内部空间；支撑单元，其位于所述外壳中且用于将所述衬底安装在所述支撑单元上；注射构件，其具有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应第一化学品，所述第二喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应与所述第一化学品不同的第二化学品；和控制器，其配置成在供应所述第二化学品之前供应所述第一化学品并控制待供应的所述第一化学品，所述第一化学品根据安装在所述支撑单元上的所述衬底上的薄膜的类型而不同。所述控制器可以配置成：如果所述薄膜是疏水膜，则所述控制器控制使得作为化学品待供应的第一化学品含有异丙醇。所述控制器可以配置成：如果所述薄膜是亲水膜，则所述控制器控制使得作为化学品待供应的第一化学品含有去离子水。本专利技术构思的实施方式的另一方面旨在提供一种处理衬底的方法，包括：通过向所述衬底供应预湿化学品来对所述衬底进行预处理；以及在所述预处理之后，通过向所述衬底供应处理化学品来对所述衬底进行处理，其中，所述预处理包括供应根据所述衬底上的薄膜的类型而不同的所述预湿化学品。如果所述薄膜是疏水膜，则所述预湿化学品可以含有异丙醇。如果所述薄膜是亲水膜，则所述预湿化学品可以含有去离子水。附图说明上述和其他目的和特征通过以下参照附图的描述将变得清晰，其中在所有不同的附图中相同的附图标记指的是相同的部分，除非另有说明，并且其中：图1是示意性示出根据本专利技术构思的实施方式的具有衬底处理装置的衬底处理设备的例子的平面图；图2是示出设置在图1中的加工室的衬底处理装置的例子的截面图。具体实施方式在下文中，将结合附图对本专利技术构思的实施方式进行描述。本专利技术构思的实施方式可以以各种形式修改并且本专利技术构思的范围并非解释为仅限于以下实施方式。这些实施方式将被提供以帮助本领域技术人员尽可能完全理解本专利技术构思。附图的形状或图案被放大以便更清楚地示出附图中元件的结构配置。本专利技术构思的实施方式将对用于清洗衬底的衬底处理装置进行描述。然而，本专利技术构思可以不是限制性的而是可以应用于用以向衬底散布化学品的各种类型的装置。在下文中将结合图1和图2对本专利技术构思的实施方式进行详细的描述。图1是示意性示出根据本专利技术构思的实施方式的具有衬底处理装置的衬底处理装置1的例子的平面图。参照图1，衬底处理装置1可以包括分度模块10和工艺执行模块20。分度模块10可以包括载入埠120和传送架140。载入埠120、传送架140和工艺执行模块20可以依次排列。载入埠120、传送架140和工艺执行模块20的排列方向将在下文中称作“第一方向12”。从装置的顶部看垂直于第一方向12的方向将在下文中称作“第二方向14”。垂直于包括第一方向12和第二方向14的面的方向将在下文中称作“第三方向16”。容纳衬底W的载具130可以设在载入埠120中。可以设置多个载入埠120。多个载入埠120可以沿第二方向14排成一行。虽然图1示出具有四个载入埠120，但是载入埠120的个数还可以根据工艺执行模块20占用面积和加工效率的情况而增加或减少。在载具130中，可以形成插槽(未示出)以支撑衬底W的边缘。可以沿第三方向16设置多个插槽并且衬底W可以沿第三方向16相互隔离地堆叠在载具130中。载具130可以使用前端开口片盒(FOUP)。工艺执行模块20可以包括缓冲单元220、传送室240和加工室260。传送室240的长度方向可以平行于第一方向12。加工室260可以布置在传送室240在第二方向14上的一侧和另一侧。置于传送室240一侧的加工室260可以相对于传送室240与置于传送室240另一侧的加工室260相对称。一部分加工室260可以沿传送室240的长度方向布置。此外，一部分加工室260可以相互堆叠。例如，加工室260可以以A×B(A和B是等于或大于1的自然数)的排列布置在传送室240的一侧。A表示排列在沿第一方向12的线上的加工室260的数目以及B表示排列在沿第三方向16的线上的加工室260的数目。在传送室240的一侧设置4个或6个加工室260时，加工室260可以以2×2或3×2的排列布置。加工室260的数目还可以增加或减小。不同于上述配置，加工室260可以仅设置在传送室240的一侧。此外，不同于上述配置，加工室260可以以单层设置在传送室240的一侧和另一侧。缓冲单元220可以设置在传送架140和传送室240之间。缓冲单元220可以在传送室240和传送架140之间提供用于衬底W在被搬运之前所停留的空间。缓冲单元220可以在内部具有安装衬底W的插槽(未示出)，并且可以设置多个在第三方向16相互隔离的插槽(未示出)。在缓冲单元220中，面向传送架140的表面和面向传送室240的表面可以分别打开。传送架140可以在缓冲单元220和设在载入埠120中的载具130之间搬运衬底W。传送架140可以具有分度轨道142和分度机器人144。分度轨道142的长度方向可以沿第二方向14设置。分度机器人144可以安装在分度轨道142上并可以沿着第二方向14在分度轨道142上以直线路线移动。分度机器人144可以包括底座144a、主体144b和分度臂144c。底座144a可以安装成沿分度轨道142可移动。主体144b可以耦合于底座144a。主体144b可以设置成沿第三方向16在底座144a上可移动。此外，主体144b可以设置成在底座144a上可旋转。分度臂144c可以耦合于主体144b并可以设置成相对于主体144b可前后移动。可以设置多个分度臂144c并且各分度臂144c可以单独被驱动。分度臂144c可以沿第三方向16相互隔离地堆叠。一部分分度臂144c可以用来将衬底W从工艺执行模块20搬运到载具130，并且另一部分分度臂144c可以用来将衬底W从载具130搬运到工艺执行模本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理衬底的装置，所述装置包括：外壳，其配置成为衬底处理工艺提供内部空间；支撑单元，其位于所述外壳中且用于将所述衬底安装在所述支撑单元上；注射构件，其具有第一喷嘴和第二喷嘴，其中，所述第一喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应第一化学品，所述第二喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应与所述第一化学品不同的第二化学品；和控制器，其配置成在供应所述第二化学品之前供应所述第一化学品并控制待供应的所述第一化学品，所述第一化学品根据安装在所述支撑单元上的所述衬底上的薄膜的类型而不同。

【技术特征摘要】
2015.05.29 KR 10-2015-00765241.一种用于处理衬底的装置，所述装置包括：外壳，其配置成为衬底处理工艺提供内部空间；支撑单元，其位于所述外壳中且用于将所述衬底安装在所述支撑单元上；注射构件，其具有第一喷嘴和第二喷嘴，其中，所述第一喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应第一化学品，所述第二喷嘴用于向安装在所述支撑单元上的所述衬底供应与所述第一化学品不同的第二化学品；和控制器，其配置成在供应所述第二化学品之前供应所述第一化学品并控制待供应的所述第一化学品，所述第一化学品根据安装在所述支撑单元上的所述衬底上的薄膜的类型而不同。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金大民，李瑟，李福圭，李载明，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR