掩模框架组件、其制造方法及有机发光显示装置制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了掩模框架组件、其制造方法和有机发光显示装置的制造方法。本发明专利技术的一实施方式涉及将掩模与框架接合为一体以使得待被沉积到衬底上的沉积物质选择性地通过的掩模框架组件，所述掩模框架组件的特征在于包括具有供沉积物质通过的沉积区域的掩模、具有基座部和从基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的边角形成为朝着基座部弯曲。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及掩模框架组件、其制造方法及有机发光显示装置的制造方法。
技术介绍
通常，作为有源发光型显示元件，作为平坦式显示器之一的有机发光显示装置不仅具有视角宽、对比度优异的优点，而且还具有能够通过低电压驱动、呈轻量的扁平状并且响应速度快的优点，由此作为下一代显示元件而备受瞩目。这种发光元件根据形成发光层的物质划分为无机发光元件和有机发光元件，并且相比于无机发光元件，有机发光元件具有亮度、响应速度等特性优秀、能够以彩色显示等的优点，因此对其的开发最近广为进行。有机发光显示装置通过真空沉积法形成有机膜和/或电极。然而，随着有机发光显示装置逐渐被高分辨率化，沉积工艺中所用的掩模的开放式狭缝(open slit)的宽度逐渐变窄并且其散布也需要被进一步减小。此外，为了制造高分辨率有机发光显示装置，需要减少或去除阴影现象(shadow effect)。为此，在衬底与掩模紧贴的状态下进行沉积工艺，并且正在兴起用于改善衬底与掩模的附接度的技术的开发。上述的
技术介绍
是专利技术人为得出本专利技术而拥有的技术信息或者在得出过程中习得的技术信息，并不一定是在本专利技术的实施方式的申请前已公开于一般公众的公知技术。
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供掩模框架组件、其制造方法和有机发光显示装置的制造方法。本专利技术的实施方式公开了掩模框架组件，其特征在于包括具有供沉
积物质通过的一个以上的沉积区域的掩模、具有基座部和从基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的边角形成为朝着基座部弯曲。在本实施方式中，沉积区域可以包括外围区域由支承部支承的主体部和形成于主体部并且供沉积物质通过的一个以上的图案部。在本实施方式中，主体部的外围区域的边角可以形成为朝着基座部的方向弯曲。在本实施方式中，框架还可以包括形成为连接支承部的面对掩模的面与基座部的面对掩模的面并且支承掩模的连接面。在本实施方式中，沉积区域可以包括外围区域由支承部支承的主体部和形成于主体部并且供沉积物质通过的一个以上的图案部。在本实施方式中，主体部的外围区域的边角可以形成为朝着连接面的方向弯曲。在本实施方式中，连接面中可以形成有一个以上的凹陷部。在本实施方式中，沉积区域可以包括外围区域由支承部支承的主体部和形成于主体部并且供沉积物质通过的一个以上的图案部。在本实施方式中，主体部的外围区域的边角可以形成为朝着凹陷部的方向弯曲。本专利技术的另一实施方式公开了掩模框架组件制造方法，该方法包括准备包括基座部和从基座部凸出的支承部的框架的步骤；准备包括供沉积物质通过的沉积区域和与沉积区域连接而成的盈余区域的掩模的步骤；将掩模对齐到框架上的步骤；用模具部从掩模与框架接触的面的相反侧对掩模施压而将掩模的形状变形为与框架的形状相对应的步骤；以及对盈余区域进行切割的步骤。在本实施方式中，在将掩模对齐到框架上的步骤中，可以将沉积区域与盈余区域相接的界面定位到基座部上。在本实施方式中，框架还可以包括形成为连接支承部的面对掩模的面与基座部的面对掩模的面并且支承掩模的连接面。在本实施方式中，在将掩模对齐到框架上的步骤中，可以将沉积区域与盈余区域相接的界面定位到连接面上。在本实施方式中，连接面中可以形成有一个以上的凹陷部。在本实施方式中，在将掩模对齐到框架上的步骤中，可以将沉积区域与盈余区域相接的界面定位到凹陷部上。在本实施方式中，作为切割盈余区域的方法，可以将激光照射到沉积区域与盈余区域的界面。在本实施方式中，作为切割盈余区域的方法，可以用机械式切割器(mechanical cutter)对沉积区域与盈余区域的界面进行切割。在本实施方式中，在将掩模对齐到框架上的步骤与用模具部对掩模施压的步骤之间还可以包括对框架与掩模进行接合的步骤。本专利技术的又一实施方式公开了有机发光显示装置的制造方法，该方法包括将衬底和掩模框架组件安装到腔室内部的步骤；对衬底与掩模框架组件进行对齐的步骤；以及通过掩模框架组件的开口部将从沉积源喷射的沉积物质沉积到衬底上的步骤，并且掩模框架组件包括具有供沉积物质通过的一个以上的沉积区域的掩模和具有基座部和从所述基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的边角形成为朝着基座部弯曲。通过权利要求范围和专利技术的详细说明，除了上述以外的其他方面、特征、优点将变得明确。根据本专利技术的实施方式，掩模框架组件、其制造方法和有机发光显示装置的制造方法提升了衬底与掩模的紧贴性，从而可以将沉积物质精密地沉积到衬底上。附图说明图1是示出根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件的分解立体图。图2至图7是示出根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件的制造方法的剖视图。图8是示出使用图1中所示的掩模框架组件制造的有机发光显示装置的视图。具体实施方式本专利技术可以实施多种变型并且可以具有多种实施方式，并且旨在附图中示出特定实施方式并对其进行详细说明。通过参照结合附图详细说明的实施方式，本专利技术的效果和特征以及实现其的方法将变得明确。然而，本专利技术并不限于下面所公开的实施方式，而是可以多种形态实现。在下面的实施方式中，“第一”、“第二”等的措辞并不具有限定的含义，而是以将一个构成要素与其他构成要素区分开的目的使用。此外，除非文中另有明确指示，否则单数的表述包括复数的表述。此外，“包括”或“具有”等的措辞是指说明书中所述记载的特征或构成要素的存在，而不是提前排除一个以上的其他特征或构成要素的附加可能性。此外，为了说明的便利，附图中构成要素的大小可以被夸大或被缩小。例如，为了说明的便利，附图中所示的各构件的大小和厚度被任意示出，因此本专利技术并不一定限定于图中所示。此外，当能够以不同的方式实现某些实施方式时，特定的工艺可以按照与所说明的顺序不同的顺序执行。例如，连续说明的两个工艺可以实质上同时执行，也可以按照与所说明的顺序相反的顺序进行。下面，将参照附图对本专利技术的实施方式进行详细说明，并且在参照附图进行说明时，将对相同或对应的构成要素赋予相同的附图标记，并且将省略对其的重复描述。图1是示出根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件10的分解立体图。参照图1，掩模框架组件10包括掩模100和框架200，并且掩模100与框架200接合为一体以使得待被沉积到衬底(未示出)上的沉积物质可以选择性地通过。掩模100可以包括供沉积物质通过的沉积区域110、将在下文中描述的在掩模框架组件10的制造过程中待被切割的盈余区域120和接合掩模100与框架200的焊接部130。沉积区域110可以包括外围区域由框架200的支承部220支承的主体部112和以孔(hole)或狭缝(slit)形状形成于主体部112并且供沉积物质通过的一个以上的图案部111。沉积区域110被布置成与框架200的开口部230对应，图案部111形成贯穿掩模100的沉积用图案。主体部112被形成在各个图案部111之间以及
沉积区域110的外围，从而执行阻挡从沉积源(未示出)放射的沉积物质的作用。因此，从沉积源放射的沉积物质通过图案部111沉积到衬底上，这意味着沉积到衬底上的沉积物质的排列可以根据图案部111的形状而有所不同。也就是说，图案部111不仅可以形成为如图1中所示的条纹(stripe)形态，而且还可以形成为例如多个点状(dot)形态。因此，图1中所示的图案部111的数量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模框架组件，包括：掩模，包括供沉积物质通过的一个以上的沉积区域；以及框架，包括基座部和从所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，其中，所述掩模的边角形成为朝着所述基座部弯曲。

【技术特征摘要】
2014.10.24 KR 10-2014-01453961.一种掩模框架组件，包括：掩模，包括供沉积物质通过的一个以上的沉积区域；以及框架，包括基座部和从所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，其中，所述掩模的边角形成为朝着所述基座部弯曲。2.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。3.如权利要求2所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述基座部的方向弯曲。4.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述框架还包括：连接面，形成为连接所述支承部的面对所述掩模的面与所述基座部的面对所述掩模的面，并且支承所述掩模。5.如权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。6.如权利要求5所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述连接面的方向弯曲。7.如权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述连接面中形成有一个以上的凹陷部。8.如权利要求7所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。9.如权利要求8所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述凹陷部的方向弯曲。10.一种掩模框架组件制造方法，包括：准备包括基座部和从所述基座部凸出的支承部的框架的步骤；准备包括供沉积物质通过的沉积区域和与所述沉积区域连接而成的盈余区域的掩模的步骤；将所述掩模对齐到所述框架上的步骤；用模具部从所述掩模与所述框架接触的面的相反侧对所述掩模施压而将所述掩模的形状变形为与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩政洹，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR