【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的引证本申请将2012年5月25日提交的美国申请No.13/480,987的全部内容纳入此处作为参照。专利
本专利技术的示例性实施例涉及一种真空绝缘玻璃(VIG或真空IG)单元,和/或制备其的方法。特别是,本专利技术的示例性实施例涉及一种VIG单元,具有改进的密封,使用两种不同的基于熔块的边缘密封材料,和/或制备其的方法。专利技术背景和示例性实施例的内容真空绝缘玻璃(VIG或真空IG)单元在本领域中为已知技术。例如,一些示例性的VIG配置在美国专利Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被说明,其公开的全部内容被纳入此处作为参考。图1-2示出了常规的VIG窗单元1和形成VIG窗单元1的元件。VIG单元1可包括两个被隔开的基本平行的玻璃基片2和3,其之间具有被排空的低压空间/腔6。玻璃片或基片2、3通过由熔融的焊料玻璃等制成的外围边缘密封4被互连。鉴于基片2、3之间存在低压空间/腔6,玻璃基片2、3之间可包括一排支撑柱或隔离片5,来维持VIG单元1的基片2、3的间距。泵出管8可通过焊料玻璃9或类似等被气密密封至孔隙/孔洞10,其从玻璃基片2的内表面通向至玻璃基片2外表面的选择性凹槽11底部或选择性地至玻璃基片2的外表面。真空被连接至泵出管8使内腔6被排空至低于大气压的低压,例如,使用连续泵下操作。腔6被排空后,管8的部分(顶端)被熔化,在低压腔/空间6中来密封真空。选择性凹槽11则用来保持密封的泵出管8。可选择地,凹槽13内可包含化学吸气剂12,配置在玻璃基片 ...
【技术保护点】
一种套件,包括第一和第二熔块材料,用来形成真空绝缘玻璃(VIG)窗单元的边缘密封,其中,按重量,所述第一熔块材料包括至少65%的氧化铋,当玻璃到达550摄氏度的第一温度或更高时,所述第一熔块材料熔融至所述玻璃,且所述第二熔块材料包括氧化钒、氧化钡、和氧化锌,按重量,总共至少为65%,所述第二熔块材料的结构为与所述第一熔块材料形成接合,来制备用于所述VIG窗单元的所述边缘密封,且当所述玻璃到达不超过400摄氏度的第二温度时,所述第二熔块材料被熔化,且所述第一熔块材料在所述第二温度下被润湿。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.02.04 US 14/172,4321.一种套件,包括第一和第二熔块材料,用来形成真空绝缘玻璃(VIG)窗单元的边缘密封,其中,按重量,所述第一熔块材料包括至少65%的氧化铋,当玻璃到达550摄氏度的第一温度或更高时,所述第一熔块材料熔融至所述玻璃,且所述第二熔块材料包括氧化钒、氧化钡、和氧化锌,按重量,总共至少为65%,所述第二熔块材料的结构为与所述第一熔块材料形成接合,来制备用于所述VIG窗单元的所述边缘密封,且当所述玻璃到达不超过400摄氏度的第二温度时,所述第二熔块材料被熔化,且所述第一熔块材料在所述第二温度下被润湿。2.根据权利要求1所述的套件,其中,按重量,所述第一熔块材料进一步包括至少2%的氧化锌。3.根据上述权利要求中任何一项所述的套件,其中,所述第一熔块材料包括70-80wt.%的氧化铋、2-7wt.%的氧化锌、5-15wt.%的氧化硅、2-7wt.%的氧化铝、0-5%的氧化镁、0-5%的氧化铬、0-5%的氧化铁、0-5%的氧化钴、0-5%氧化钠、0-5%氧化锰、和0-5%的氧化钡。4.根据上述权利要求中任何一项所述的套件,其中,所述第二熔块材料包括45-67wt.%的氧化钒、7-25wt.%的氧化钡、和4-17wt.%的氧化锌。5.根据权利要求4所述的套件,其中,所述第二熔块材料进一步包括:0-13wt.%的氧化碲、0-13wt.%的氧化钼、0-13wt.%的氧化钽、和0-13wt.%的氧化铌,且其中,所述氧化碲、氧化钼、氧化钽、和氧化铌中的至少一个被至少提供0.25wt.%。6.根据权利要求1-3中任何一项所述的套件,其中,所述第二熔块材料包括45-67wt.%的氧化钒、7-25wt.%的氧化钡、和4-17wt.%的氧化锌。7.根据权利要求6所述的套件,其中,所述第二熔块材料进一步包括:0-13wt.%的氧化碲、0-13wt.%的氧化钼、0-13wt.%的氧化钽、和0-13wt.%的氧化铌,且其中,所述氧化碲、氧化钼、氧化钽、和氧化铌中的至少一个被至少提供0.25wt.%。8.根据上述权利要求中任何一项所述的套件,其中,所述第一和/或第二熔块材料包括热膨胀系数(CTE)填充材料,当所述CTE填充材料被引入所述第一和/或第二熔块材料中时,降低其的所述CTE。9.根据上述权利要求中任何一项所述的套件,其中,所述第一和/或第二熔块材料为无铅。10.根据权利要求1-8中任何一项所述的套件,其中,所述第一和/或第二熔块材料含有小于1ppm的铅。11.根据上述权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:约翰·P·霍根,蒂莫西·A·丹尼斯,鲁道夫·H·彼得米赫尔,格雷格·凯梅纳赫,
申请(专利权)人:佳殿工业公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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