蒸镀装置以及使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法制造方法及图纸

在蒸镀装置中，包括：腔室，蒸镀对象物设于该腔室内；存在于腔室内、具有用于收纳蒸镀材料的壳体的蒸镀源(6)；和对蒸镀材料进行加热的加热部；在壳体开设有：将该壳体的内外连通、向蒸镀对象物吐出蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在使用了有机物质的器件的制造中使用的蒸镀装置以及使用了蒸镀装置的器件的制造方法。特别是，涉及包括从多个吐出口向腔室内吐出蒸镀材料的蒸镀源的蒸镀装置。
技术介绍
在有机发光元件和/或薄膜晶体管(Thin Film Transistor，以后简称为“TFT”)等器件中，使用有机发光元件中的有机发光层和/或TFT中的有机半导体层等用于发挥特定的功能的有机功能层。例如，有机发光元件具有在基板上按顺序层叠有金属电极、多层有机功能层、透明电极层的构成，各层主要通过真空蒸镀法在腔室之中形成。在真空蒸镀法中，通常使用在腔室内的例如上部设置基板、在下部设置蒸镀源的高真空的腔室(例如，专利文献1)。在蒸镀源，例如，在内部具有坩埚，收纳有粉末状的有机物质。在坩埚的周围设有加热装置，利用红外线辐射热加热坩埚。通过加热而使收纳于蒸镀源的有机物质蒸发，作为有机物气体向腔室内扩散。然后，与基板接触的有机物气体凝固而在基板上形成薄膜状的有机功能层。另外，为了防止成膜的不均匀性，提出了通过设置了多个吐出口的盖将放入了蒸镀材料的坩埚盖上的方法(例如，专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2005－310471号公报专利文献2:日本特开2011－127217号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，在使用真空蒸镀法向基板蒸镀蒸镀材料而形成功能膜时，存在向腔室内运入蒸镀材料时微量的大气中的水分等杂质混入于蒸镀材料的情况。在该情况下、混入的杂质与蒸镀材料反应而导致蒸镀材料的变质进而材料特性的劣化。本专利技术的目的在于，提供一种减轻蒸镀材料的变质和/或材料特性的劣化的蒸镀装置以及使用了该蒸镀装置的蒸镀方法以及器件的制造方法。用于解决课题的手段为了达成上述目的，本专利技术的一技术方案所涉及的蒸镀装置，其特征在于，包括：腔室，蒸镀对象物设于该腔室内；存在于所述腔室内、具有用于收纳蒸镀材料的壳体的蒸镀源；和对所述蒸镀材料进行加热的加热部；在所述壳体上开设有：将该壳体的内外连通、向所述蒸镀对象物吐出所述蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口。专利技术效果本专利技术的一技术方案所涉及的蒸镀装置，在器件制造工序中，能够将混入到蒸镀源的壳体内的杂质向壳体外排出，所以能够防止杂质与蒸镀材料反应。因此，在蒸镀工序中，能够减轻蒸镀材料的变质和/或材料特性的劣化。附图说明图1是表示实施方式1所涉及的蒸镀装置1的构造的示意剖视图。图2是表示在蒸镀装置1内向基板蒸镀蒸镀物质的样态的示意图。图3是表示实施方式1所涉及的蒸镀源6的构成的立体图。图4是实施方式1所涉及的蒸镀源6的示意剖视图。图5(a)是使用实施方式1所涉及的蒸镀装置1的蒸镀方法中的蒸镀源6的温度曲线图的一例，(b)是腔室2内的压力曲线图的一例。图6是表示实施方式2所涉及的蒸镀装置1X的构造的示意剖视图。图7是表示实施方式3所涉及的蒸镀装置1A的构造的示意剖视图。图8是表示实施方式3的变形例所涉及的蒸镀装置1B的构造的示意剖视图。图9是表示实施方式4所涉及的蒸镀装置1C的构造的示意剖视图。图10是实施方式4所涉及的蒸镀源6C的示意剖视图。图11(a)是使用实施方式4所涉及的蒸镀装置1C的蒸镀方法中的蒸镀源6C的温度曲线图的一例，(b)是腔室2内的压力曲线图的一例。图12(a)～(d)是对作为实施方式5所涉及的器件的制造方法的一实施方式的有机EL装置的制造方法进行说明的工序图。具体实施方式《得到具体实施方式的经过》在使用真空蒸镀法向作为蒸镀对象物的基板等进行蒸镀时，在蒸发速率在蒸镀面内不均匀的情况下膜厚在面内不均匀，例如，在有机发光元件中导致亮度不均。特别是，用以往的被称为点源的点形状的蒸镀源难以向基板整个面均匀地蒸镀。作为对基板均匀地蒸镀材料的方法，进行了各种研究。例如，通过使用被称为线源的比基板的宽度长的线形状的蒸镀源、在线源的上方，与线源纵长方向垂直地运送基板，从而在基板形成面状的蒸镀膜(例如，专利文献1)。由此，与使用多个点源的情况相比，线源纵长方向上的膜厚的均匀性提高。在该情况下，考虑了如下方法：扩大大型基板与线源的距离，虽然纵长方向的蒸发速率存在一些不均，但是来自各蒸镀源的蒸镀材料的飞散范围重复从而可谋求膜厚的均匀性的提高。但是，腔室的容积变大，抽真空需要时间，所以不优选。因此，在专利文献2中，如上所述，为了防止成膜的不均匀性，提出了用设置了多个吐出口的盖将放入了蒸镀材料的坩埚盖上的方法。在该方法中，在坩埚的上部的开口设置盖，由此通过蒸发的蒸镀材料的蒸气将坩埚的内部充满，充满的蒸气通过坩埚内压从各吐出口以相同压力喷出。即，即使在蒸镀材料存在纵长方向的温度不均的情况下，通过在坩埚内部一度充满蒸镀材料的蒸气，就能够以相同蒸发速率向腔室喷出蒸气，能够减轻上述纵长方向的温度不均对蒸发速率变动的影响。然而，专利技术者通过研究发现在该方法中产生其他的课题。即，发现下述的课题：在向腔室内的坩埚内补充蒸镀材料时杂质与蒸镀源一起向坩埚内混入，混入的杂质与蒸镀材料反应而导致蒸镀材料的变质、进而材料特性的劣化。以下，对专利技术者发现的课题进行说明。蒸镀材料向腔室内的坩埚补充通过以下的工艺进行。1)成膜结束后，使腔室内的坩埚恢复到室温，然后，将腔室内的压力设为大气压。2)将坩埚取出到腔室外。3)向坩埚填充蒸镀材料。蒸镀材料在室温下由液体或固体构成。4)使填充有蒸镀材料的坩埚回到腔室内。5)将腔室内抽真空，然后，对坩埚加热。6)然后，进行利用蒸镀的成膜工艺。在上述工艺中，通过3)向坩埚内补充蒸镀材料时杂质与蒸镀材料一起向坩埚内混入，通过4)使坩埚回到腔室内时杂质与蒸镀材料一起混入。而且，通过5)中的加热，杂质从蒸镀材料和/或坩埚在坩埚内蒸发。在这里，杂质例如为大气中的水分和/或氧气，原来就包含于蒸镀材料的内部，或者在大气开放时被吸附于坩埚的内周面。如果是上部开口开放的通常的坩埚，则蒸发的杂质向腔室内分散，通过真空装置向腔室外排气，所以不会产生课题。然而，在设置具有多个吐出口的盖的方式中，蒸发的杂质在坩埚内充满，难以向腔室逸出(或者，逸出需要时间)。而且，此时，蒸镀材料通过加热而处于活性比较高的状态，所以处于容易与杂质反应的条件下。结果，在蒸镀材料使用有机材料的情况下，产生例如有机材料分子的H置换为OH基等蒸镀材料的劣化。另外，有在坩埚内作为杂质的水分的吸附量多而内压急剧上升的情况，在该情况下，蒸镀材料的劣化加速。对于此，考虑了如果防止在向坩埚内补充蒸镀材料时与蒸镀材料一起向坩埚内混入的杂质与蒸镀材料反应，则可有效防止蒸镀材料的劣化。因此，专利技术者对在器件制造工序中、既能在有机功能层中实现面内膜厚的均匀化又能防止向坩埚内混入的杂质与蒸镀材料的反应的方法进行了锐意研究。于是，想到了以下的实施方式所记载的能够减轻蒸镀材料的变质和/或材料特性的劣化的蒸镀装置、以及使用了该蒸镀装置的蒸镀方法以及器件的制造方法。《具体实施方式的概要》本实施方式所涉及的蒸镀装置，其特征在于，包括：腔室，蒸镀对象物设于该腔室内；存在于所述腔室内、具有用于收纳蒸镀材料的壳体的蒸镀源；和对所述蒸镀材料进行加热的加热部；在所述壳体开设有：将该壳体的内外连通、向所述蒸镀对象物吐出所述蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口另本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀装置，包括：腔室，蒸镀对象物设于该腔室内；存在于所述腔室内、具有用于收纳蒸镀材料的壳体的蒸镀源；和对所述蒸镀材料进行加热的加热部；在所述壳体开设有：将该壳体的内外连通、向所述蒸镀对象物吐出所述蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.11 JP 2014-0480251.一种蒸镀装置，包括：腔室，蒸镀对象物设于该腔室内；存在于所述腔室内、具有用于收纳蒸镀材料的壳体的蒸镀源；和对所述蒸镀材料进行加热的加热部；在所述壳体开设有：将该壳体的内外连通、向所述蒸镀对象物吐出所述蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口。2.如权利要求1所述的蒸镀装置，包括：连接于所述排气口、将所述壳体内与所述腔室外连通的排气管；和将所述壳体内的气体经由所述排气管向所述腔室外排气的排气单元。3.如权利要求1或2所述的蒸镀装置，在所述壳体还开设有进气口；所述蒸镀装置包括：连接于所述进气口、将所述壳体内与所述腔室外连通的进气管；和使气体经由所述进气管进入所述壳体内的进气单元。4.如权利要求1所述的蒸镀装置，所述排气口将所述壳体内与所述壳体外的所述腔室内的空间连通。5.如权利要求1至4的任意1项所述的蒸镀装置，所述排气口构成为能够通过阀开闭。6.如权利要求1所述的蒸镀装置，所述壳体具有：具有底板和围绕所述底板的周壁的壳体主体部；和与所述底板相对向、并与所述底板以及所述周壁一起形成收纳所述蒸镀材料的内部空间的壳体盖部；在所述壳体主体部开设所述排气口，在所述壳体盖部开设所述多个吐出口。7.如权利要求1所述的蒸镀装置，在所述壳体，内设有收纳所述蒸镀材料的坩埚。8.一种蒸镀源，是在用于将有机层形成于蒸镀对象物的蒸镀装置中使用的蒸镀源，具有在内部收纳蒸镀材料的壳体；在所述壳体开设有：将该壳体的内外连通、向所述蒸镀对象物吐出所述蒸镀材料的蒸气的多个吐出口；和能够开闭的排气口。9.如权利要求8所述的蒸镀源，包括收纳所述蒸镀材料的坩埚；所述壳体具有：具有底板和围绕所述底板的周壁的壳体主体部；和与所述底板相对向、并与所述底板以及所述周壁一起形成收纳所述坩埚的内部空间的壳体盖部；在所述壳体主体部开设所述排...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷口明，
申请(专利权)人：株式会社日本有机雷特显示器，
类型：发明
国别省市：日本;JP