用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，包括顶靶机构和举靶机构，举靶机构具有举靶平台，举靶平台在进靶过程中向上托举且在退靶过程中向下回退，顶靶机构具有顶靶部件，顶靶部件在进靶过程中向上顶且在退靶过程中向下回退，举靶机构具有定位杆，顶靶机构具有滑动部件，滑动部件滑动安装在定位杆，顶靶机构固定安装在安装在举靶机构上的托块上；本实用新型专利技术提供的举靶顶靶机构实现了样品能够先进行一种低真空过度，进而再进入高真空的过程，具有操作灵活和便捷的优点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及基质辅助激光解析（MALDI）离子源
，特别是涉及一种用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构。
技术介绍
在基质辅助激光解析离子源进行的固态样品解析过程中，样品在常压下形成固体，经过进样系统，由常压进入真空系统，并需进行精确定位，以实现样品在一个微小的区域内解析，在极短的时间间隔，激光对样品提供高的能量，对它们进行极快的加热，这样可以避免热敏感的化合物加热分解，基质分子能有效地吸收激光的能量，并间接地传给样品分子，从而得到电离，也就实现了离子进入质量分析器，完成进样。基质辅助激光解析（MALDI）离子源进样装置在真空中进样有着至关重要的作用，由于待测样品（多为生物样品）不能直接从常压环境中立即转变为高真空环境，因此进样装置需要保证样品从常压环境进入到高真空环境的过程中逐渐适应高真空环境，不会对样品产生破坏以致影响解析结果，因此需要寻找一种能够先进行一种低真空过度，进而进入高真空的设备。
技术实现思路
有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个，本技术提供了一种用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，包括顶靶机构和举靶机构；所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举且在退靶过程中向下回退；所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶且在退靶过程中向下回退；所述举靶机构具有定位杆，所述顶靶机构具有滑动部件，所述滑动部件滑动安装在所述定位杆；所述顶靶机构固定安装在所述举靶机构上的托块上。所述举靶顶靶机构用于一种解析离子源的进样装置，该装置包括内部具有腔室的中空部件，安装在所述中空部件内部的Y向平台和安装在所述Y向平台上的X向平台，放置在安装在所述X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在实时中空部件内部且与所述X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在所述中空部件顶部的盖板；所述盖板上设置有检测孔及所述样品放置孔，所述样品放置孔处设置有样品盖板；所述X向平台具有固定安装的第一挡块和第二挡块，所述顶靶机构具有与所述第一挡块动态接触的顶靶接触部件，所述举靶机构具有与所述第二挡块动态接触的举靶接触部件，所述举靶接触部件具有举靶接触前部和举靶接触后部，所述第二挡块在进靶过程中与所述举靶接触前部动态接触且在退靶过程中与所述举靶接触后部动态接触；所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举所述靶槽且在退靶过程中向下放下所述靶槽及将靶槽放置在所述X向平台上的靶槽平台上；所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶起所述靶槽且在退靶过程中向下运动放松所述靶槽。在操作过程中，在进靶位时，X向平台和Y向平台推动所述靶槽至预定位置过程中，所述第二挡块与所述举靶接触部件的所述举靶接触前部接触，推动所述举靶机构中的所述举靶平台向上托起所述靶槽平台至预定位置，当X向平台和Y向平台继续运动时，进一步使得所述第一挡块与所述顶靶接触部件接触，使得所述顶靶机构的所述顶靶部件向上顶起所述靶槽，以使所述靶槽向上和所述盖板紧密接触，此时将样品放入所述靶槽，关闭所述样品盖板，此时，所述靶槽与所述盖板以及所述样品盖板形成已第一密封腔室，其具有相应的抽真空通孔，如此，可以对此腔室进行低真空处理，而整个腔室中也同步进行高真空处理；待达到预定要求后，进行退靶位时，X向平台和Y向平台向后运动，所述顶靶接触部件具有回弹力，因此会顶住所述第一挡块一同运动，所述顶靶部件下落，所述靶槽随着下落至上述举靶平台上，所述第二挡块随之后退并与所述举靶接触前部脱离进而带动所述举靶接触后部，使得所述举靶平台带动所述靶槽运动至所述X向平台的所述靶槽平台上，之后，X向平台和Y向平台运动至所述盖板上的所述检测孔位置，由此可以进行解析处理。根据本专利
技术介绍
中对现有技术所述，由于在相应解析过程中，样品若快速进入高真空环境下，必定会样品本身造成一定的破坏，如此对检测结果也必然存在很大误差；而本技术公开的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，可以有效利用举靶机构和顶靶机构运动使得具有凹槽的盖板和靶槽平台以及靶槽形成一个动态过渡低真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。同时，所述第一挡块为一个，所述第二挡块为两个且位于第一挡块的两侧，所述顶靶接触部件为一个且在进靶过程和退靶过程中与所述第一挡块动态接触，所述举靶接触部件为两个且与所述第二挡块一一对应并动态接触。此处的动态接触指的是非固定接触，其可随着相互之间的运动或处于不同的状态位时，处于接触或非接触状态。同时，所述盖板具有凹槽，所述凹槽与所述靶槽动态接触且与所述样品盖板形成密封腔室，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。在所述凹槽中存在所述凹槽真空联通孔，可以使得低真空处理更加方便。同时，所述靶槽平台上具有定位装置。同时，所述定位装置位三个定位柱。同时，所述X向平台或所述Y向平台包括动力源和丝杠结构以及线性滑轨滑块。同时，所述动力源为电机。同时，所述进样装置还包括真空系统，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。同时，所述真空系统包括分子泵和机械泵，所述分子泵与所述腔室相联，所述机械泵与所述分子泵相联且与所述凹槽真空联通孔相联。另外，根据本技术公开的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构还具有如下附加技术特征：进一步地，所述举靶机构还具有托块，所述顶靶机构安装在所述托块上。进一步地，所述举靶机构具有定位杆，安装在所述顶靶机构的滑动部件安装在所述定位杆上且可上下运动。进一步地，所述举靶接触部件具有轴承的可转动部件。更进一步地，所述举靶接触部件为滚柱结构。进一步地，所述顶靶部件具有轴承的可转动部件。更进一步地，所述顶靶部件为滚柱结构。滚动运动可以更加使得整体运动顺滑。优选地，所述滚柱结构的外表面使用弹性体作为接触部位，如此可以使得运动更加具有缓冲性。进一步地，所述举靶机构中的所述举靶平台与举靶第一连杆上端转动相联，所述举靶第一连杆下端与所述托块转动链接，且通过举靶第二连杆与所述举靶接触部件位于举靶接触前部和所述举靶接触后部与所述举靶接触部件和位于所述举靶机构下部的托块的转动链接处之间且形成四连杆结构。进一步地，所述顶靶机构还包括底座，所述底座和所述举靶机构固定联接；顶靶第一连杆，所述顶靶第一连杆下端与所述底座相联；顶靶滑动部件，所述顶靶滑动部件与安装在所述举靶机构上的定位杆且可上下移动；顶靶第二连杆，所述顶靶第二连杆顶端与所述顶靶滑动部件顶端链接，底端安装顶靶接触部件，中部与所述顶靶第一连杆中部链接；顶靶第三连杆，顶靶第四连杆，所述顶靶第三连杆的两端分别与所述顶靶第一连杆的顶端和所述顶靶第四连杆的一端链接；所述顶靶第四连杆一端与所述顶靶滑动部件的顶端及所述顶靶第二连杆的顶端共同链接。本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构整体示意图；图2用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构（隐藏盖板）整体示意图；图3用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构（无中空部件且为顶靶机构和举靶机构顶起和举起靶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，包括顶靶机构和举靶机构；所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举且在退靶过程中向下回退；所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶且在退靶过程中向下回退；所述举靶机构具有定位杆，所述顶靶机构具有滑动部件，所述滑动部件滑动安装在所述定位杆；所述顶靶机构固定安装在所述举靶机构上的托块上。

【技术特征摘要】
1.一种用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，包括顶靶机构和举靶机构；所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举且在退靶过程中向下回退；所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶且在退靶过程中向下回退；所述举靶机构具有定位杆，所述顶靶机构具有滑动部件，所述滑动部件滑动安装在所述定位杆；所述顶靶机构固定安装在所述举靶机构上的托块上。2.根据权利要求1所述的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，所述举靶机构包括举靶接触部件，所述举靶接触部件具有轴承的可转动部件。3.根据权利要求2所述的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，所述举靶接触部件为滚柱结构。4.根据权利要求1所述的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，所述顶靶机构包括顶靶部件，所述顶靶部件具有轴承的可转动部件。5.根据权利要求4所述的用于解析离子源进样装置的举靶顶靶机构，其特征在于，所述顶靶部件为滚柱结构。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘召贵，徐鹏登，周立，
申请(专利权)人：江苏天瑞仪器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32