【技术实现步骤摘要】
相关专利申请的交叉引用本专利申请要求2015年4月18日提交的美国临时专利申请序列号62/149548的权益。专利技术背景电子器件制造工业需要各种化学物质作为原材料或前体来制造集成电路和其他电子器件。沉积工艺如化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)工艺用于半导体器件制造过程中的一个或多个步骤中以在衬底表面上形成一个或多个薄膜或涂层。在典型的CVD或ALD工艺中,将可能为固相或液相的前体源输送到具有包含于其中的一个或多个衬底的反应腔室,在其中前体在一定条件(如温度或压力)下反应以在衬底表面上形成涂层或薄膜。存在若干公认的技术以将前体蒸气供应到处理腔室。一种工艺将液体前体以液体形式供应到处理腔室,通过液体质量流量控制器(LMFC)控制流速,然后前体在使用位点处通过气化器蒸发。第二种工艺包括通过加热蒸发液体前体和产生的蒸气以通过质量流量控制器(MFC)控制的流速供应到腔室。第三种工艺包括将载气向上鼓泡通过液体前体。第四种工艺包括使载气能够在包含于罐中的前体的表面上流过并将前体蒸气带出该罐和随后带到处理设备处。这第三种工艺(通过升华输送来自固体前体的化学物质蒸气)是本专利技术的主题。与通过升华输送来自固体前体的化学物质蒸气的常规容器相关的一个挑战是难以获得前体的高利用率。换句话说,当将容器停止使用以清洁和再填充时,难以最小化遗留在容器中的前体量。该问题的一个原因是,在常规的固体源容器中,前体表面与用于循环载
气的入口和出口之间的距离以及载气在其中与前体蒸气接触的区域的体积随着前体的耗尽而增大。已尝试提高前体利用率,包括更均一地加热前体腔室和改善 ...
【技术保护点】
一种容器,其用于利用载气从包含在所述容器内的前体材料输送含有前体的流体流,所述容器包含:分段为上空间和下空间的内部空间,所述下空间包含基本上所有所述前体材料;限定所述上空间的至少一部分的盖子;具有上端的侧壁,该上端包含上边缘和上开口,其中所述上边缘的至少一部分接触所述盖子;限定所述下空间的一部分的基部,所述基部包括内部底表面,所述内部底表面限定所述下空间的下端,所述内部底表面具有内部底表面形状;位于所述侧壁的上端处的分隔体,所述分隔体插置于所述盖子和所述侧壁之间并且跨越所述上开口,所述分隔体由多孔材料形成并且具有形成于其中的第一孔隙;入口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述入口具有从所述盖子延伸至所述分隔体的体部,所述体部、所述分隔体和所述盖子限定在所述体部之外、所述盖子之内以及所述分隔体之上的出口腔室;扩散管,其具有与所述入口流体连通的近端以及位于所述下空间内的远端,所述远端包含喷嘴部分,所述喷嘴部分具有多个形成于其中的开口以及具有喷嘴部分形状;以及出口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述出口具有至少一个开口,所述至少一个开口各自位于所述出口腔室内;其中所述分隔体 ...
【技术特征摘要】
2015.04.18 US 62/149,548;2016.04.08 US 15/094,5511.一种容器,其用于利用载气从包含在所述容器内的前体材料输送含有前体的流体流,所述容器包含:分段为上空间和下空间的内部空间,所述下空间包含基本上所有所述前体材料;限定所述上空间的至少一部分的盖子;具有上端的侧壁,该上端包含上边缘和上开口,其中所述上边缘的至少一部分接触所述盖子;限定所述下空间的一部分的基部,所述基部包括内部底表面,所述内部底表面限定所述下空间的下端,所述内部底表面具有内部底表面形状;位于所述侧壁的上端处的分隔体,所述分隔体插置于所述盖子和所述侧壁之间并且跨越所述上开口,所述分隔体由多孔材料形成并且具有形成于其中的第一孔隙;入口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述入口具有从所述盖子延伸至所述分隔体的体部,所述体部、所述分隔体和所述盖子限定在所述体部之外、所述盖子之内以及所述分隔体之上的出口腔室;扩散管,其具有与所述入口流体连通的近端以及位于所述下空间内的远端,所述远端包含喷嘴部分,所述喷嘴部分具有多个形成于其中的开口以及具有喷嘴部分形状;以及出口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述出口具有至少一个开口,所述至少一个开口各自位于所述出口腔室内;其中所述分隔体和入口在操作上配置为防止除通过所述分隔体之外的从所述下空间到所述出口腔室中的流连通。2.根据权利要求1所述的容器,其中所述分隔体的多孔材料的过滤效率对于粒径为至少0.7μm的颗粒至少为90%。3.根据权利要求1或2所述的容器,其还包含装料端口,所述
\t装料端口穿过所述盖子并终止于所述下空间内沿所述侧壁定位的溜槽,所述装料端口与所述内部空间流体连通并且绕过所述分隔体。4.根据权利要求3所述的容器,其中所述下空间的下部半径大于所述侧壁的上边缘的上部半径,从而限定所述侧壁的肩部分。5.根据权利要求4所述的容器,其中所述下部半径比所述上部半径大至少20%。6.根据权利要求4所述的容器,其中所述溜槽位于所述肩部分中。7.根据权利要求1-6任一项所述的容器,其中所述喷嘴部分形状与所述内部底表面形状基本上相同。8.根据权利要求1-7任一项所述的容器,其中所述喷嘴部分形状和所述内部底表面形状都是凹面的。9.根据权利要求1-8任一项所述的容器,其中所述入口还包含位于所述分隔体下方的连接器,所述扩散管附接于所述连接器并且可从所述连接器脱离。10.根据权利要求1-9任一项所述的容器,其中所述体部还包含法兰,所述法兰的尺寸和位置使得在所述法兰和所述分隔体之间形成密封,从而防止从所述下空间通过所述第一孔隙到所述出口腔室的流连通。11.一种容器,其用于利用载气从包含在所述容器内的固体前体材料输送含有前体的...
【专利技术属性】
技术研发人员:C·M·伯特彻,T·A·斯泰德尔,S·V·伊万诺夫,
申请(专利权)人:气体产品与化学公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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