一种智能真空度控制系统技术方案
【技术实现步骤摘要】
本专利涉及真空镀膜领域，是真空镀膜控制系统的一部分，具体涉及一种智能真空度控制系统。
技术介绍
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。以往控制沉积压强只通过流量计实现，用流量计输出的大小，来影响沉积压强，用这种方法沉积压强波动较大，反应速度较慢，对真空镀膜的效果产生了不好的影响。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种智能真空度控制系统，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种智能真空度控制系统，包括真空炉，所述真空炉通过管道连接真空泵，所述真空炉的内部设有压力传感器，所述压力传感器分别电性连接流量计负反馈电路的输入端和节流阀负反馈电路的输入端，所述流量计负反馈电路的输出端电性连接流量计的输入端，所述节流阀负反馈电路的输出端电性连接节流阀的输入端，所述流量计和节流阀设置在真空炉沉积气体进气的管道上。优选的，所述压力传感器的表面设有防护层。优选的，所述真空炉与真空泵之间的连接管设置为金属管。本技术的技术效果和优点：该智能真空度控制系统，采用闭环控制，并引进了节流阀的辅助控制，使流量计和节流阀共同动作，保证了沉积压强的准确，快速，稳定。附图说明图1为本技术的系统框图；图2为本技术原理图；图3为流量计与沉积压强曲线图；图...
【技术保护点】
一种智能真空度控制系统，包括真空炉（1），其特征在于：所述真空炉（1）通过管道连接真空泵（2），所述真空炉（1）的内部设有压力传感器（3），所述压力传感器（3）分别电性连接流量计负反馈电路（6）的输入端和节流阀负反馈电路（7）的输入端，所述流量计负反馈电路（6）的输出端电性连接流量计（4）的输入端，所述节流阀负反馈电路（7）的输出端电性连接节流阀（5）的输入端，所述流量计（4）和节流阀（5）设置在真空炉（1）沉积气体进气的管道上。
【技术特征摘要】
1.一种智能真空度控制系统，包括真空炉（1），其特征在于：所述真空炉（1）通过管道连接真空泵（2），所述真空炉（1）的内部设有压力传感器（3），所述压力传感器（3）分别电性连接流量计负反馈电路（6）的输入端和节流阀负反馈电路（7）的输入端，所述流量计负反馈电路（6）的输出端电性连接流量计（4）的输入端，所述节流阀负反馈电路（...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐海呈，张勇，于有河，
申请(专利权)人：大连维钛克科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21
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