【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制成技术,具体涉及一种风扇排布整齐的超净间。
技术介绍
超净间用于制药工业或者半导体制成工业,在制作晶圆、TFT或者LCD时,都需要使用超净间,超净间最主要的作用在于控制产品所接触的大气的洁净度日及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造。现有的超净间的问题主要在于构造复杂,风扇排布杂乱,不利于建造和管理。
技术实现思路
在现有技术的基础上,本专利技术公开了一种风扇排布整齐的超净间。本专利技术的技术方案如下:一种风扇排布整齐的超净间,包括设置于超净间前端的入风端、设置于超净间后端的出风端和设置于超净间内侧左右边的走风通道;超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道,操作通道的两侧设置有起重设备;在所述起重设备和所述走风通道之间设置有左右通透的储物区,储物区中放置有储物架;超净间后端还设置有用于供操作员出入的门;所述出风端的入风口设置在门的左右两侧,出风端的出风口设置于超净间的左右边的墙壁之上。所述入风端设置有多个并列排布的风扇单元,风扇单元均贴靠超净间前端墙壁安装本专利技术的有益技术效果是:本专利技术的结构简单,风扇排布整齐,走风通道以及超净间中的各个设施也整齐明晰,但可以达到良好的清洁效果,且设施布局适合操作员操作。整个超净间造价低,适于大规模使用。附图说明图1是本专利技术的示意图。具体实施方式图1是本专利技术的示意图。如图1所示,本专利技术的超净间包括设置于超净间前端的入风端1、设置于超净间后端的出风端2和设置于超净间内侧左右边的走风通道3;超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道4,操作通道4的两侧设置有起重设备5;在起重设备5和 ...
【技术保护点】
一种风扇排布整齐的超净间,其特征在于,包括设置于超净间前端的入风端(1)、设置于超净间后端的出风端(2)和设置于超净间内侧左右边的走风通道(3);超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道(4),操作通道(4)的两侧设置有起重设备(5);在所述起重设备(5)和所述走风通道(3)之间设置有左右通透的储物区(7),储物区(7)中放置有储物架(8);超净间后端还设置有用于供操作员出入的门(9);所述出风端(2)的入风口设置在门(9)的左右两侧,出风端(2)的出风口设置于超净间的左右边的墙壁之上;所述入风端(1)设置有多个并列排布的风扇单元(10),风扇单元(10)均贴靠超净间前端墙壁安装。
【技术特征摘要】
1.一种风扇排布整齐的超净间,其特征在于,包括设置于超净间前端的入风端(1)、设置于超净间后端的出风端(2)和设置于超净间内侧左右边的走风通道(3);超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道(4),操作通道(4)的两侧设置有起重设备(5);在所述起重设备(5)和所述走风通道(3)之间设置有左右通...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕耀安,
申请(专利权)人:无锡宏纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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