电流传感器制造技术

技术编号:13876938 阅读:111 留言:0更新日期:2016-10-22 13:43
本发明专利技术提供一种电流传感器,能防止由于一体成型的加工时出现的导体的露出部分使得用于实现磁传感器与导体的电绝缘的距离变短。通过将绝缘材料和导体(1)一体成型来作成第1壳体构件(21),通过将绝缘材料和该第1壳体构件(21)一起一体成型来作成第2壳体构件(22)。虽然在第1壳体构件(21)存在由于在一体成型的加工时固定导体(1)的位置而出现的导体(1)的露出部分,但该露出部分被第2壳体构件(22)覆盖。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用磁传感器检测电流的电流传感器,特别涉及将对搭载磁传感器的基板进行固定的树脂等的壳体和流过被检测电流的导体一体成型的电流传感器。
技术介绍
在下述的专利文献1中,记载了将流过被检测电流的导体和壳体一体化的电流传感器。在该电流传感器中,将流过被检测电流的U字型形状的一次导体和具有开口面的树脂制的壳体一体化,将配置电流探测器件的传感器基板固定在壳体的内部。通过这样的结构,在传感器基板与一次导体间确保了用于电绝缘的距离(爬电距离、空间距离),能得到耐电压变高这样的效果。现有技术文献专利文献专利文献1:JP特开2009-168790号公报在使用模具将树脂和金属构件一体成型的情况下,虽然会将熔融的树脂在高压下填充到模具内,但为了将金属构件固定在模具内部的所期望的位置使得金属构件不会因树脂而移动,因此需要使金属构件的表面的一部分与模具接触。在金属构件的表面,模具所接触的位置不存在树脂,露出到外侧。为此,在上述专利文献1所记载的电流传感器中,在使用模具将树脂与一次导体一体成型的情况下,也存在一次导体的露出部分。若存在这样的露出部分,则变得难以在传感器与导体间确保用于电绝缘的距离。
技术实现思路
本专利技术鉴于这种状况而提出,其目的在于,提供一种电流传感器,其具有将对搭载了磁传感器的基板进行固定的绝缘材料的壳体和流过被检测电流的导体一体成型的结构,并且能防止由于在一体成型的加工时出现的导体的露出部分而使得用于实现磁传感器与导体的电绝缘的距离变短。本专利技术的第1观点所涉及的电流传感器具备:导体,其流过被检测电流;壳体,其包含将绝缘材料和所述导体一体成型的第1壳体构件、以及将绝缘材料和所述第1壳体构件一体成型的第2壳体构件;基板,其固定于所述壳体;和磁传感器,其位于所述壳体内,且安装于所述基板。所述第1壳体构件具有由于在所述一体成型的加工时固定所述导体的位置而出现的所述导体的露出部分,所述第2壳体构件覆盖所述第1壳体构件中的所述露出部分。根据上述的构成,由于伴随所述第1壳体构件的一体成型加工而出现的所述导体的露出部分被所述第2壳体构件覆盖,因此该露出部分不易给绝缘性带来影响,容易确保用于实现所述磁传感器与所述导体的电绝缘的距离(爬电距离、空间距离)。优选地,可以所述导体具有露出到所述壳体的外侧的2个端部。可以所述壳体覆盖所述导体的被所述2个端部所夹的中间部分的整体。由此容易确保用于实现与所述导体的电绝缘的距离。优选地,可以上述电流传感器具有磁场控制构件,该磁场控制构件由强磁性体构成,控制在所述磁传感器检测到的所述被检测电流的磁场。可以所述第1壳体构件是将绝缘材料和所述导体以及所述磁场控制构件一体成型的构件。另外,可以所述第1壳体构件还具有由于在所述一体成型的加工时固定所述磁场控制构件的位置而出现的所述磁场控制构件的露出部分。可以所述第2壳体构件覆盖所述第1壳体构件中的所述磁场控制构件的所述露出部分。根据上述的构成,由于伴随所述第1壳体构件的一体成型加工而出现的所述磁场控制构件的露出部分被所述第2壳体构件覆盖,因此该露出部分不易给绝缘性带来影响,容易确保用于实现所述磁传感器与所述磁场控制构件的电绝缘的距离,并且容易确保用于实现所述导体与所述磁场控制构件的电绝缘的距离。优选地,可以所述磁场控制构件具有露出到所述壳体的外侧的2个端部。可以所述壳体覆盖所述磁场控制构件的被所述2个端部所夹的中间部分的整体。由此,由于减低了加在所述磁场控制构件的应力,因此不易出现电流检测特性的偏差。优选地,可以所述磁场控制构件的所述2个端部位于相比于所述磁场控制构件的其他部分更远离所述导体的所述2个端部的每一个端部的位置。例如可以所述导体以及所述磁场控制构件被配置成分别在所述2个端部间弯曲成U字状,该U字形状的凹陷部分相邻,该U字形状的凹陷方向成为相反方向。由此,所述导体与所述磁场控制构件的绝缘性变高。即使在接近于所述导体和所述磁传感器设置所述磁场控制构件的情况下,也在所述导体与所述磁传感器间确保高的绝缘。优选地,可以所述第1壳体构件和所述第2壳体构件使用同一绝缘材料形成。由此,所述第1壳体构件和所述第2壳体构件容易一体化,不易出现两者的剥离或摇晃。优选地,可以所述第2壳体构件在相互正交的给定的3个方向的每一个方向上从两侧夹持所述第1壳体构件。由此,所述第2壳体构件以及所述基板相对于所述第1壳体构件的配置的精度变高。本专利技术的第2观点所涉及的电流传感器具备:导体,其流过被检测电流;磁传感器;磁场控制构件,其由强磁性体构成,控制在所述磁传感器中检测到的所述被检测电流的磁场;壳体,其将绝缘材料和所述导体以及所述磁场控制构件一体成型;和基板,其安装所述磁传感器,且固定于所述壳体。所述壳体具有由于在所述一体成型的加工时固定所述导体以及所述磁场控制构件的位置而出现的所述导体以及所述磁场控制构件的露出部分,具有绝缘性的灌封件堵塞该露出部分。根据上述的构成,由于伴随所述壳体的一体成型加工而出现的所述导体以及所述磁场控制构件的露出部分被灌封件覆盖,因此这些露出部分不易给绝缘性带来影响,容易确保用于实现所述磁传感器与所述导体的电绝缘的距离(爬电距离、空间距离)。专利技术的效果根据本专利技术,因为由于在一体成型的加工时固定导体的位置而出现的导体的露出部分被绝缘材料覆盖,因而能防止由于该露出部分使得用于实现磁传感器与导体的电绝缘的距离变短。附图说明图1是表示第1实施方式所涉及的电流传感器的一例的图。图1A表示整体的外观,图1B表示分解图。图2是表示在图1所示的电流传感器中一体成型的部分的构成的图。图2A表示一体成型的部分的外观,图2B表示除去第2壳体构件的内部的结构,图2C表示进一步除去第1壳体构件的内部的结构。图3是从上表面侧观察图2所示的一体成型的部分的图。图3A表示从正面右上观察一体成型的部分的外观,图3B表示除去第2壳体构件的内部的结构,图3C表示进一步除去第1壳体构件的内部的结构。图4是从底面侧观察图2所示的一体成型的部分的图。图4A表示从正面左下观察一体成型的部分的外观,图4B表示除去第2壳体构件的内部的结构,图4C表示进一步除去第1壳体构件的内部的结构。图5是表示第2实施方式所涉及的电流传感器的一例的图。图5A表示整体的外观,图5B表示分解图。图6是从上表面侧观察在图5所示的电流传感器中一体成型的部分的图。图6A表示从正面右上观察一体成型的部分的外观,图6B表示除去壳体的内部的结构。图7是从底面侧观察在图5所示的电流传感器中一体成型的部分的图。图7A表示从正面左下观察一体成型的部分的外观,图7B表示除去壳体的内部的结构。图8表示在图6所示的一体成型的部分的外观中除去灌封件的状态。图9表示在图7所示的一体成型的部分的外观中除去灌封件的状态。标号的说明1、6 流过被检测电流的导体11、12、61、62 导体的端部2、7 壳体21 第1壳体构件22 第2壳体构件3、8 基板5、9 磁场控制构件51、52、91、92 磁场控制构件的端部U1 磁传感器U1PT1~PT8 灌封件具体实施方式<第1实施方式>以下参考图1~图4来说明本专利技术的第1实施方式所涉及的电流传感器。图1是表示第1实施方式所涉及的电流传感器的一例的图。图1A表示整体的外观,图1B表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电流传感器,其特征在于,具备:导体,其流过被检测电流;壳体,其包含将绝缘材料和所述导体一体成型的第1壳体构件、以及将绝缘材料和所述第1壳体构件一体成型的第2壳体构件;基板,其固定于所述壳体;和磁传感器,其位于所述壳体内且安装于所述基板,所述第1壳体构件具有由于在所述一体成型的加工时固定所述导体的位置而出现的所述导体的露出部分,所述第2壳体构件覆盖所述第1壳体构件中的所述露出部分。

【技术特征摘要】
2015.02.03 JP 2015-0194061.一种电流传感器,其特征在于,具备:导体,其流过被检测电流;壳体,其包含将绝缘材料和所述导体一体成型的第1壳体构件、以及将绝缘材料和所述第1壳体构件一体成型的第2壳体构件;基板,其固定于所述壳体;和磁传感器,其位于所述壳体内且安装于所述基板,所述第1壳体构件具有由于在所述一体成型的加工时固定所述导体的位置而出现的所述导体的露出部分,所述第2壳体构件覆盖所述第1壳体构件中的所述露出部分。2.根据权利要求1所述的电流传感器,其特征在于,所述导体具有露出到所述壳体的外侧的2个端部,所述壳体覆盖所述导体的被所述2个端部所夹的中间部分的整体。3.根据权利要求1或2所述的电流传感器,其特征在于,所述电流传感器具有磁场控制构件,该磁场控制构件由强磁性体构成,控制在所述磁传感器检测到的所述被检测电流的磁场,所述第1壳体构件是将绝缘材料和所述导体以及所述磁场控制构件一体成型的构件,还具有由于在所述一体成型的加工时固定所述磁场控制构件的位置而出现的所述磁场控制构件的露出部分,所述第2壳体构件覆盖所述第1壳体构件中的所述磁场控制构件的所述露出部分。4.根据权利要求3所述的电流传感器,其特征在于,所述磁场控制构件具有露出到所述壳体的外侧...

【专利技术属性】
技术研发人员:小梁川博道
申请(专利权)人:阿尔卑斯绿色器件株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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