【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及功能性溥膜
,尤其涉及一种水氧阻隔膜及其制备方法。
技术介绍
为保障电子元器件的性能,通常在使用中需要对电子元器件的薄膜功能体进行封装,以达到水氧阻隔的效果。现有的水氧阻隔膜大多以PET基材为,目前,最好的阻隔是镀铝,但是镀铝后,就没有了透光性,光学性能的下降导致了镀铝水氧阻隔膜的应用受到限制,而且PET基材本身水氧阻隔性能差,因此,本专利技术的目在于研究开发一种水氧阻隔效果好的水氧阻隔膜。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种透光率高且阻隔效果好的水氧阻隔膜。本专利技术的另一个目的在于提供一种制备上述水氧阻隔膜的方法。为了解决上述技术的问题,本专利技术采用的技术方案是:一种水氧阻隔膜,包括一个COP基材,所述COP基材的上下表面各涂布有一层水氧阻隔涂层,所述水氧阻隔涂层由石墨烯和聚氨酯丙烯酸树脂构成。优选的,所述COP基材的厚度为20-100μm,所述水氧阻隔涂层的厚度为3-6μm。优选的,所述水氧阻涂层中,按重量份计由5~10份的石墨烯和100聚氨酯丙烯酸树脂组成。优选的,所述COP基材经过500Wmin/m2的电晕预处理。优选的,所述水氧阻隔涂层通过网纹辊涂布的方式涂布到所述COP基材上。一种制备上述水氧阻隔膜的方法,包括以下步骤:(1)COP基材电晕预处理:将COP基材经过500Wmin/m2的预处理;(2)水氧阻隔材料制备:将石墨烯在机械搅拌的方式下,添加到聚氨酯丙烯酸树脂清漆中,静置;(3)将步骤(2)中制备好的水氧阻隔材料涂布到COP基材上,制成水氧阻隔膜。优选的,步骤(2)中,将5~10份的石墨烯在机械搅拌作用下 ...
【技术保护点】
一种水氧阻隔膜,其特征在于:包括一个COP基材,所述COP基材的上下表面各涂布有一层水氧阻隔涂层,所述水氧阻隔涂层由石墨烯和聚氨酯丙烯酸树脂构成。
【技术特征摘要】
1.一种水氧阻隔膜,其特征在于:包括一个COP基材,所述COP基材的上下表面各涂布有一层水氧阻隔涂层,所述水氧阻隔涂层由石墨烯和聚氨酯丙烯酸树脂构成。2.根据权要求1所述的水氧阻隔膜,其特征在于:所述COP基材的厚度为20-100μm,所述水氧阻隔涂层的厚度为3-6μm。3.根据权利要求1所述的一种水氧阻隔膜,其特征在于:所述水氧阻涂层中,按重量份计由5~10份的石墨烯和100聚氨酯丙烯酸树脂组成。4.根据权利要求1所述的一种水氧阻隔膜,其特征在于:所述COP基材经过500Wmin/m2的电晕预处理。5.根据权利要求3所述的一种水氧阻隔膜,其特征在于:所述水氧阻隔涂层通过网纹辊涂布的方式涂布到所述COP基材上。6.一种制备如权利要求1~5任意一项所述的水氧阻隔膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)COP基材...
【专利技术属性】
技术研发人员:齐东东,孙金永,席忠飞,潘忠平,艾清,周丽娜,李杨林,
申请(专利权)人:惠州市摩码菱丽光电材料有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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