一种西红柿幼苗的培育方法技术

本发明专利技术公开了一种西红柿幼苗的培育方法，其特征在于，该培育方法包括：将株高为10‑25厘米之间的西红柿幼苗的植株下部装设电刺激设备(1)，所述电刺激设备(1)每隔15‑30秒给予西红柿幼苗10‑30伏特的电刺激0.01‑0.1秒，直至西红柿幼苗的株高高于30‑45厘米，停止电刺激。本发明专利技术方法能够提高西红柿幼苗的壮苗指数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及农业
，具体涉及一种西红柿幼苗的培育方法。
技术介绍
西红柿(学名：Lycopersicon esculentum Mill.)是茄科西红柿属中的草本植物，体高0.6-2米，全体生粘质腺毛，有强烈气味，茎易倒伏，叶羽状复叶或羽状深裂，花序总梗长2-5厘米，常3-7朵花，花萼辐状，花冠辐状，浆果扁球状或近球状，肉质而多汁液，种子黄色，花果期夏秋季。西红柿原产南美洲，是全世界栽培最为普遍的果菜之一，中国各地普遍种植，栽培面积仍在继续扩大。西红柿的果实营养丰富，具特殊风味，为盛夏的蔬菜和水果，可以生食、煮食、加工西红柿酱、汁或整果罐藏。中国专利CN104145697A公开了一种无仔西红柿的种植方法，包括以下步骤：(1)配制药土，在匀撒基肥的同时匀撒药土，用辛硫磷兑水喷雾，然后进行翻耕田地，(2)选择优质西红柿种子，经过浸种和催芽，待种子有半数以上露出白时播种与上述田地中，(3)待上述西红柿幼苗长至2-3片真叶后，依行距12-15厘米，株距10-12厘米进行分苗，(4)在未授粉的雌蕊柱头上涂上生长素，使子房发育成无仔果实，每株可留8-10个果穗，每个果穗应留3-4个果，(5)对上述西红柿进行田间管理。通过上述方式，该专利无仔西红柿的种植方法，操作简单、易于管理，通过植物激素促进果实发育，子房发育成无仔果实，且不改变植物基因变化。中国专利CN103168578A公开了一种西红柿出苗至移栽的培育方法，包括以下步骤：(1)在大棚内播种，15～16天后浇透水，连根将西红柿幼苗取出；(2)将步骤(1)取出的幼苗移栽到育苗钵内；(3)大棚内，白天保持25～28℃，夜晚保持13～17℃，日照的光照强度为30000～50000LUX，11～12天后，调整育苗钵的间隙，使幼苗之间保持一定间距；(4)19～22天后，将步骤(3)的幼苗取出，放入大棚内覆盖有薄膜的土层的开眼处，株距为35～45厘米，保持土壤湿度60～80％，空气湿度45～50％，用土壤将开眼处封闭，根灌植物诱导剂，即完成了出苗至移栽的培育。该专利操作简便，西红柿植株粗矮、结果多、果质好，利于西红柿的销售，提高了种植户的收入。中国专利CN104396511A公开了一种西红柿育苗方法，属于蔬菜繁殖
该专利的西红柿育苗方法，在西红柿育苗发育的花芽分化期采用如下方法管理：温度：白天20℃～25℃；夜间15～17℃；湿度：种子周围的基质湿度，保持基质总含水量的60-80％；光照强度：控制育苗棚内光照强度3000-5000LX；光照时间7-16小时；营养浓度：基质中的营养浓度分别为，N：100-500mg/kg，P：120～200mg/kg；K：200-220mg/kg；空气中CO2浓度：500-1000μL/L浓度。该专利的西红柿育苗方法，通过对花芽分化期的养分及光照条件控制，可以显著提高西红柿幼苗的成活率，成熟西红柿的产量、降低西红柿花果发生畸形的概率。西红柿幼苗的质量会对西红柿果实产生重大影响，提高西红柿幼苗的壮苗指数尤为重要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种西红柿幼苗的培育方法，该方法能够提高西红柿幼苗的壮苗指数。为实现上述目的，本专利技术一种西红柿幼苗的培育方法，该培育方法包括：将株高为10-25厘米之间的西红柿幼苗的植株下部装设电刺激设备，所述电刺激设备每隔15-30秒给予西红柿幼苗10-30伏特的电刺激0.01-0.1秒，直至西红柿幼苗的株高高于30-45厘米，停止电刺激。优选地，相邻所述电刺激设备采用导线相连。优选地，所述电刺激的间隔为20-35秒，电刺激电压为15-20伏特，电刺激的时间为0.05-0.08秒。优选地，所选取的西红柿幼苗的株高为12-15厘米。优选地，直至西红柿幼苗的株高高于35-40厘米，停止电刺激。优选地，将西红柿幼苗种植于复合基质上，所述复合基质包括体积比为1：(1-4)：(2-10)菇渣、牛粪和珍珠岩。优选地，所述菇渣、牛粪和珍珠岩的体积之比为1：(2-3)：(4-6)。优选地，所述复合基质的容重为0.35-0.50克/立方厘米，总孔隙度为60-96％，全氮为1-6％，全磷为0.1-3％，全钾为0.5-3％。优选地，所述西红柿幼苗在大棚中进行，培育条件为：温度为20-25℃，光照强度为30000～50000Lx，土壤湿度为60-80％，空气湿度为40-45％。本专利技术方法具有如下优点：本专利技术专利技术人意外发现，西红柿对电刺激比较敏感，采用合适的电刺激会使西红柿具有高度的生理活性，定植后生长迅速，具有高的生长潜力，具有高度的抗逆性，定植到大田后抵抗不良环境的影响，适应性强，壮苗指数高，易于长出优质的番茄果实。附图说明图1是本专利技术西红柿幼苗培育方法的示意图。附图标记说明1、电刺激设备，2、导线。具体实施方式本专利技术提供一种西红柿幼苗的培育方法，该培育方法包括：将株高为10-25厘米之间的西红柿幼苗的植株下部装设电刺激设备1，所述电刺激设备1每隔15-30秒给予西红柿幼苗10-30伏特的电刺激0.01-0.1秒，直至西红柿幼苗的株高高于30-45厘米，停止电刺激。根据本专利技术，电刺激设备是本领域技术人员所熟知的，一般包括电极和控制系统，控制系统用于控制电极的放电时间和电压，相邻所述电刺激设备1可以采用导线2相连。根据本专利技术，较弱和较短的电刺激，可以使西红柿幼苗整体进行收缩，降低株高，提高茎粗，更好地促进后续西红柿果实的生长繁育。经过试验得出，所述电刺激的间隔优选为20-35秒，电刺激电压优选为15-20伏特，电刺激的时间优选为0.05-0.08秒。根据本专利技术，若西红柿幼苗的发育不够，电刺激会使幼苗枯萎，经过试验，所选取的西红柿幼苗的株高优选为12-15厘米。根据本专利技术，若西红柿幼苗的发育已经进入后期，电刺激对幼苗产生不了太大效果，因此，一般来说，直至西红柿幼苗的株高高于35-40厘米，停止电刺激，这有助于降低成本。根据本专利技术，种植幼苗的基质对西红柿也有很大影响，经过试验，可以将西红柿幼苗种植于复合基质上，所述复合基质包括体积比可以为1：(1-4)：(2-10)菇渣、牛粪和珍珠岩，所述菇渣、牛粪和珍珠岩的体积之比优选为1：(2-3)：(4-6)。复合基质的理化参数对西红柿幼苗也具有较大影响，所述复合基质的容重可以为0.35-0.50克/立方厘米，总孔隙度可以为60-96％，全氮可以为1-6％，全磷可以为0.1-3％，全钾可以为0.5-3％。根据本专利技术，西红柿培育的条件本领域技术人员可以通过具体需要来选择，所述西红柿幼苗可以在大棚中进行，培育条件可以为：温度为20-25℃，光照强度为30000～50000Lx，土壤湿度为60-80％，空气湿度为40-45％。下面将通过实施例来进一步说明本专利技术，但是本专利技术并不因此而受到任何限制。实施例和对比例所采用的西红柿品种为“金棚1号”，所采用的复合基质为废气菇渣、牛粪和珍珠岩，三者体积比为1:3:5，复合基质容重为0.40克/立方厘米，总孔隙度为76％，全氮为3.5％，全磷为1.7％，全钾为2.1％，西红柿培育条件为：温度为20-25℃，光照强度为40000～45000Lx，土壤湿度为75％，空气湿度为40-45％。本专利技术实施例和对比例的壮苗指数计算方法如下：壮苗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种西红柿幼苗的培育方法，其特征在于，该培育方法包括：将株高为10‑25厘米之间的西红柿幼苗的植株下部装设电刺激设备(1)，所述电刺激设备(1)每隔15‑30秒给予西红柿幼苗10‑30伏特的电刺激0.01‑0.1秒，直至西红柿幼苗的株高高于30‑45厘米，停止电刺激。

【技术特征摘要】
1.一种西红柿幼苗的培育方法，其特征在于，该培育方法包括：将株高为10-25厘米之间的西红柿幼苗的植株下部装设电刺激设备(1)，所述电刺激设备(1)每隔15-30秒给予西红柿幼苗10-30伏特的电刺激0.01-0.1秒，直至西红柿幼苗的株高高于30-45厘米，停止电刺激。2.根据权利要求1所述的培育方法，其特征在于，相邻所述电刺激设备(1)采用导线(2)相连。3.根据权利要求1所述的培育方法，其特征在于，所述电刺激的间隔为20-35秒，电刺激电压为15-20伏特，电刺激的时间为0.05-0.08秒。4.根据权利要求1所述的培育方法，其特征在于，所选取的西红柿幼苗的株高为12-15厘米。5.根据权利要求1所述的培育方法，其特征在于，直至西红柿幼苗的株高...

【专利技术属性】
技术研发人员：何颖，
申请(专利权)人：何颖，
类型：发明
国别省市：广东;44