阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，所述阵列基板包括：第一基板、位于所述第一基板上表面的多个像素定义结构，其中，至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽以及位于所述凹槽内的支撑结构，从而在包括该阵列基板的显示面板上表面对应所述支撑结构的位置受到外界压力时，所述支撑结构产生的作用力主要位于所述凹槽内，使得所述支撑结构对应位置的阴极层即使发生损坏也是位于对应所述凹槽的位置，而不会延伸到所述支撑结构两侧的发光层区，解决了由于所述显示面板上表面受到压力而导致部分发光层不发光的问题，提高了显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法以及一种包括该阵列基板的显示面板和包括该显示面板的显示装置。
技术介绍
如图1所示，现有技术中的OLED显示面板在制作时，通常先在第一基板01上表面形成像素定义结构02，然后在像素定义结构02上表面形成支撑结构03，最后再蒸镀发光层(图中未示出)和阴极层04，从而导致所述OLED显示面板制作完成后，所述支撑结构03对应的位置受到外界压力F作用时，所述支撑结构03会发生挤压变形，进而对所述支撑结构03上表面的阴极层04产生斜向上的作用力F’，使得所述阴极层04发生损坏，导致部分发光层不发光，影响显示效果。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种OLED阵列基板及其制作方法，以及包括该阵列基板的显示面板和显示装置，以解决所述显示面板上表面受到压力时，导致部分发光层不发光的问题，提高显示效果。为解决上述问题，本专利技术实施例提供了如下技术方案：一种OLED阵列基板，包括：第一基板；位于所述第一基板上表面的多个像素定义结构，所述多个像素定义结构将所述第一基板上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域，且至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽；位于所述像素定义结构上表面凹槽内的支撑结构，所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面；位于所述子像素区域内的阳极和发光层；覆盖所述发光层和所述支撑结构上表面的阴极层。一种显示面板，包括上述OLED阵列基板。一种显示装置，包括上述显示面板。一种OLED阵列基板的制作方法，该方法包括：提供第一基板；在所述第一基板上表面形成多个阳极；在所述第一基板上表面形成多个像素定义结构和支撑结构，至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽，所述支撑结构位于所述像素定义结构上表面凹槽内，且所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面，其中，所述多个像素定义结构将所述第一基板上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域；在所述子像素区域内形成发光层；在所述发光层和所述支撑结构上表面形成阴极层，所述阴极层完全覆盖所述发光层、所述支撑结构和所述像素定义结构。与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：本专利技术实施例所提供的阵列基板，包括：第一基板、位于所述第一基板上表面的多个像素定义结构，其中，至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽以及位于所述凹槽内的支撑结构，从而在包括该阵列基板的显示面板上表面对应所述支撑结构的位置受到外界压力时，所述支撑结构产生的作用力
主要位于所述凹槽内，使得所述支撑结构对应位置的阴极层即使发生损坏也是位于对应所述凹槽的位置，而不会延伸到所述支撑结构两侧的发光层区，解决了由于所述显示面板上表面受到压力而导致部分发光层不发光的问题，提高了显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术一个实施例所提供的阵列基板的结构示意图；图3为本专利技术另一个实施例所提供的阵列基板的结构示意图；图4为本专利技术一个实施例所提供的显示面板的结构示意图；图5为本专利技术一个实施例所提供的阵列基板的制作方法流程图；图6(a)和图6(b)为本专利技术一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图；图7(a)-图7(c)为本专利技术另一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图；图8(a)-图8(d)为本专利技术又一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图；图9(a)和图9(b)为本专利技术再一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图；图10(a)-图10(d)为本专利技术又一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图；图11(a)-图11(g)为本专利技术再一个实施例所提供的阵列基板的制作方法中步骤3的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是本专利技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。本专利技术实施例提供了一种OLED阵列基板，如图2所示，所述阵列基板包括：第一基板10；位于所述第一基板10上表面的多个像素定义结构20，所述多个像素定义结构20将所述第一基板10上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域，且所述多个像素定义结构20中至少一个所述像素定义结构20的上表面具有凹槽；位于所述像素定义结构20上表面凹槽内的支撑结构30，所述支撑结构30的上表面高于所述像素定义结构20的上表面；位于所述子像素区域内的阳极和发光层；覆盖所述发光层和所述支撑结构30上表面的阴极层40。需要说明的是，在本专利技术实施例中，所述支撑结构30的上表面高于所述像素定义结构20的上表面，以实现所述支撑结构30的支撑作用，所述支撑结构30位于所述像素定义结构20的凹槽内，以在所述阵列基板对应所述支撑结构30的位置受到外界压力而发生弯曲时，所述支撑结构30产生的作用力主要位于所述凹槽内，使得所述支撑结构30对应位置的阴极层40即使发生损坏也是位于对应所述凹槽的位置，而不会延伸到所述支撑结构30两侧的发光层区，解决了由于所述显示面板上表面受到压力而导致部分发光层不发光的问题，提高了显示效果。需要说明的是，在本专利技术实施例中，所述多个像素定义结构20中可以每个像素定义结构20上表面都具有凹槽，也可以部分像素定义结构20上表面具有凹槽，部分像素定义结构20上表面没有凹槽，本专利技术对此并不做限定，具体视情况而定。在上述实施例的基础上，如图3所示，在本专利技术的一个可选实施例中，位于所述凹槽任一侧的所述像素定义结构20的上表面的宽度A不小于1微米。需要说明的是，在本专利技术的其他实施例中，位于所述凹槽任一侧的所述像素定义结构20的上表面的宽度A还可以为其他数值，本专利技术对此并不做限定，只要位于所述凹槽任一侧的所述像素定义结构20的上表面的宽度A大于零，以保证当所述支撑结构30对应的位置受到压力时，所述支撑结构30对所述像素定义结构20的作用力不会使得所述像素定义结构20上表面的凹槽深度减小过多而对位于所述支撑结构30上表面的阴极层40造成损坏即可。此外，仍然参照图3所示实施例，所述凹槽的深度D不小于所述像素定义结构20上表面至下表面之间距离H的1/10，包括端点值，以在所述支撑结构30对应的位置受到外界压力而发生变形时，使得所述支撑结构30对周围产生的作用力位于所述凹槽内，保证所述支撑结构30对应位置的阴极层40即使发生损坏也是位于对应所述凹槽的位置，而不会延伸到所述支撑结构30
两侧的发光层区，解决了由于所述显示面板上表面受到压力而导致部分发光层不发光的问题，提高了显示效果。可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED阵列基板，其特征在于，包括：第一基板；位于所述第一基板上表面的多个像素定义结构，所述多个像素定义结构将所述第一基板上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域，且至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽；位于所述像素定义结构上表面凹槽内的支撑结构，所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面；位于所述子像素区域内的阳极和发光层；覆盖所述发光层和所述支撑结构上表面的阴极层。

【技术特征摘要】
1.一种OLED阵列基板，其特征在于，包括：第一基板；位于所述第一基板上表面的多个像素定义结构，所述多个像素定义结构将所述第一基板上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域，且至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽；位于所述像素定义结构上表面凹槽内的支撑结构，所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面；位于所述子像素区域内的阳极和发光层；覆盖所述发光层和所述支撑结构上表面的阴极层。2.根据权利要求1所述的OLED阵列基板，其特征在于，位于所述凹槽任一侧的所述像素定义结构的上表面宽度不小于1μm。3.根据权利要求1所述的OLED阵列基板，其特征在于，所述凹槽的深度为所述像素定义结构上表面至下表面之间距离的1/10-1/5，包括端点值。4.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求1-3任一项所述的OLED阵列基板。5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4所述的显示面板。6.一种OLED阵列基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：提供第一基板；在所述第一基板上表面形成多个阳极；在所述第一基板上表面形成多个像素定义结构和支撑结构，至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽，所述支撑结构位于所述像素定义结构上表面凹槽内，且所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面，其中，所述多个像素定义结构将所述第一基板上表面对应显示区的位置划分成多个子像素区域；在所述子像素区域内形成发光层；在所述发光层和所述支撑结构上表面形成阴极层，所述阴极层完全覆盖所述发光层、所述支撑结构和所述像素定义结构。7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一基板上表面形成多个像素定义结构和支撑结构，至少一个所述像素定义结构上表面具有凹槽，所述支撑结构位于所述像素定义结构上表面凹槽内，且所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面包括：在所述第一基板上表面形成光阻层，所述光阻层上表面具有第一预设区域、第二预设区域和第三预设区域；对所述第一预设区域、第二预设区域和第三区域采用不同曝光量进行曝光、显影，在所述第一基板上表面对应所述第一预设区域的位置形成开口区，用于形成后续的发光层，同时在所述第一基板上表面对应所述第二预设区域的位置形成多个像素定义结构，在所述第一基板上表面对应所述第三预设区域的位置形成支撑结构，其中，所述像素定义结构上表面具有凹槽，所述支撑结构位于所述像素定义结构上表面凹槽内，且所述支撑结构的上表面高于所述像素定义结构的上表面；其中，所述第一预设区域对应的曝光量大于所述第二预设区域对应的曝光量，所述第三预设区域对应的曝光量大于所述第二预设区域对应的曝光量且小于所述第一预设区域对应的曝光量。8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永志，尹招弟，熊志勇，朱见杰，蒋卡恩，
申请(专利权)人：上海天马有机发光显示技术有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31