【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种制备石墨烯的方法,尤其涉及一种石墨烯的催化制备方法。
技术介绍
石墨烯是由碳原子组成的只有一层原子厚度的二维晶体,是目前发现的最薄、强度最大、导电导热性能最强的一种新型纳米材料。大面积、高质量的石墨烯在精密的微电子领域得到良好的应用;将石墨烯制成粉体则有利于石墨烯在复合材料中广泛应用。目前制备石墨烯的方法主要有机械剥离法、SiC外延生长法、、氧化还原法和化学气相沉积法。机械剥离法操作简单,得到的石墨烯通常保持着完整的晶体结构,但是生产效率低。氧化还原法操作简单,产量高,但是强氧化剂会严重破坏石墨烯的电子结构以及晶体的完整性,影响电子性质。SiC外延法可以获得高质量的石墨烯,但对设备要求较高,难以实现大规模生产。化学气相沉积法(CVD)可得到大尺寸高质量的石墨烯薄膜,但难满足大规模功能性复合材料领域的需求。
技术实现思路
本专利技术提出一种石墨烯的催化制备方法,该方法操作简单,适用于大规模生产,采用的催化剂可循环利用,成本低,生成的石墨烯可应用到复合材料领域。本专利技术提出一种一种石墨烯的催化制备方法,包括以下步骤:A)铜化合物与还原剂反应制得铜粉;B)将铜粉升至反应温度,通入气态碳源,气态碳源在铜的催化下裂解生成碳原子吸附于铜表面,生长成石墨烯;C)快速冷却至常温,使铜收缩与石墨烯之间产生缝隙;D)用氧化剂使铜生成化合物;E)分离干燥石墨烯,铜化合物循环利用。优选的,所述铜化合物包括氧化铜、氯化铜或硫酸铜。优选的,所述还原剂包括氢气、碳、铁或铝。优选的,所述铜粉为微米或毫米级别。优选的,所述气态碳源为烃类气体。优选的,所述烃类气体包括甲烷、 ...
【技术保护点】
一种石墨烯的催化制备方法,其特征在于,包括以下步骤:A)铜化合物与还原剂反应制得铜粉;B)将铜粉升至反应温度,通入气态碳源,气态碳源在铜的催化下裂解生成碳原子吸附于铜表面以生长成石墨烯;C)快速冷却至常温,使铜收缩与石墨烯之间产生缝隙;D)用氧化剂使铜生成化合物;E)分离干燥石墨烯,铜化合物循环利用。
【技术特征摘要】
1.一种石墨烯的催化制备方法,其特征在于,包括以下步骤:A)铜化合物与还原剂反应制得铜粉;B)将铜粉升至反应温度,通入气态碳源,气态碳源在铜的催化下裂解生成碳原子吸附于铜表面以生长成石墨烯;C)快速冷却至常温,使铜收缩与石墨烯之间产生缝隙;D)用氧化剂使铜生成化合物;E)分离干燥石墨烯,铜化合物循环利用。2.根据权利要求1所述一种石墨烯的催化制备方法,其特征在于,所述铜化合物包括氧化铜、氯化铜或硫酸铜。3.根据权利要求1所述一种石墨烯的催化制备方法,其特征在于,所述还原剂...
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