陶瓷氧化物主体、其制造方法以及玻璃板的制造方法技术

技术编号:14026613 阅读:145 留言:0更新日期:2016-11-19 04:10
本发明专利技术公开了一种陶瓷氧化物主体。该陶瓷氧化物主体可包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】与相关申请的交叉引用本申请要求于2014年3月27日提交的美国临时申请序列号61/970974的优先权,本申请以该文为基础,该文的内容通过引用全文纳入本申请。
本专利技术涉及一种陶瓷氧化物主体、制造陶瓷氧化物主体的方法以及制造玻璃板的方法。背景氧化铝材料被用作各种应用的耐火材料。氧化铝通常具有相对较高的热导率(在20℃下测量时约为40W/m·K)。然而,尽管热导率是一种固有属性,但氧化铝的热导率还可取决于本领域普通技术人员已知的外部参数,例如但不限于孔隙率、晶粒尺寸和缺陷的密度。例如,对于密实的氧化铝,其热导率高,但热冲击性能和切削性不佳。另外,对多孔氧化铝的成形和加工会更加容易,只要该氧化铝的孔隙率不低至会对耐火材料的机械完整性产生不利影响。然而,多孔氧化铝的热导率通常低。氧化铝的热导率还会受到纯度的影响。专利技术概述下文对本专利技术进行了简单的小结,以提供对于详述中所描述的一些示例性的方面的基本理解。在本专利技术的第1方面中,一种陶瓷氧化物主体包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末。在第1方面的一个例子中,熔化的氧化铝粉末占陶瓷氧化物主体的约10重量%~约50重量%。在第1方面的另一个例子中,细氧化铝粉末占陶瓷氧化物主体的约10重量%~约50重量%。在第1方面的另一个例子中,熔铸氧化铝粉末具有约44微米~约700微米范围内的粒径分布。在第1方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体具有约11.4%~约21.3%范围内的孔隙率。在第1方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体在200℃下具有约10W/m·K~约14.5W/m·K范围内的热导率。在第1方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体在1200℃下具有约4W/m·K~约5.81W/m·K范围内的热导率。在第1方面的另一个例子中,成形装置包括陶瓷氧化物主体。第1方面可被单独提供,或者以与上述第1方面的一个例子或例子的任意组合的组合形式被提供。在第2方面中,一种陶瓷氧化物主体的制造方法包括以下步骤:对一种混合物进行批处理,所述混合物包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末;使混合物成形;以及烧制成形的混合物以形成陶瓷氧化物主体。在第2方面的一个例子中,熔铸氧化铝粉末占陶瓷氧化物主体的约50重量%~约99.5重量%。在第2方面的另一个例子中,细氧化铝粉末占陶瓷氧化物主体的约10重量%~约50重量%。在第2方面的另一个例子中,熔铸氧化铝粉末具有约44微米~约700微米范围内的粒径分布。在第2方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体具有约11.4%~约21.3%范围内的孔隙率。在第2方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体在200℃下具有约10W/m·K~约14.5W/m·K范围内的热导率。在第2方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体在1200℃下具有约4W/m·K~约5.81W/m·K范围内的热导率。在第2方面的另一个例子中,混合物通过选自以下组中的方法来成形:注浆成形、干压、冷等静压、热压、热等静压、注塑和流延成形。在第2方面的另一个例子中,烧结在约1550℃~约1650℃之间进行。第2方面可被单独提供,或者以与上述第2方面的一个例子或例子的任意组合的组合形式被提供。在第3方面中,一种玻璃板的制造方法包括使用陶瓷氧化物主体形成玻璃板,所述陶瓷氧化物主体包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末。在第3方面的一个例子中,陶瓷氧化物主体的至少一部分从加热块体获得热能。在第3方面的另一个例子中,陶瓷氧化物主体具有约11.4%~约21.3%范围内的孔隙率。第3方面可被单独提供,或者以与上述第3方面的一个例子或例子的任意组合的组合形式被提供。附图简要说明参照附图,阅读以下详细描述,可以更好地理解本专利技术的这些方面、特征和优点以及其他的方面、特征和优点,其中:图1是图示一种玻璃成形设备的一个例子的示意图,该设备包括本专利技术的一种示例性实施方式的成形装置;图2是成形装置沿着图1中的线2-2的截面放大透视图;图3是成形装置沿着图1中的线2-2的截面放大前视图;图4是图示陶瓷氧化物主体的制造方法中的示例性步骤的流程示意图;以及图5是图示玻璃板的制造方法中的示例性步骤的流程示意图。专利技术详述在此将参照附图更完整地描述各实施例,附图中给出了示例性实施方式。只要有可能,在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是,本专利技术的不同方面能够以多种不同的形式实施,从而不应被理解成受限于本文提出的实施方式。本文所用的术语仅仅用来描述具体的实施方式,而不是用于限制本专利技术。如本文中所用,单数形式的“一个”、“一种”和“该”也包括复数的指代物,除非文本中有另外的明确表示。还应当理解的是,用在本说明书中的术语“包含”和/或“包括”表示存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件,但是并不排除存在或加入一种或多种其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的情况。还应当理解的是,术语“粉末”不意味着只存在一种粉末。相反,术语“粉末”应被理解为以聚集形态存在的多种粉末。本文中,认为“粉末”和“颗粒”具有相同的特征。例如,粒径分布中的术语“粒”被理解为与“粉”径分布实质上相同。术语“玻璃带”是指由成形装置拉制得到的玻璃,并且具有足够低的粘度以改变玻璃厚度。术语“玻璃板”是指由成形装置制造的玻璃,具有相比于“玻璃带”更大的粘度,以使玻璃板的厚度无法被进一步改变。还应当理解的是,“细氧化铝粉末”中的术语“细”应结合“熔铸氧化铝粉末”来理解,所述熔铸氧化铝粉末总体上具有比细氧化铝粉末更大的粉末尺寸。出于本讨论的目的,“COB”代表在1580℃下对经过完全干燥的主体进行10小时烧制后所得到陶瓷氧化物主体。图1图示了对用于之后加工成玻璃板的玻璃带103进行熔合拉制的玻璃成形设备101的示意图。图示的玻璃成形设备101包括熔合拉制装置,尽管在其它例子中可提供其它熔合成形设备。玻璃成形设备101可包括配置成用于从储料仓109接收批料107的熔融容器(或熔炉)105。批料107可通过用电动机113驱动的批料输送装置111来引入。可选的控制器115可配置成用于激活电动机113,从而将所需量的批料107引入熔融容器105中,如箭头117所示。可使用玻璃金属探针119来测量竖管123内玻璃熔体(或熔融玻璃)121的液位,并且通过通信线路125将测量到的信息传递至控制器115。玻璃成形设备101还可包括澄清容器127(例如澄清管),所述澄清容器127位于熔融容器105的下游,并且通过第一连接管129与熔融容器105流体相连。混合容器131(例如搅拌室)还可位于澄清容器127的下游。输送容器133(例如钵形料筒)可位于混合容器131的下游。如图所示,第二连接管135可将澄清容器127连接至混合容器131,第三连接管137可将混合容器131连接至输送容器133。如图进一步所示,可放置下导管139以将玻璃熔体121从输送容器133输送至成形装置143的入口141。如图所示,熔融容器105、澄清容器127、混合容器131、输送容器133和成形装置143都是玻璃熔体处理工位的例子,这些玻璃熔体处理工位可沿着玻璃成形设备101串联设置。熔融容器105可由诸如耐火砖(如陶瓷砖)这样的耐火材料制造。玻璃成形设备1本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种陶瓷氧化物主体,其包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.27 US 61/970,9741.一种陶瓷氧化物主体,其包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末。2.如权利要求1所述的主体,其特征在于,所述熔铸氧化铝粉末占所述陶瓷氧化物主体的约50重量%~约99.5重量%。3.如权利要求2所述的主体,其特征在于,所述细氧化铝粉末占所述陶瓷氧化物主体的约10重量%~约50重量%。4.如权利要求1所述的主体,其特征在于,所述熔铸氧化铝粉末具有约44微米~约700微米范围内的粒径分布。5.如权利要求1所述的主体,其特征在于,所述陶瓷氧化物主体具有约11.4%~约21.3%范围内的孔隙率。6.如权利要求1所述的主体,其特征在于,所述陶瓷氧化物主体在200℃下具有约10W/m·K~约14.5W/m·K范围内的热导率。7.如权利要求1所述的主体,其特征在于,所述陶瓷氧化物主体在1200℃下具有约4W/m·K~约5.81W/m·K范围内的热导率。8.一种成形装置,其包含权利要求1所述的陶瓷氧化物主体。9.一种制造陶瓷氧化物主体的方法,所述方法包括以下步骤:(I)对一种混合物进行批处理,所述混合物包含熔铸氧化铝粉末、细氧化铝粉末和氧化钛粉末;(II)使所述混合物成形;以及(III)烧制成形的所述混合物以形成陶瓷氧化物主体。10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述熔铸氧化铝粉末占所...

【专利技术属性】
技术研发人员:缪卫国D·I·塞莫尔S·D·C·威尔逊
申请(专利权)人:康宁股份有限公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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