柔性AMOLED屏及手机制造技术

本发明专利技术公开了一种柔性AMOLED屏及手机，该柔性AMOLED屏包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。通过以上方式，本发明专利技术能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子
，特别是涉及一种柔性AMOLED屏及手机。
技术介绍
AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极体面板屏幕)是指以AMOLED材料为主的屏幕。相比传统的液晶面板，AMOLED具有反应速度较快、对比度更高、视角较广等特点。在现有技术中，在柔性屏上集成触控功能主要是通过在柔性AMOLED屏上贴上一层柔性的金属网格触控屏来实现，这意味着，生产商在做好AMOLED柔性屏后，需要额外制作柔性触摸屏，之后两者需要做贴合。由于现有技术需要额外购买金属网格触摸屏，并在AMOLED屏上贴金属网格触控屏，这会造成集成度不高，厚度增大，成本升高的缺点。综上所述，有必要提供一种柔性AMOLED屏及手机，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种柔性AMOLED屏及手机，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种柔性AMOLED屏，包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。其中，在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格。其中，在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格。其中，金属为铝。其中，金属为银。本专利技术进一步提供一种手机，包括柔性AMOLED屏，柔性AMOLED屏包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。其中，在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格。其中，在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格。其中，金属为铝。其中，金属为银。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术的柔性AMOLED屏及手机，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。附图说明图1是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的等效电路原理图；图2是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的结构示意图；图3是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的阴极正面示意图。图4是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的另一阴极正面示意图。具体实施方式下面结合附图和实施方式对本专利技术进行详细说明。图1是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的等效电路原理图。如图1所示，本专利技术的柔性AMOLED屏包括多个像素单元，其中多个行扫描线110、120和列扫描线210、220交替设置，用以区分每一像素单元，每一像素单元分别包括第一TFT 106和第二TFT 103，第一TFT106的源极与一列扫描线220连接，第一TFT 106的栅极与一行扫描线110连接，第二TFT 103的栅极与第一TFT 106的漏极连接，第二TFT 103的漏极与发光二极管102的阳极连接，电容105设置在第二TFT 103的栅极与源极之间，第二TFT 103的源极作为像素单元的阳极，发光二极管的阴极作为像素单元的阴极。并请结合图2进行参考，图2是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的结构示意图，如图2所示，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层101’、电子传输层131、发光层132、空穴传输层133、阳极层104’以及衬底134，阴极层101’可由例如为铝或银的金属制成，在本专利技术实施例中，通过光刻工艺在阴极层101’上蚀刻出金属网格，以在阴极层101’上形成自电容式触摸传感器。为了对金属网格作出进一步清楚说明，请参见图3和图4，图3是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的阴极正面示意图。图4是根据本专利技术实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的另一阴极正面示意图。首先请参见图3，图3示出在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格1011，因此在每个金属网格区域上若有指尖操作，像素单元通过对应金属网格来感测到电容值变化，从而通过金属网格的位置确定触摸位置。以下请参见图4，图4示出在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格1012，因此若在此金属网格有指尖操作，形成金属网格的金属线可感测电容值变化，从而通过金属线确定触摸位置。本专利技术进一步提供一种手机，包括上述的柔性AMOLED屏，柔性AMOLED屏包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。综上，本专利技术的柔性AMOLED屏及手机，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。以上所述仅为本专利技术的实施方式，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性AMOLED屏，其特征在于，包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，所述阴极层由金属制成，通过光刻工艺在所述阴极层上蚀刻出金属网格，以在所述阴极层上形成自电容式触摸传感器。

【技术特征摘要】
1.一种柔性AMOLED屏，其特征在于，包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，所述阴极层由金属制成，通过光刻工艺在所述阴极层上蚀刻出金属网格，以在所述阴极层上形成自电容式触摸传感器。2.根据权利要求1所述的柔性AMOLED屏，其特征在于，在一个所述像素单元上蚀刻出一个所述金属网格。3.根据权利要求1所述的柔性AMOLED屏，其特征在于，在一个所述像素单元上蚀刻出多个所述金属网格。4.根据权利要求1所述的柔性AMOLED屏，其特征在于，所述金属为铝。5.根据权利要求1所述的柔性AMOLED屏，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜长运，倪漫利，邹少林，
申请(专利权)人：深圳天珑无线科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44