用于白光成色OLED装置的纳米结构制造方法及图纸

本公开描述了纳米结构化光提取滤色器层合物和制品、以及使用纳米结构化光提取滤色器层合物以用于使用层合技术来制造包括纳米结构的OLED的方法。纳米结构化OLED装置可表现出增强的光提取效率。该方法涉及膜、层或涂层的转印和/或复制，以便在例如顶发射或底发射有源矩阵OLED(TE‑AMOLED或BE‑AMOLED)装置中形成与OLED的发射表面光学接触的纳米结构化表面。具有增强光提取效率的制品可具体用于白光成色(CBW)OLED显示器，该OLED显示器使用具有滤色器阵列的白光光谱OLED。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
纳米结构和微观结构用于显示装置、照明装置、结构装置和光伏装置中的各种应用。在包括有机发光二极管(OLED)装置的显示装置中，该结构可用于光提取或光分布。在照明装置中，该结构可用于光提取、光分布和装饰效果。在光伏装置中，该结构可用于太阳能聚集和抗反射。在大基板上图案化或以其他方式形成纳米结构和微观结构可为困难的并且成本效益不高。
技术实现思路
本公开描述了纳米结构化光提取滤色器层合物和制品、以及使用纳米结构化光提取滤色器层合物以用于使用层合技术来制造包括纳米结构的OLED的方法。纳米结构化OLED装置可表现出增强的光提取效率。该方法涉及膜、层或涂层的转印和/或复制，以便在例如顶发射或底发射有源矩阵OLED(TE-AMOLED或BE-AMOLED)装置中形成与OLED的发射表面光学接触的纳米结构化表面。具有增强光提取效率的制品可具体用于白光成色(CBW)OLED显示前中，该OLED显示器使用具有滤色器阵列的白光光谱的OLED。在一个方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面并能够通过顶表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与顶表面接触的高折射率光学耦合层(OCL)，该高折射率OCL具有与OLED的顶表面相对的纳米结构化表面；以及与纳米结构化表面接触的纳米结构化模板层，该纳米结构化模板层邻近被设置在基板上的滤色器层，其中纳米结构化模板层的折射率比高折射率OCL的折射率低。在另一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面并能够通过顶表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与顶表面接触并具有平坦相对表面的高折射率光学耦合层(OCL)；邻近高折射率OCL的平坦相对表面设置的高折射率纳米结构化转印层，该高折射率纳米结构化转印层具有与高折射率OCL的平坦相对表面相对的纳米结构化表面；以及与纳米结构化表面接触的纳米结构化模板层，该纳米结构化模板层邻近被设置在基板上的滤色器层，其中纳米结构化模板层的折射率比高折射率纳米结构化转印层的折射率低。在又一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面并能够通过顶表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与顶表面接触并具有平坦相对表面的高折射率光学耦合层(OCL)；以及邻近高折射率OCL的任选高折射率滤色器平面化层。CBW图像显示器还包括被设置在与高折射率OCL的平坦相对表面相对的任选高折射率滤色器平面化层上的高折射率滤色器层；邻近滤色器层设置的高折射率纳米结构化转印层，该高折射率纳米结构化转印层具有与滤色器层相对的纳米结构化表面；以及与纳米结构化表面接触的纳米结构化模板层，该纳米结构化模板层邻近基板，其中纳米结构化模板层的折射率比高折射率纳米结构化转印层的折射率低。在又一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面、相对底表面并能够通过该相对底表面发射白色光谱的至少一个有机发光二极管(OLED)；邻近相对底表面的高折射率电路平面化层；与高折射率电路平面化层接触的高折射率纳米结构化转印层，该高折射率纳米结构化转印层具有与高折射率电路平面化层相对的纳米结构化表面；以及与纳米结构化表面接触的纳米结构化模板层，该纳米结构化模板层邻近被设置在基板上的滤色器层，其中纳米结构化模板层的折射率比高折射率纳米结构化转印层的折射率低。在又一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面、相对底表面并能够通过相对底表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与相对底表面接触的高折射率纳米结构化转印层，该高折射率纳米结构化转印层具有与相对底表面相对的纳米结构化表面；与纳米结构化表面接触的纳米结构化模板层，该纳米结构化模板层被设置在滤色器层上；以及被设置在滤色器层和基板之间的像素电路平面化层，其中纳米结构化模板层的折射率比高折射率纳米结构化转印层的折射率低。在又一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面并能够通过顶表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与顶表面接触并具有平坦相对表面的高折射率光学耦合层(OCL)；邻近高折射率OCL的平坦表面的高折射率滤色器平面化层，该高折射率滤色器平面化层具有在与高折射率OCL相对的侧面上的纳米结构化表面；以及被设置在与高折射率OCL的平坦相对表面相对的高折射率滤色器平面化层上的高折射率滤色器层，其中高折射率滤色器层的折射率≥高折射率滤色器平面化层的折射率≥高折射率OCL的折射率。在又一方面，本公开提供了白光成色(CBW)图像显示器，其包括具有顶表面并能够通过顶表面发射白色光谱的光的至少一个有机发光二极管(OLED)；与顶表面接触并具有平坦相对表面的高折射率光学耦合层(OCL)；邻近高折射率OCL的平坦相对表面的高折射率滤色器平面化层；以及被设置在与高折射率OCL的平坦相对表面相对的高折射率滤色器平面化层上的高折射率滤色器层，该高折射率滤色器层具有在邻近高折射率滤色器平面化层相的侧面上的纳米结构化表面，其中高折射率滤色器层的折射率≥高折射率滤色器平面化层的折射率≥高折射率OCL的折射率。在又一方面，本公开提供了一种方法，该方法包括：将光学耦合层(OCL)前体涂覆在白光成色(CBW)OLED阵列的顶表面上，从而形成平面化OCL前体表面；将具有纳米结构化表面的光提取滤色器层合物层合到OCL前体表面上，由此使得OCL前体至少部分地填充纳米结构化表面；以及聚合OCL前体以形成纳米结构化高折射率OCL。在又一方面，本公开提供了一种方法，该方法包括：将光学耦合层(OCL)前体涂覆到白光成色(CBW)OLED阵列的顶表面上，从而形成平面化OCL前体表面；将光提取滤色器层合物层合到OCL前体表面上，使得光提取滤色器层合物的转印层的平坦外表面接触该OCL前体表面，其中光提取滤色器层合物包括嵌入式纳米结构化表面；以及聚合OCL前体以形成高折射率OCL并将转印层的平坦外表面粘合到高折射率OCL。在又一方面，本公开提供了一种方法，该方法包括：提供具有基板、滤色器阵列和具有嵌入式纳米结构的外部转印层的光提取滤色器层合物；以及在外部转印层上形成与滤色器阵列对准的底发射OLED阵列。在又一方面，本公开提供了光提取滤色器层合物，该光提取滤色器层合物包括具有被设置在其主表面上的纳米结构化模板层的支撑件，该纳米结构化模板层具有与主表面相对的纳米结构化表面；填充纳米结构化表面并具有与纳米结构化表面相对的平坦表面的高折射率回填层；以及被设置在平坦表面上的滤色器阵列。在又一方面，本公开提供了光提取滤色器层合物，该光提取滤色器层合物包括具有被设置在其主表面上的滤色器阵列的支撑件；邻近滤色器阵列设置并具有与支撑件相对的纳米结构化表面的纳米结构化模板层；填充纳米结构化表面并具有与纳米结构化表面相对的平坦表面的高折射率回填层。在又一方面，本公开提供了光提取滤色器层合物，该光提取滤色器层合物包括具有被设置在其主表面上的滤色器阵列的支撑件；以及邻近滤色器阵列设置并具有与支撑件相对的纳米结构化表面的纳米结构化模板层。在另一方面，本公开提供了白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，其包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板；滤色器基板，所述滤色器基板包括：支撑基板；与所述支撑基板折射率匹配的具有纳米结构化相对表面和与所述支撑基板接触的平坦表面的纳米结构化转印层；与所述转印层的所述纳米结构化表面一致并且使得所述纳米结构化表面平面化、并具有平坦相对表面的高折射率转印层平面化层；与所述高折射率转印层平面化层的所述平坦表面接触的高折射率滤色器层；和与所述高折射率滤色器层接触的高折射率滤色器平面化层；和与所述OLED顶表面接触并具有与所述高折射率滤色器平面化层接触的平坦相对表面的光学耦合层(OCL)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.19 US 61/955,556;2014.11.25 US 62/084,0491.一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板；滤色器基板，所述滤色器基板包括：支撑基板；与所述支撑基板折射率匹配的具有纳米结构化相对表面和与所述支撑基板接触的平坦表面的纳米结构化转印层；与所述转印层的所述纳米结构化表面一致并且使得所述纳米结构化表面平面化、并具有平坦相对表面的高折射率转印层平面化层；与所述高折射率转印层平面化层的所述平坦表面接触的高折射率滤色器层；和与所述高折射率滤色器层接触的高折射率滤色器平面化层；和与所述OLED顶表面接触并具有与所述高折射率滤色器平面化层接触的平坦相对表面的光学耦合层(OCL)。2.根据权利要求1所述的CBW图像显示器，还包括被设置在所述OCL和所述高折射率滤色器平面化层之间的辅助层。3.根据权利要求2所述的CBW图像显示器，其中所述辅助层包含透明的导电氧化物。4.根据权利要求1所述的CBW图像显示器，其中所述OCL包含混合材料。5.根据权利要求4所述的CBW图像显示器，其中所述混合材料包含纳米粒子填充的丙烯酸酯或纳米粒子填充的倍半硅氧烷。6.一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板；滤色器基板，所述滤色器基板包括：具有平坦表面的支撑基板；与所述支撑基板的所述平坦表面接触的滤色器层；纳米结构化转印层；和与所述转印层的所述纳米结构化表面一致并且使得所述纳米结构化表面平面化、并具有平坦相对表面的高折射率转印层平面化层；和与所述OLED顶表面接触并具有与所述转印层平面化层接触的平坦相对表面的光学耦合层(OCL)。7.根据权利要求6所述的CBW图像显示器，还包括被设置在所述高折射率转印层平面化层和所述OCL之间的辅助层。8.根据权利要求7所述的CBW图像显示器，其中所述辅助层包含透明的导电氧化物。9.根据权利要求6所述的CBW图像显示器，其中所述OCL包含混合材料。10.根据权利要求9所述的CBW图像显示器，其中所述混合材料包含纳米粒子填充的丙烯酸酯或纳米粒子填充的倍半硅氧烷。11.根据权利要求6所述的CBW图像显示器，还包括与所述滤色器接触的滤色器平面化层，其中所述纳米结构化转印层与所述滤色器平面化层折射率匹配并且所述纳米结构化转印层具有纳米结构化相对表面和与所述滤色器平面化层接触的平坦表面。12.一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板；滤色器基板，所述滤色器基板还包括：具有平坦表面的支撑基板；具有与具有平坦表面和纳米结构化相对表面的所述支撑基板的所述平坦表面接触的平坦表面的滤色器层；和与所述转印层的所述纳米结构化表面一致并且使得所述纳米结构化表面平面化、并具有平坦相对表面的与所述滤色器层接触的高折射率滤色器层平面化层或高折射率转印层平面化层；和与所述OLED顶表面接触并具有与所述转印层平面化层接触的平坦相对表面的光学耦合层(OCL)。13.根据权利要求12所述的CBW图像显示器，还包括被设置在所述高折射率滤色器层平面化层和所述OCL之间的辅助层。14.根据权利要求13所述的CBW图像显示器，其中所述辅助层包含透明的导电氧化物。15.根据权利要求12所述的CBW图像显示器，其中所述OCL包含混合材料。16.根据权利要求15所述的CBW图像显示器，其中所述混合材料包含纳米粒子填充的丙烯酸酯或纳米粒子填充的倍半硅氧烷。17.一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有顶表面并能够通过所述顶表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板；滤色器基板，所述滤色器基板还包括：具有平坦表面的支撑基板；与所述支撑基板的所述平坦表面接触的滤色器层；纳米结构化转印层；和与所述OLED顶表面接触并具有与所述转印层的所述纳米结构化表面一致的相对纹理化表面的光学耦合层(OCL)。18.根据权利要求17所述的CBW图像显示器，其中所述OCL包含混合材料。19.根据权利要求18所述的CBW图像显示器，其中所述混合材料包含纳米粒子填充的丙烯酸酯或纳米粒子填充的倍半硅氧烷。20.根据权利要求17所述的CBW图像显示器，还包括与所述滤色器接触的滤色器平面化层，其中所述纳米结构化转印层与所述滤色器平面化层折射率匹配并且所述纳米结构化转印层具有纳米结构化相对表面和与所述滤色器平面化层接触的平坦表面。21.根据权利要求20所述的CBW图像显示器，还包括被设置在所述滤色器平面化层和所述纳米结构化转印层之间的辅助层。22.根据权利要求21所述的CBW图像显示器，其中所述辅助层包含透明的导电氧化物。23.一种白光成色(CBW)有机发光二极管(OLED)图像显示器，包括：具有底表面的能够通过所述底表面发射白色光谱的光的有机发光二极管(OLED)基板，所述OLED基板包括；滤色器基板，所述滤色器基板还包括：具有平坦表面的OLED支撑件；与所述OLED支撑件的所述平...

【专利技术属性】
技术研发人员：马丁·B·沃克，李城垞，迈克尔·本顿·弗里，尼古拉斯·C·埃里克森，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US