光学膜及其制造方法技术

技术编号:13984158 阅读:174 留言:0更新日期:2016-11-12 19:54
本发明专利技术的课题在于提供一种表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外,本发明专利技术的课题在于提供其制造方法。本发明专利技术的光学膜的特征在于,是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜,上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜及其制造方法
技术介绍
近年来,对显示装置强烈要求大型化、薄膜化、挠性化等,包含偏振片的各部件的高功能化不断发展。组合于搭载有机电致发光元件(以下,也称为有机EL元件)的图像显示装置的偏振片,一般具有在2个保护膜间配置有起偏器的构成,为了对偏振片附加防反射功能,有机EL元件侧使用赋予了相位差的保护膜。另外,液晶显示装置(LCD)具有液晶单元和夹持该液晶单元的一对偏振片。对于这些显示装置中使用的偏振片中的特别是视觉辨认侧的偏振片,为了防止表面带伤,要求具有高耐擦伤性。作为基材膜,以往一直广泛使用乙酸纤维素膜。但是,该膜具有具备吸湿性、透湿性的缺点。环烯烃系树脂由于该缺点少,耐水性、耐热性、透明性、尺寸稳定性等良好,因此作为用于保护膜的优异的热塑性树脂受到关注。然而,使用环烯烃系树脂作为光学膜时,存在表面硬度不充分而容易带伤的问题。作为其对策,正在研究提高视觉辨认侧的偏振片所使用的光学膜的表面硬度。作为为了提高光学膜的表面硬度而在基材膜上层叠硬涂层的技术,例如,专利文献1中公开了通过使环烯烃膜上的硬涂层含有微粒来提高抗粘连性、耐擦伤性的技术。另外,专利文献2中公开了在涂布硬涂层前经由与满足特定的条件的溶剂接触的工序而制造环烯烃系高分子膜的制造方法。然而,这些技术在通过提高在由环烯烃系树脂构成的基材上设置有硬涂层的光学膜的表面硬度而改善耐擦伤性方面都不充分。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2013-186236号公报专利文献2:日本特开2014-70211号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题·状况而进行的,其所要解决的课题在于提供表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外,本专利技术的课题在于提供其制造方法。本专利技术人为了解决上述课题,在对上述问题的原因等进行研究的过程中,通过发现使硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子,并且,使基材膜的环烯烃系树脂含有特定量的低分子化合物,能够提高光学膜的表面硬度而大幅提高耐擦伤性,从而完成了本专利技术。即,本专利技术的上述课题通过以下的手段解决。1.一种光学膜,其特征在于,是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜,上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。2.根据第1项所述的光学膜,其特征在于,上述树脂层中含有的上述低分子量化合物为紫外线吸收剂。3.根据第1项所述的光学膜,其特征在于,上述硬涂层中含有的上述二氧化硅粒子相对于上述紫外线固化树脂的质量比的值(二氧化硅粒子/紫外线固化树脂)在10/90~50/50的范围内。4.根据第1项所述的光学膜,其特征在于,上述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。5.根据第1项所述的光学膜,其特征在于,上述硬涂层的厚度在2~15μm的范围内。6.根据第1项~第5项中任一项所述的光学膜,其特征在于,在23℃·55%RH的环境下,光波长550nm的面内方向的延迟值(Ro(550))满足下述式(1)。式(1):100nm≤Ro(550)≤170nm7.一种光学膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法,上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子,并且,经由将涂布液进行涂布的工序而形成硬涂层,上述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂作为含有上述紫外线固化树脂和上述二氧化硅粒子的涂布液的溶剂而制备的涂布液。8.一种光学膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法,上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子,并且,经由将溶解有含有上述环烯烃系树脂的树脂的溶液流延在基体上的工序来制膜,形成上述树脂层。9.根据第8项所述的光学膜的制造方法,其特征在于,在上述制膜后经由将卷绕的膜料卷(原反)开卷并在倾斜方向拉伸的工序而形成上述树脂层。利用本专利技术的上述方式,能够提供表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外,能够提供其制造方法。虽然本专利技术的效果的表现机理和作用机理尚不明确,但推测如下。通过使基材膜的环烯烃系树脂含有特定量的低分子化合物而能够大幅增加表面硬度,考虑是因为通过在环烯烃系树脂中添加低分子量化合物,从而使该添加剂能够相容性良好地填上环烯烃系树脂的自由体积,树脂层的密度增加。并且,推断通过使硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子,能够实现表面硬度高、耐擦伤性优异的光学膜。附图说明图1是光学膜的构成的一个例子图2A是能够倾斜拉伸的拉幅机的一个例子图2B是能够倾斜拉伸的拉幅机的另一个例子图3是液晶显示装置的构成的一个例子符号说明1 光学膜2 树脂层3 硬涂层4 膜料卷5 拉伸膜6 倾斜拉伸拉幅机7-1 外侧的膜把持机构的轨迹7-2 内侧的膜把持机构的轨迹8-1 外侧的膜把持开始点8-2 内侧的膜把持开始点9-1 外侧的膜把持结束点9-2 内侧的膜把持结束点10-1 外侧倾斜拉伸开始点10-2 内侧倾斜拉伸开始点11-1 外侧倾斜拉伸结束点11-2 内侧倾斜拉伸结束点11-3 外侧横拉伸区域终点12-1 拉幅机入口侧的导辊12-2 拉幅机出口侧的导辊13 膜的拉伸方向14-1 倾斜拉伸前的膜的搬运方向14-2 倾斜拉伸后的膜的搬运方向15 左右把持具彼此的搬运速度不同的部分W0 倾斜拉伸前的膜宽度方向长度W 倾斜拉伸后的膜宽度方向长度30 液晶单元50 第一偏振片51 第一起偏器53 光学膜(F1)55 光学膜(F2)70 第二偏振片71 第二起偏器73 光学膜(F3)75 光学膜(F4)90 背光灯100 液晶显示装置具体实施方式本专利技术的光学膜的特征在于,是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜,上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。该特征是权利要求1~权利要求9的权利要求涉及的专利技术所共有的技术特征。作为本专利技术的实施方式,从本专利技术的效果体现的观点考虑,上述树脂层中含有的上述低分子量化合物优选为紫外线吸收剂。另外,从兼得高的表面硬度和低的雾度方面考虑,优选硬涂层中含有的上述二氧化硅粒子相对于上述紫外线固化树脂的质量比的值(二氧化硅粒子/紫外线固化树脂)在10/90~50/50的范围内。另外,从兼得雾度和耐擦伤性的观点考虑,优选上述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。并且,从使偏振片薄膜化的趋势考虑,优选上述硬涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜,其特征在于,是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜,所述树脂层在相对于所述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,并且所述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。

【技术特征摘要】
2015.04.30 JP 2015-0928341.一种光学膜,其特征在于,是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜,所述树脂层在相对于所述环烯烃系树脂为0.1~5.0质量%的范围内含有重均分子量Mw在100~10000的范围内的低分子量化合物,并且所述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。2.根据权利要求1所述的光学膜,其特征在于,所述树脂层中含有的所述低分子量化合物为紫外线吸收剂。3.根据权利要求1所述的光学膜,其特征在于,所述硬涂层中含有的所述二氧化硅粒子相对于所述紫外线固化树脂的质量比的值、即二氧化硅粒子/紫外线固化树脂在10/90~50/50的范围内。4.根据权利要求1所述的光学膜,其特征在于,所述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。5.根据权利要求1所述的光学膜,其特征在于,所述硬涂层的厚度在2~15μm的范围内。6.根据权利要求1~5中任一项所述的光学膜,其特征在于,在23℃·55%RH的环境下,光波长550nm的面内方向的延迟值Ro(550)满足下述式(1),式(1)...

【专利技术属性】
技术研发人员:西村浩
申请(专利权)人:柯尼卡美能达株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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