真空冶炼炉用蒸发盘制造技术

本发明专利技术公开了一种真空冶炼炉用蒸发盘，所述蒸发盘底面设有至少一圈凹槽；所述蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜。能够提高防溅效果，能够减少挥发物污染同时又能够提高金属回收率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空冶炼装置，尤其涉及一种用于真空冶炼炉用蒸发盘。
技术介绍
真空冶炼技术产生于20世纪30年代，从20世纪50年代引进我国，由于其低能耗、无污染、流程短、回收高、高效益，在我国有色冶金工业的发展中发挥了重要作用。现在真空蒸馏冶炼如粗金属提纯和合金分离中广泛使用到一种内热式连续真空冶炼炉。这种真空冶炼炉中间由多个圆盘形蒸发盘叠堆成蒸发盘组，蒸发盘设有盛放金属液体的盛液槽，上蒸发盘底面与下蒸发盘盛液槽外沿口之间有间隙形成蒸汽出口通道，蒸发盘组周围有圆筒形冷凝罩，蒸发盘组从中间加热，蒸发盘加热后，盛放于蒸发盘中的金属由于沸点不同，气液分离，气相金属从蒸汽出口通道扩散出蒸发盘外至冷凝罩冷却从而实现金属提纯或分离。目前连续式真空蒸馏炉使用的蒸发盘的挥发物蒸汽出口通道是敞口的，在真空蒸馏过程中，由于加热温度往往高于合金中某种金属的沸点以上，此时金属熔体会剧烈沸腾，部分熔体会从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外，既造成挥发物污染，同时也会影响产品质量和金属的回收率。如何防止熔体从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外成为本领域技术人员一直想解决的技术问题。有人将上蒸发盘底面与下蒸发盘盛液槽外沿口之间的间隙缩小到不到2毫米，这样虽然能够减少熔体会从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外，从而减少挥发物污染，但是同时也影响了金属的回收率。有人改进了蒸发盘的结构，见专利号为2012202025781名称为“一种合金蒸馏用蒸发盘”的专利，“其包括蒸发盘（1），挡圈（2），挡台（3）和S 形气道（4），在蒸发盘（1）上设计加工出挡圈（2）和挡台（3），由若干个蒸发盘（1）叠层组合，上下蒸发盘间通过蒸发盘中孔上设有的凸台和沉台相互扣合，上蒸发盘的挡圈（2）和下蒸发盘的挡台（3）相互配合组成一个S形气道（4）”，其挡圈有一个向内的面能够挡住金属液滴飞溅到蒸发盘外，“通过重新设计蒸发盘的截面形状，把蒸汽出口由敞口式改为S 形的气道，使金属蒸气能顺利挥发逸出，而由于高温沸腾造成飞溅的金属液滴则被遮挡回流至蒸发盘中，解决金属飞溅造成的残留物损失和挥发物污染问题”。但是，由于该专利文件技术特征限定不清楚、说明书附图也不符合机械制图标准，本领域技术人员从该专利文件公开的内容还无法实施。现在市面上有一种与该专利附图相似结构的蒸发盘（如图1），即蒸发盘底面向下设有一圈突沿1，蒸发盘盛液槽外沿内侧设有一圈凹陷台阶2，上下蒸发盘叠堆后底面突沿与盛液槽外沿内侧凹陷台阶组合使蒸汽出口通道成S 形，蒸发盘底面向下伸出的一圈突沿能够挡住金属液滴飞溅到蒸发盘外，这种结构比纯粹缩小间隙效果要好一些，能够减少挥发物污染，同时对金属的回收率影响比纯粹缩小间隙要小，但是，这种蒸发盘结构复杂，底面突沿和盛液槽外沿内侧凹陷台阶加工困难，制造成本高，制造成本高于因使用而至金属回收率提高所得效益。如何才能防止熔体从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外，既能够减少挥发物污染同时又能够提高金属回收率成为本领域技术人员迫切需要解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种能有效防止熔体从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外、既能够减少挥发物污染同时又能够提高金属回收率的真空冶炼炉用蒸发盘。为了解决上述技术问题，本专利技术的真空冶炼炉用蒸发盘，所述蒸发盘底面设有至少一圈凹槽。所述蒸发盘底面设有四圈凹槽。所述蒸发盘底面凹槽横截面形状为矩形。所述蒸发盘底面凹槽横截面形状为圆弧形。所述蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜。所述蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜5-45°。所述蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜10-30°。所述蒸发盘底面对应于蒸发盘盛液槽外沿处设有一圈凹槽。采用本专利技术的结构，由于蒸发盘底面可以设有至少一圈凹槽，这样，蒸发盘内沸腾的金属液滴进入凹槽内，可以冷却而掉下，不会随气体溅出蒸发盘外，能增强防溅效果。蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜，上下蒸发盘边沿的平面间的间隙形成的蒸汽出口通道里宽外窄，气相金属能够从蒸汽出口通道顺利扩散出蒸发盘外，液相金属则在可能溅落到下蒸发盘边沿的平面时沿倾斜面流入盘中、而不会从该蒸汽出口通道溅出蒸发盘外，从而更有效防止了熔体从蒸汽出口通道飞溅到蒸发盘外，防溅效果更好，既能够减少挥发物污染同时又能够提高金属回收率。本专利技术的蒸发盘结构简单，制造方便、成本低。经过相同条件使用对比，采用本专利技术的结构，金属回收率比现有技术中仅间隙缩小到2毫米以下的蒸发盘提高了6-9%；比现有技术中有S 形蒸汽出口通道的蒸发盘金属回收率提高了3%左右而制造成本能降低9-10%，而且效率提高了5%左右。附图说明图1是现有技术蒸发盘组结构示意图；图2是本专利技术蒸发盘结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作详细描述：如图2所示，本专利技术的真空冶炼炉用蒸发盘，在蒸发盘底面设有至少一圈凹槽2。凹槽2在底面呈圆形布置。作为优选，在蒸发盘底面对应于蒸发盘盛液槽外沿处设有一圈凹槽，这样防溅效果更好。。蒸发盘底面可以设有四圈凹槽。这样效果更好。蒸发盘底面凹槽横截面形状为矩形。也可以为圆弧形。作为进一步改进，蒸发盘盛液槽外沿上平面1向内侧倾斜。这样，更有利于气体逸出，液体回流至蒸发盘内，防溅效果更好。蒸发盘盛液槽外沿上平面向内侧倾斜优选5-45°。更优选10-30°。还可以在蒸发盘盛液槽外沿外侧壁向外设有一圈用于支撑保温套的突沿。这样便于固定保温套。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空冶炼炉用蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘底面设有至少一圈凹槽（2）。

【技术特征摘要】
1.一种真空冶炼炉用蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘底面设有至少一圈凹槽（2）。2.根据权利要求1所述蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘底面设有四圈凹槽。3.根据权利要求1所述蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘底面凹槽横截面形状为矩形。4.根据权利要求1所述蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘底面凹槽横截面形状为圆弧形。5.根据权利要求1所述蒸发盘，其特征在于：所述蒸发盘盛液槽外沿上平面（1）向内侧倾...

【专利技术属性】
技术研发人员：蓝川华，黄存文，
申请(专利权)人：永兴县億翔环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43