一种抗电磁波增亮膜制造技术

本实用新型专利技术涉及增亮膜技术领域，具体涉及一种抗电磁波增亮膜，包括基材层、设于基材层上表面的抗电磁波层以及设于抗电磁波层上表面的聚光结构层，抗电磁波层的内部包含有颗粒大小为纳米级的金属粉体，抗电磁波层的厚度为20‑50μm，所述聚光结构层由多个等距设置的棱镜组成，所述棱镜的横截面为等腰梯形。本实用新型专利技术的抗电磁波干扰性能好，光学增益效果好。

【技术实现步骤摘要】


本技术涉及增亮膜
，具体涉及一种抗电磁波增亮膜。

技术介绍

液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说，背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下扩散膜、下增亮膜、上增亮膜、上扩散膜；导光板及扩散膜可将点光源或线光源转化成均匀的面光源，而增亮膜能将原本发散的光线集中至轴向方向，从而提高液晶显示器正视亮度，但是现有的增亮膜普遍存在抗电磁波干扰性能差的缺陷。

技术实现思路

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本技术的目的在于提供一种抗电磁波增亮膜，其抗电磁波干扰性能好。
本技术的目的通过下述技术方案实现：一种抗电磁波增亮膜，包括基材层、设于基材层上表面的抗电磁波层以及设于抗电磁波层上表面的聚光结构层，抗电磁波层的内部包含有颗粒大小为纳米级的金属粉体，抗电磁波层的厚度为20-50μm，所述聚光结构层由多个等距设置的棱镜组成，所述棱镜的横截面为等腰梯形。
其中，两相邻棱镜的中线之间的距离等于棱镜的最底部宽度。
其中，所述等腰梯形的上顶角的角度为110-140°，等腰梯形的底宽为15-30μm，高为12-20μm，顶宽为2-4μm。
其中，所述基材层为PET膜层、PC膜层或PMMA膜层。
其中，所述基材层的厚度为30-50μm。
其中，所述基材层的全光线穿透率为85-98%，雾度为1-13%。
其中，所述聚光结构层为丙烯酸UV固化树脂层。
其中，所述抗电磁波层的全光线穿透率为84-95%，雾度为3-15%。
其中，所述棱镜的顶部表面为粗糙表面，其余表面的粗糙度小于14μm。
本技术的有益效果在于：本技术在基材层和聚光结构层之间设置抗电磁波层，增亮膜具有良好的抗电磁波性能，在使用的过程中能够有效避免电磁波干扰现象；本技术的棱镜的横截面为等腰梯形，增亮膜的上表面具有更大的接触面积，便于与其他工序的薄膜或者板型物体的粘接，且棱镜横截面为等腰梯形的设计，能实现光在空间多个方向上的光学增益效果，在单张增亮膜的基础上最大程度提高背光模组的显示均匀性以及光学增益效果。
附图说明
图1是本技术的示意图。
图2是本技术的立体图。
附图标记为：1—基材层、2—抗电磁波层、3—棱镜。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1-2对本技术作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本技术的限定。
见图1-2，一种抗电磁波增亮膜，包括基材层1、设于基材层1上表面的抗电磁波层2以及设于抗电磁波层2上表面的聚光结构层，抗电磁波层2的内部包含有颗粒大小为纳米级的金属粉体，抗电磁波层2的厚度为20-50μm，所述聚光结构层由多个等距设置的棱镜3组成，所述棱镜3的横截面为等腰梯形。
本技术在基材层1和聚光结构层之间设置抗电磁波层2，增亮膜具有良好的抗电磁波性能，在使用的过程中能够有效避免电磁波干扰现象；本技术的棱镜3的横截面为等腰梯形，增亮膜的上表面具有更大的接触面积，便于与其他工序的薄膜或者板型物体的粘接，且棱镜3横截面为等腰梯形的设计，能实现光在空间多个方向上的光学增益效果，在单张增亮膜的基础上最大程度提高背光模组的显示均匀性以及光学增益效果。
其中，两相邻棱镜3的中线之间的距离等于棱镜3的最底部宽度。两相邻棱镜3的中线之间的距离等于棱镜3的最底部宽度，即棱镜3水平堆叠设置于抗电磁波层2的上表面，确保所有的光线都经过棱镜3增益之后再从增亮膜射出。
其中，所述等腰梯形的上顶角的角度为110-140°，等腰梯形的底宽为15-30μm，高为12-20μm，顶宽为2-4μm。这样的尺寸设计能够确保等腰梯形具有足够的高度，使得多余的散射光线可以通过相邻的等腰梯形再反射回去重复利用而不削弱等腰梯形的增亮效果。
其中，所述基材层1为PET膜层、PC膜层或PMMA膜层。优选的，所述基材层1为PET基材层1，PET的价格相对比较便宜，有效降低了增亮膜的生产成本。
其中，所述基材层1的厚度为30-50μm。为使本技术达到最佳的使用效果，同时将基材层1的原料用量降到最低，基材层1的厚度为45μm。
其中，所述基材层1的全光线穿透率为85-98%，雾度为1-13%。基材层1的全光线穿透率和雾度设计合理，增亮膜的透光性好。
其中，所述聚光结构层为丙烯酸UV固化树脂层。丙烯酸UV固化树脂无毒无害且成膜性能好。
其中，所述抗电磁波层2的全光线穿透率为84-95%，雾度为3-15%。具体地抗电磁波层2的全光线穿透率为92%，雾度为5%，抗电磁波层2的全光线穿透率和雾度设计合理，增亮膜的透光性好。
其中，所述棱镜3的顶部表面为粗糙表面，其余表面的粗糙度小于14μm。棱镜3的顶部表面为粗糙表面,能够有效提高增亮膜的抗划伤性能，延长使用寿命，其余表面的粗糙度小于14μm，表面平整度高，增亮膜的光学增益效果好。
上述实施例为本技术较佳的实现方案，除此之外，本技术还可以其它方式实现，在不脱离本技术构思的前提下任何显而易见的替换均在本技术的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗电磁波增亮膜，其特征在于：包括基材层、设于基材层上表面的抗电磁波层以及设于抗电磁波层上表面的聚光结构层，抗电磁波层的内部包含有颗粒大小为纳米级的金属粉体，抗电磁波层的厚度为20‑50μm，所述聚光结构层由多个等距设置的棱镜组成，所述棱镜的横截面为等腰梯形。

【技术特征摘要】
1.一种抗电磁波增亮膜，其特征在于：包括基材层、设于基材层上表面的抗电磁波层以及设于抗电磁波层上表面的聚光结构层，抗电磁波层的内部包含有颗粒大小为纳米级的金属粉体，抗电磁波层的厚度为20-50μm，所述聚光结构层由多个等距设置的棱镜组成，所述棱镜的横截面为等腰梯形。
2.根据权利要求1所述的一种抗电磁波增亮膜，其特征在于：两相邻棱镜的中线之间的距离等于棱镜的最底部宽度。
3.根据权利要求1所述的一种抗电磁波增亮膜，其特征在于：所述等腰梯形的上顶角的角度为110-140°，等腰梯形的底宽为15-30μm，高为12-20μm，顶宽为2-4μm。
4.根据权利要求1所述的一种抗电磁波增亮膜，其特征在于：所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文峰，
申请(专利权)人：东莞市纳利光学材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44