工作台装置、测量装置、机床和半导体制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术的工作台装置（100）具备：第一工作台（1），其具有第一上表面；第二工作台（2），其在与规定面内的第一轴平行的第一轴向上配置在第一工作台的一侧，具有第二上表面；第一导向装置（3），其沿第一轴向引导第一工作台；以及第二导向装置（4），其沿第一轴向引导第二工作台。第一导向装置与第二导向装置沿与正交于第一轴的规定面内的第二轴平行的第二轴向配置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及工作台装置、测量装置、机床和半导体制造装置。
技术介绍
在测量装置和机床中使用具有能够移动的工作台的工作台装置。专利文献1中公开了与具有第一工作台和第二工作台的定位工作台相关的技术。专利文献1：日本特开昭63－300837号公报
技术实现思路
在工作台装置中，如果第一工作台和第二工作台的可动范围受到限制，则可能无法将该第一工作台和第二工作台配置成所期望的位置关系，使得具备该工作台装置的测量装置和机床的性能下降。例如，由于受到第一工作台和第二工作台的可动范围的限制，第一工作台和第二工作台可能无法靠近。其结果，有可能导致载置于第一工作台及第二工作台上的物体无法顺利移动。本专利技术的目的在于，提供一种能够使第一工作台和第二工作台顺利移动至目标位置的工作台装置。此外，本专利技术的目的在于，提供一种能够抑制性能降低的测量装置和机床。本专利技术的第一形态提供一种工作台装置，其具备：第一工作台，其具有第一上表面；第二工作台，其在与规定面内的第一轴平行的第一轴向上配置在上述第一工作台的一侧，具有第二上表面；第一导向装置，其沿上述第一轴向引导上述第一工作台；以及第二导向装置，其沿上述第一轴向引导上述第二工作台，上述第一导向装置与上述第二导向装置沿与正交于第一轴的上述规定面内的第二轴平行的第二轴向配置。根据本专利技术的第一形态，沿第一轴向引导第一工作台的第一导向装置、以及沿第一轴向引导第二工作台的第二导向装置沿第二轴向配置。因此，第一轴向上的第一工作台的可动范围、以及第一轴向上的第二工作台的可动范围扩大。由此，能够使第一工作台和第二工作台顺利地移动至目标位置。在本专利技术的第一形态中，也可以是，上述第一导向装置包括：在上述第二轴向上支承上述第一工作台的一端部的第一导向机构、以及支承上述第一工作台的另一端部的第二导向机构，上述第二导向装置包括：在上述第二轴向上支承上述第二工作台的一端部的第三导向机构、以及支承上述第二工作台的另一端部的第四导向机构，在上述第二轴向上，上述第一导向机构最靠一侧地配置，上述第三导向机构仅次于上述第一导向机构靠上述一侧地配置，上述第二导向机构仅次于上述第三导向机构靠上述一侧地配置，上述第四导向机构最靠另一侧地配置。由此，第一导向装置能够利用一对导向机构(第一导向机构和第二导向机构)稳定地引导第一工作台。第二导向装置能够利用一对导向机构(第三导向机构和第四导向机构)稳定地引导第二工作台。此外，通过在第二轴向上配置第一导向机构、第二导向机构、第三导向机构和第四导向机构，能够使第一导向装置的结构和第二导向装置的结构实质上相同。由此，能够使第一工作台和第二工作台两者以相同的移动精度移动。在本专利技术的第一形态中，也可以是，上述第一工作台和上述第二工作台以在上述第一轴向上上述第一上表面的一侧端部和上述第二上表面的另一侧端部靠近或接触的方式移动。由此，能够使物体从第一上表面和第二上表面中的一方顺利地移动至另一方。在本专利技术的第一形态中，也可以是，上述第一导向装置具有：第一滑动件，其与上述第一工作台的第一下表面连接；以及第一导轨，上述第一滑动件在该第一导轨上移动，上述第二导向装置具有：第二滑动件，其与上述第二工作台的第二下表面连接；以及第二导轨，上述第二滑动件在该第二导轨上移动，上述第一导轨与上述第二导轨在上述第二轴向上平行地配置，上述第一滑动件与上述第二滑动件能够以上述第一滑动件与上述第二滑动件的至少一部分沿上述第二轴向配置的方式在上述第一轴向上相对移动。由此，能够扩大第一工作台的可动范围和第二工作台的可动范围，使第一工作台和第二工作台充分地靠近。在本专利技术的第一形态中，也可以是，在上述第一滑动件与上述第二滑动件的至少一部分沿上述第二轴向配置的状态下，上述第一滑动件与上述第二滑动件之间有间距。由此，由于第一滑动件与第二滑动件不接触，所以第一工作台和第二工作台能够顺利地移动。在本专利技术的第一形态中，也可以是，在上述第一轴向上，上述第一工作台的尺寸小于上述第一滑动件的尺寸，上述第二工作台的尺寸小于上述第二滑动件的尺寸。由此，能够实现第一工作台和第二工作台的小型化及轻量化，由第一滑动件支承的第一工作台和由第二滑动件支承的第二工作台能够顺利地移动。在本专利技术的第一形态中，也可以是，上述第一滑动件与上述第二滑动件分别包括直线运动式轴承。由此，相对于行进方向(第一轴向)的俯仰精度良好。此外，能够增大对于俯仰力矩的容许范围。在本专利技术的第一形态中，也可以包括：线性标尺，其与上述第一导轨及上述第二导轨平行地配置；第一编码器头，其配置于上述第一工作台，能够检测上述线性标尺；第二编码器头，其配置于上述第二工作台，能够检测上述线性标尺；以及驱动系统，其基于上述第一编码器头的检测值和上述第二编码器头的检测值，使上述第一工作台和上述第二工作台中的至少一方在上述第一轴向上移动。由此，能够精确地检测第一工作台和第二工作台的位置信息，驱动系统能够使第一工作台和第二工作台精确地移动至目标位置。本专利技术的第二形态提供一种具备第一形态的工作台装置的测量装置。根据本专利技术的第二形态，测量装置能够对配置在目标位置的第一工作台上的物体或第二工作台上的物体进行测量。因此，能够精密地进行该物体的测量。本专利技术的第三形态提供一种具备第一形态的工作台装置的机床。根据本专利技术的第三形态，机床能够对配置在目标位置的第一工作台上的物体或第二工作台上的物体进行加工。因此，能够精密地进行该物体的加工。根据本专利技术的工作台装置，能够使第一工作台和第二工作台顺利地移动至目标位置。根据本专利技术的测量装置和机床，能够抑制性能降低。附图说明图1是表示第一实施方式涉及的工作台装置的一个示例的俯视图。图2是表示第一实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图3是表示第一实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图4是表示第一实施方式涉及的导向装置的一个示例的图。图5是表示比较例涉及的工作台装置的一个示例的俯视图。图6是表示比较例涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图7是表示第二实施方式涉及的工作台装置的一个示例的俯视图。图8是表示第二实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图9是表示第二实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图10是表示第三实施方式涉及的工作台装置的一个示例的俯视图。图11是表示第三实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图12是表示第四实施方式涉及的工作台装置的一个示例的俯视图。图13是表示第四实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图14是表示第四实施方式涉及的工作台装置的一个示例的侧视图。图15是表示第五实施方式涉及的输送装置和半导体制造装置的一个示例的图。图16是表示第五实施方式涉及的输送装置和测量装置的一个示例的图。图17是表示第五实施方式涉及的机床的一个示例的图。符号说明1 第一工作台1A 上表面1B 下表面2 第二工作台2A 上表面2B 下表面3 第一导向装置4 第二导向装置5 驱动系统31 滑动件32 导轨41 滑动件42 导轨60 检测系统61 编码器头62 编码器头63 线性标尺100 工作台装置301 导向机构302 导向机构401 导向机构402 导向机构500 半导体制造装置600 输送装置700 测量装置800 机床具体实施方式下面，参照附图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工作台装置，其特征在于，具备：第一工作台，其具有第一上表面；第二工作台，其在与规定面内的第一轴平行的第一轴向上配置在所述第一工作台的一侧，具有第二上表面；第一导向装置，其沿所述第一轴向引导所述第一工作台；以及第二导向装置，其沿所述第一轴向引导所述第二工作台，所述第一导向装置与所述第二导向装置沿与正交于第一轴的所述规定面内的第二轴平行的第二轴向配置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.03 JP 2014-0407171.一种工作台装置，其特征在于，具备：第一工作台，其具有第一上表面；第二工作台，其在与规定面内的第一轴平行的第一轴向上配置在所述第一工作台的一侧，具有第二上表面；第一导向装置，其沿所述第一轴向引导所述第一工作台；以及第二导向装置，其沿所述第一轴向引导所述第二工作台，所述第一导向装置与所述第二导向装置沿与正交于第一轴的所述规定面内的第二轴平行的第二轴向配置。2.根据权利要求1所述的工作台装置，其特征在于：所述第一导向装置包括：在所述第二轴向上支承所述第一工作台的一端部的第一导向机构、以及支承所述第一工作台的另一端部的第二导向机构，所述第二导向装置包括：在所述第二轴向上支承所述第二工作台的一端部的第三导向机构、以及支承所述第二工作台的另一端部的第四导向机构，在所述第二轴向上，所述第一导向机构最靠一侧地配置，所述第三导向机构仅次于所述第一导向机构靠所述一侧地配置，所述第二导向机构仅次于所述第三导向机构靠所述一侧地配置，所述第四导向机构最靠另一侧地配置。3.根据权利要求1或2所述的工作台装置，其特征在于：所述第一工作台和所述第二工作台以在所述第一轴向上所述第一上表面的一侧端部和所述第二上表面的另一侧端部靠近或接触的方式移动。4.根据权利要求1至3中任一项所述的工作台装置，其特征在于：所述第一导向装置具有：第一滑动件，其与所述第一工作台的第一下表面连接；以及第一导轨，所述第一滑动件在该第一导轨上移动，所述第二导向装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田大辅，
申请(专利权)人：日本精工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP