曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，该模块作动监控方法包括下列步骤。提供一对准光源装置。对准光源装置包括至少一模块。通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。判断此绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生一异常信号。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体制作工艺机台模块作动的监控方法及监控系统，且特别是涉及一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统。
技术介绍
在光刻制作工艺时，晶片上图案的形成是需要依靠稳定且均匀的曝光，而曝光前精准的对准系统对图案的形成有着绝对的影响。由于曝光机台内的对准光源系统在长期使用后，传动装置会产生异常(如，齿轮的磨损或累积尘屑)，而使得对准光源系统中的模块在工作时无法处于正确的位置，而直接影响对准光源的光量。如此一来，会降低对准操作的可靠度，进而导致产品良率的损失。因此，如何即时察觉曝光机台内的对准系统中模块的位置偏移是一个重要的课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移。为达上述目的，本专利技术提出一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括下列步骤。提供对准光源装置。对准光源装置包括至少一个模块。通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。判断此绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生异常信号。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，非接触式位置量测法包括光学式位置量测法或磁力式位置量测法。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，光学式位置量测法包括光遮断式量测法。光遮断式量测法
包括下列步骤。利用光产生器发射光线，而光线预定通过模块的定位孔。通过光接收器接收光线，且根据光线的光量变化来计算出绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，光学式位置量测法包括光反射式量测法。光反射式量测法包括下列步骤。将光刻度构件连接至模块，且光刻度构件与模块连动。通过光学编码器发射光线至光刻度构件，并通过光学编码器接收由光刻度构件所反射的带有位置信息的光线。通过光学编码器解读光线中的位置信息而计算出绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，上述磁力式位置量测法包括下列步骤。将磁力构件连接至模块，且磁力构件与模块连动。通过磁力编码器感测磁力构件的运动而计算出绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，还包括将异常信号传送到对准光源装置，使对准光源装置停止运作。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，还包括将异常信号传送到警示装置，使警示装置发出警示信号。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，模块包括至少一个中性密度滤光器(neutral density filter，NDF)模块。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，当上述绝对偏移值在容许范围内时，使对准光源装置继续运作。本专利技术提出一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，可用以监控对准光源装置内的至少一个模块，且包括非接触式位置量测装置以及监控装置。非接触式位置量测装置用以量测模块的绝对偏移值。监控装置耦接至非接触式位置量测装置，且判断绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测
的绝对偏移值超过容许范围时，产生异常信号。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，非接触式位置量测装置包括光学式位置量测装置或磁力式位置量测装置。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，光学式位置量测装置包括光遮断式位置量测装置。光遮断式位置量测装置包括光产生器、光接收器以及光信息处理器。光产生器发射光线，上述光线预定通过所述模块的定位孔。光接收器接收上述光线。光信息处理器计算光接收器所接收到的光线的光量变化而获得绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，光学式位置量测装置包括光反射式位置量测装置。光反射式位置量测装置包括光刻度构件以及光学编码器。光刻度构件连接至模块，且光刻度构件与模块连动。光学编码器发射光线至光刻度构件，接收由光刻度构件所反射的带有位置信息的光线，且通过解读光线中的位置信息而计算出绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，磁力式位置量测装置包括磁力构件以及磁力编码器。其中，磁力构件连接至模块，且磁力构件与模块连动。磁力编码器感测磁力构件的运动而计算出绝对偏移值。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，还包括将异常信号传送到对准光源装置，使对准光源装置停止运作。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，还包括警示装置，耦接至监控装置。监控装置可将异常信号传送到警示装置，使警示装置发出警示信号。在本专利技术的一实施例中，上述警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。在本专利技术的一实施例中，上述模块包括至少一个中性密度滤光器模块。在本专利技术的一实施例中，当绝对偏移值在容许范围内时，使对准光源装置继续运作。基于上述，在本专利技术的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及
监控系统中，由于可通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值，所以可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移，以提高对准操作的可靠度，进而提升产品的良率。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。附图说明图1为本专利技术一实施例的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控流程图；图2为本专利技术一实施例的曝光机台对准光源装置的示意图；图3为曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统的示意图；图4A为本专利技术一实施例中利用光遮断式位置量测装置监控对准光源装置的示意图；图4B、4C为图4A中的光线与定位孔的位置关系的示意图；图5为本专利技术一实施例中利用光反射式位置量测装置监控对准光源装置的示意图；图6为本专利技术一实施例中利用磁力式位置量测装置监控对准光源装置的示意图。符号说明200：对准光源装置210、220：滤光器模块230：光源212、222：滤镜214、224：转盘216、226：驱动装置2160：马达装置2162：转动轴2164、2166：齿轮2168：连接构件218：定位孔300：监控系统310：非接触式位置量测装置320：监控装置330：警示装置400：光遮断式位置量测装置410：光产生器420：光接收器430：光信息处理器500：光反射式位置量测装置510：光刻度构件520：光学编码器600：磁力式位置量测装置610：磁力构件620：磁力编码器L1、L2、L3：光线S100～S112：步骤具体实施方式图1是本专利技术一实施例的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控流程图。请参考图1，首先，进行步骤S100，提供对准光源装置，且对准光源装置包括至少一个模块。对准光源装置例如是曝光机台中的对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括：提供一对准光源装置，其中该对准光源装置包括至少一模块；通过一非接触式位置量测法量测该至少一模块的一绝对偏移值；以及判断该绝对偏移值是否超过一容许范围，当该绝对偏移值超过该容许范围时，产生一异常信号。

【技术特征摘要】
2014.12.30 TW 1031462601.一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括：提供一对准光源装置，其中该对准光源装置包括至少一模块；通过一非接触式位置量测法量测该至少一模块的一绝对偏移值；以及判断该绝对偏移值是否超过一容许范围，当该绝对偏移值超过该容许范围时，产生一异常信号。2.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该非接触式位置量测法包括一光学式位置量测法或一磁力式位置量测法。3.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该光学式位置量测法包括一光遮断式量测法，该光遮断式量测法包括：利用一光产生器发射一光线，该光线预定通过该至少一模块的一定位孔；以及通过一光接收器所接收到的该光线的光量变化而计算出该绝对偏移值。4.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该光学式位置量测法包括一光反射式量测法，该光反射式量测法包括：将一光刻度构件连接至该至少一模块，且该光刻度构件与该至少一模块连动；通过一光学编码器发射一光线至该光刻度构件；通过该光学编码器接收由该光刻度构件所反射的带有一位置信息的该光线；以及通过该光学编码器解读该光线中的该位置信息而计算出该绝对偏移值。5.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该磁力式位置量测法包括：将一磁力构件连接至该至少一模块，且该磁力构件与该至少一模块连动；以及通过一磁力编码器感测该磁力构件的运动而计算出该绝对偏移值。6.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，还包括：将该异常信号传送到该对准光源装置，使该对准光源装置停止运作。7.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，还包括：将该异常信号传送到一警示装置，使该警示装置发出警示信号。8.如权利要求7所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。9.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该至少一模块包括至少一中性密度滤光器模块。10.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中当该绝对偏移值在该容许范围内时，使该对准光源装置继续运作。11.一种曝光机台对...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨咏智，李启志，郑毅，
申请(专利权)人：力晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71